中国光刻机“”弯道超车”

中国光刻机“”弯道超车” 真正的SSMB-EUV光源方案 加速器周长100~150米，输出EUV功率>1KW 美国的极限制裁极大的加速了中国EUV光刻机的研发速度。 中国目前采取的是一种全新的“技术路线方案” 目前中国有三条光刻机研发路线。 1.国外正统路线，也就是ASML的EUV光刻机路线。HW+上海光机所+宇量升，国家队，走500W LPP光源+复杂镜头组的技术路线。现在进度最快，技术复杂度相对最高，特别是超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器技术难度非常高。进度保密 2.改进型路线。广东智能机器研究院(广智院)+华中科技大，他们在尝试一种采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。如果他们那个400路光纤激光器能够成功，将是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的数倍。何时成功还是未知。 3.颠覆式全新路线。清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施同步辐射光源。直接把光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。比如：深圳产业光源系统规划了EUV光刻线站和EUV检测线站等合计四条光束线，六个实验站。 第三条。颠覆性技术路线如果全面成功，可以秒杀上面两条路线。光源外置、极大简化的光路直接把EUV光刻机变成体积大，但是成本相对较低的批量产品。且更匹配中国极高的基础设施建设能力！！！

中国28nm国产光刻机有望年底交付

中国28nm国产光刻机有望年底交付 据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。 光刻机是决定半导体生产工艺水平高低的核心技术，包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件，极为复杂精密。 事实上，光刻机是一个泛概念，包括三种不同类型：为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。 前道光刻机就是我们最常说的光刻机，主要用于晶圆制造，可分为DUV、EUV两大类，目前由荷兰阿斯麦(ASML)占绝对垄断地位，日本的尼康、佳能也有很强的实力。

中国从荷兰进口光刻机金额同比暴涨1000%

中国从荷兰进口光刻机金额同比暴涨1000% 外媒报道显示，中国大陆于2023年12月从荷兰进口的光刻设备金额高达11亿美元，同比增长近1000%，环比增长也高达44.2%。根据之前的数据显示，中国大陆于2023年11月进口了42台光刻设备，总价值高达8.168亿美元。其中，有16台光刻机是来自荷兰的ASML，总价值7.627亿美元，同比增长了1050%。2023年10月中国大陆从荷兰进口的光刻机数量更是高达21台，总价值为6.725亿美元，相比比11月进口的16台光刻机的总价值还要低。显然，如果从均价来看，11月中国从荷兰进口的光刻机均价要比10月进口的光刻机高出46%。整体来看，在2023年四季度，中国大陆从荷兰ASML进口的光刻机总额达到了25.352亿美元。根据业界的分析，近几个月来，中国大陆从荷兰ASML进口的光刻机数量和进口额的激增，可能是ASML赶在其许可证在2023年12月31日失效前匆忙出货的结果。2023年9月1日，荷兰政府此前于6月底颁布的有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例正式生效。这些新的出口管制条例主要针对的对象为先进的芯片制造技术，包括先进的沉积设备和浸没式光刻系统。当时ASML发言人就表示，尽管荷兰出口限制从9月开始生效，但该公司现有的许可证仍能够允许其在2023年底前继续将NXT:2000i 和更先进的DUV光刻机运送到中国。“我们的客户了解出口管制法规，因此他们知道，自2024年1月1日起，我们不太可能获得向中国国内客户运送这些系统的出口许可证。”Stiftung Neue Verantwortung科技与地缘政治经理Jan-Peter Kleinhans表示，ASML近几个月出货到中国大陆的设备，多数在2022年底或2023年初就已取得了许可。他说，ASML在2023年中的前置时间大约18个月，意味着2023年第四季出货的设备，应该是在2022年Q2或Q3就已下了订单。值得注意的当地时间2024年1月1日，光刻机大厂ASML发布声明称，荷兰政府最近已经部分吊销了2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的许可证，影响到了少数中国客户。也就是说，ASML的部分对中国客户的出口许可证在2023年12月31日到期之前，就已经被荷兰政府吊销了。不过，随后ASML官方对外表示，中国大陆客户预付购买DUV光刻机所积压订单基本都已完成交付。 ... PC版： 手机版：