日耗电3万度 EUV光刻机要关机省电？台积电回应

日耗电3万度EUV光刻机要关机省电？台积电回应此前有消息称由于先进工艺产能过剩，台积电计划今年底将部分EUV光刻机关机，以便节省电费支出，台积电日前也回应了，表示不评论市场传闻。台积电称，本公司针对机台设备皆有年度规划，并依循计划，在不影响正常营运的前提下，进行例行维护与升级。上周来自产业链的消息人士手机晶片达人的消息称，由于先进制程产能利用率开始下滑，而且评估之后下滑时间会持续一段周期，台积电计划从年底开始，将部分EUV设备关机，以节省EUV设备巨大的耗电支出。据了解台积电目前拥有大约80台EUV光刻机，主要用于7nm、5nm及以下的先进工艺，今年9月份还会量产3nm工艺，都需要EUV光刻机，然而随着PC、手机、显卡等产品的需求下滑，先进工艺生产的芯片势必会受到影响。相比之前的DUV光刻机，EUV光刻机需要使用高能激光器，而且光线会多次折射导致损耗极大，早期效率只有0.02%，现在量产的说是可以达到2%效率，但也意味着绝大多数电力都要消耗掉。EUV光刻机生产一天需要3万度电左右，一年耗电大约1000万度，是十足的电老虎。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1313301.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1313301.htm

消息称台积电亚利桑那州工厂已开始安装首台EUV光刻机

消息称台积电亚利桑那州工厂已开始安装首台EUV光刻机  台积电是在2020年的5月15日，宣布在亚利桑那州建设晶圆厂的。计划2021年开始建设，目标是2024年投产，当时是计划建成之后采用5nm制程工艺为相关的客户代工晶圆，月产能20000片晶圆，预计2021年-2029年投资120亿美元。而在去年的12月6日，台积电宣布亚利桑那州工厂将升级到4nm制程工艺，并开始建设第二座晶圆厂，建成之后采用3nm制程工艺为相关的客户代工晶圆，两座晶圆厂的投资将接近400亿美元。就动工的时间来看，已开始安装首台EUV光刻机的，是台积电在亚利桑那州的首座工厂，也就是2020年5月份宣布建设的那一座晶圆厂。EUV光刻机是5nm、4nm、3nm等先进制程工艺必不可少的设备，对晶圆代工至关重要，当前仅阿斯麦能制造，台积电也已从阿斯麦采购了大量的EUV光刻机，未来还需要大量采购，用于3nm、2nm等制程工艺的代工。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1378657.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1378657.htm

EUV光刻机日耗电3万度 台积电为电费上涨发愁

EUV光刻机日耗电3万度台积电为电费上涨发愁让台积电发愁的不只是客户需求减少，同时还有成本增加，从4月份开始还多了一个负担，那就是电费涨价了，电力公司台电将涨价17%。仅仅是这一点，就会对台积电的盈利造成很大影响，该公司预估Q2季度毛利率将会下滑，影响0.6个百分点，全年毛利率将影响0.5个百分点。台积电去年营收758亿美元，按照这个基数来算，今年仅电费就要额外多花3.8亿美元，约合人民币26亿元。当然，相比台积电50%+的毛利率，这点成本其实并不算夸张，只是台积电不想接受涨价罢了。半导体制造行业是一个高耗电及高耗水的产业，一个重要原因就是光刻机，新一代的EUV光刻机更是夸张，功率达到了100万瓦，是上一代的10倍左右，每天耗电3万度，而台积电去年就差不多80台EUV光刻机了，耗电量可想而知。据统计，台积电2021年耗电量总计191.9亿度，占全岛用电量的7.2%，未来随着3nm、2nm工艺的量产，耗电量还会继续提升，因为新一代EUV光刻机使用越来越多，一座工厂一年就可能上百亿度电了，远高于现在规模。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1356027.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1356027.htm

