ASML、中芯国际双双“表态” EUV光刻机出货正常

ASML、中芯国际双双“表态”EUV光刻机出货正常https://tech.sina.com.cn/it/2019-11-07/doc-iicezuev7914031.shtmlASML相关负责人强调：“实际上在我们第三季度财报中，就已经将相关情况进行说明，根据瓦圣纳协议（WassenaarArrangement），ASML出口EUV到中国需取得荷兰政府的出口许可（exportlicense）。该出口许可于今年到期，ASML已经于到期前重新进行申请，目前正在等待荷兰政府核准。因此，关于“ASML决定延迟/终止出货”的说法是错误的，ASML系遵循法规行事，并一视同仁地服务我们全球客户。”

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺必备 售价直逼30亿

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺必备售价直逼30亿根据ASML公司高管日前透露的消息，NA=0.55的EUV光刻机今年底会出货首个商用原型，2025年会正式量产。他没有公布具体哪家公司会首发NA=0.55光刻机，但之前英特尔公司表示他们会率先使用下代EUV光刻机，已经巨资提前下单。按照2025年出货的时间点来看，台积电、英特尔、三星的2nm级别工艺是赶不上的，最快也要到1.4nm工艺才能用上NA=0.55光刻机，未来生产1nm工艺则是不可少的设备。伴随技术提升的还有售价，由于更加复杂、精密，NA=0.55的EUV光刻机价格大幅上涨，具体多少不确定，此前消息称不低于4亿美元，人民币接近30亿元了，是现在的2-3倍。这还不排除未来正式商用的时候价格进一步上涨，毕竟还要好几年才能上市。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1365835.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1365835.htm

ASML：所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机 单价翻番到26亿

ASML：所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机单价翻番到26亿ASML（荷兰阿斯麦）正抓紧研制其下一代高NA（0.55数值孔径）的EUV极紫外光刻机，在发布最新财报期间，AMSL透露，其存量EUV客户均订购了新一代设备。具体来说，在Intel和台积电之后，三星、SK海力士、美光等也下单高NAEUV光刻机了。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1329261.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1329261.htm

2nm芯片研发遭遇瓶颈：没ASML下一代NA EUV光刻机搞不掂

2nm芯片研发遭遇瓶颈：没ASML下一代NAEUV光刻机搞不掂在业内，比Intel、台积电、三星还要早就能接触到ASML光刻机新品的是比利时微电子研究中心（IMEC），虽然名气不大，但其实它是世界上最大的半导体专门研究机构。因为离得近，ASML的原型试做机，往往在完工后就第一时间送交IMEC评估尝鲜。日前，IMEC首席执行官LucVandenhove在公开路线图时表示，当前的EUV光刻设备其实可以响应到2nm的微缩水平，不过，想要超越，必须要靠下一代高NAEUV光刻机。他督促ASML在未来3年内，全力投产高NA光刻机。所谓高NA也就是光刻机的透镜和反射镜数值孔径达到0.55，进而增加光刻分辨率，以便制备更精密的为电路图像。当前的EUV光刻机均停留在0.33的水平。一切顺利的话，ASML会在明年推出其首款高NAEUV光刻机，Intel、三星和台积电都争相第一时间部署进厂，其中Intel下手最快。这款光刻机价值高达4亿美元（约合26亿元人民币），组装好的体积有双层巴士大、重超200吨。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1302961.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1302961.htm