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺必备 售价直逼30亿

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺必备售价直逼30亿根据ASML公司高管日前透露的消息，NA=0.55的EUV光刻机今年底会出货首个商用原型，2025年会正式量产。他没有公布具体哪家公司会首发NA=0.55光刻机，但之前英特尔公司表示他们会率先使用下代EUV光刻机，已经巨资提前下单。按照2025年出货的时间点来看，台积电、英特尔、三星的2nm级别工艺是赶不上的，最快也要到1.4nm工艺才能用上NA=0.55光刻机，未来生产1nm工艺则是不可少的设备。伴随技术提升的还有售价，由于更加复杂、精密，NA=0.55的EUV光刻机价格大幅上涨，具体多少不确定，此前消息称不低于4亿美元，人民币接近30亿元了，是现在的2-3倍。这还不排除未来正式商用的时候价格进一步上涨，毕竟还要好几年才能上市。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1365835.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1365835.htm

传台积电A16 1.6nm制程不会采用High-NA EUV光刻机

传台积电A161.6nm制程不会采用High-NAEUV光刻机访问：NordVPN立减75%+外加3个月时长另有NordPass密码管理器据台湾业界消息，台积电并没有为A16制程准备High-NA（高数值孔径）EUV光刻机，而是准备采用现有EUV光刻机生产。相比之下，英特尔、三星都将在这一节点使用最新的High-NAEUV光刻机。关于背面供电技术，英特尔原本计划在20A（2nm）制程导入，称其为“PowerVia”，但后来决定推迟至14A制程采用。三星同样开发了类似的背面供电技术BSPDN，根据早些时候消息，三星代工部门首席技术官JungKi-tae曾宣布将于2027年将背面供电技术用于1.4nm制程。目前英特尔已经收到了ASML首台High-NAEUV光刻机，并完成组装。业界认为，台积电选择在这时推出A16制程，给英特尔与三星带来了竞争压力。虽然英特尔在High-NAEUV设备上抢先一步，但能否赶上台积电的商业化进度还有待观察。台积电决定在A16制程沿用常规EUV光刻机，也展现了其技术实力，可以在不采用最新设备的情况下，将现有EUV设备的分辨率推进到1.3nm以下。事实上，去年台积电就成功通过调整光刻胶材料、光掩模制程等方式，在提升先进制程的临界尺寸与图形精度的同时，还降低了缺陷密度。台湾分析师表示，台积电、英特尔、三星之间的竞争将进一步刺激对EUV光刻机的需求，尤其是独家供应商ASML。考虑到High-NAEUV设备产能有限，如何在三大晶圆代工巨头之间分配，势必成为一大挑战。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1431296.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1431296.htm

EUV光刻机有多耗电？台积电、三星等快用不起

EUV光刻机有多耗电？台积电、三星等快用不起据彭博社报道，ASML新一代EUV每台耗电约1百万瓦，三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大；台积电对化石燃料高度依赖，2025年耗能估占中国台湾省的12.5%。世界仅此一家的EUV公司ASML，旗下新一代的EUV光刻机耗资高达1.5亿美元，包含10万个部件和长达2公里的布线。EUV光刻机体现着更先进芯片的制造过程正变得复杂和能源密集。ASML当前每台EUV的额定耗电量约为1百万瓦，约为前几代设备的10倍，但由于没有替代品来制造最先进的半导体，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石。台积电为业界拥有最多EUV光刻机的公司，公司目前已有超过80台EUV，新一代设备还在安装中。预计到2025年，仅台积电一家公司就将占全中国台湾省整体能源消耗的12.5%，远高于2020年时的6%。对于芯片制造的能源消耗问题，环保组织绿色和平（Greenpeace）气候能源项目主任郑楚忻曾表示，缺电必然发生，其他行业将受其牵连。比利时微电子研究中心（Imec）Lars-AkeRagnarsson指出，在使用高耗能设备的芯片厂，再生能源变得紧急且必要。韩国芯片制造巨头三星也面临着类似的能源消耗问题。三星在韩国拥有六个半导体制造基地，2021年占其功耗的3%。对于这样的说法，台积电表示，公司持续推进半导体高阶制程技术，生产更先进、更具能源效率及更环保的产品，其还在积极投入绿色制造，落实节能减碳相关作为，包括致力优化制程能源使用效率，同时和机台设备商合作开发新的节能行动方案。按照该公司引述2020年工研院产业科技国际策略发展所（ISTI）模型推导分析结果，称台积电每使用1度生产用电，能为全球减省4度电。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1309219.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1309219.htm