ASML正在开发hyper-NA EUV光刻机

ASML正在开发hyper-NAEUV光刻机 他表示，在未来十年内，ASML将构建一个集成低数值孔径、高数值孔径和超数孔径EUV系统的单一平台。这一举措被视为减少工艺步骤数量、降低晶圆加工成本和能源消耗的关键。VandenBrink进一步强调了Hyper-NAEUV工具的重要性，指出它能够简化复杂的双重图案工艺，降低生产难度。他解释说，这种高分辨率工具的可用性对于半导体制造行业至关重要。值得注意的是，高数值孔径EUV（high-NA）光刻技术目前正处于起步阶段。ASML自去年12月开始出货高数值孔径工具，目前仅英特尔一家采用，而台积电则表示短期内不会采用。为了推动该技术的研发和应用，ASML将在几周内正式在费尔德霍芬开设高数值孔径实验室，该实验室将与Imec共同运营，为芯片制造商提供该工具的早期使用权。事实上，该实验室的系统已经投入使用，并成功打印了有史以来第一个10纳米线阵图案。据VandenBrink的最新更新，该系统已经能够产生8nm线阵图案，接近该工具的最大分辨率。这一成果进一步证明了ASML在EUV光刻技术领域的领先地位和持续创新的能力。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1431859.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1431859.htm

由于3nm制程需求低迷 2024年ASML EUV光刻机出货量可能下降30%

由于3nm制程需求低迷2024年ASMLEUV光刻机出货量可能下降30%由于ASML的EUV设备可以让任何芯片制造公司生产出最尖端的产品，因此也颇受争议。由于担心其生产的产品被中国军方用于危害美国国家安全利益，美国政府已禁止向中国供应这些设备。同时，由于ASML是唯一一家生产这种设备的公司，英特尔和台积电等公司经常需要在一个月内大量生产成千上万片硅片，因此这些设备要提前几个月预订。以洞察苹果供应链而闻名的分析师郭明𫓹认为，苹果3纳米iPad和MacBook的需求下降、高通3纳米芯片订单因华为放弃该公司产品而减少、三星晶圆代工的3GAP+产品和英特尔的20A产品需求下降，以及内存制造商未来扩张的更长时间推迟，预计也将导致2024年的出货量预测下降。在ASML的TWINSCANNXE:3400机器内，激光打在锡滴上，在机器光源内产生极紫外（EUV）光。这些机器用于"打印"芯片，单价超过1.2亿美元。图片：ASML台积电和英特尔已经拥有了EUV机器，它们之间的竞争已经延伸到EUV的后继者。这些机器被称为高NAEUV，它们有更宽的透镜，允许更多光线通过。这一点至关重要，因为先进的芯片制造技术（如2纳米和3纳米）由于特征尺寸较小，可能导致印在芯片上的图案模糊不清。在ASML的第二季度财报中，该公司实现营收69亿欧元，净利润19亿欧元。该公司出货了13台EUV机器，从而获得了20亿欧元的收入。该公司管理层还表示，由于芯片行业发展放缓，EUV出货时间有所延迟，ASML现在计划在2023年全年出货52台系统。这一削减也将ASML2023年的EUV收入增长预期降低了近一半，因为该公司现在预计EUV收入将增长25%，而不是之前预计的40%。在2023年第一季度的财报电话会议上，ASML曾打算出货60台EUV设备，因为该公司第二季度的收入预期为65亿欧元，第一季度出货了9台EUV设备。ASML首席执行官PeterWennink在第二季度财报的视频访谈中对目前芯片行业的低迷发表了看法，他解释说："我们的客户对我们的产品非常感兴趣，但这意味着我们的客户仍在处理相对较高的库存。库存高企，应该如何应对？基本上就是减少晶圆产量。当然，晶圆产出意味着我们的工具利用率也会降低。这意味着什么？在我们的EUV业务中，我们看到需求时间发生了一些变化。这在很大程度上是由晶圆厂的准备情况所决定的，我认为主要是由晶圆厂的准备情况所决定的。晶圆厂还没有准备好，这是为什么呢？技术问题。我们以前就说过，无论是在台湾还是在美国，都存在技能问题。人们实际上有能力建造这些非常先进的晶圆厂。当然还有一些宏观经济形势的因素，人们对经济下行周期的持续时间有些担忧。这就是我们在EUV方面看到的情况。"...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1386751.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1386751.htm