ASML部分先进DUV光刻机出口受限：对准精度不高于2.5nm

ASML部分先进DUV光刻机出口受限：对准精度不高于2.5nm同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”据中国经营报，荷兰方面的动议未提及会对服务采取限制措施的表述，换言之，业内人士相信，已完成进口的DUV设备大都还处在关键部件的设计寿命以内，只要正常维护保养就暂无影响。一般，DUV设备6个月进行一次维护以替换或维修老化和损耗部件。另外，按照目前业界理解，不受出口限制的DUV将停留在对准精度2.5纳米的水平。ASML已经出货的DUV光刻机中对准精度最高的是1.5nm的NXT:2050i。所谓“对准精度”是指，光刻机在进行芯片加工时，在对准芯片和掩模图案时能够达到的精度。对准精度一般以纳米衡量，纳米数值越小，产品越先进。至于所谓浸没式光刻机（浸润式光刻机），属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1350131.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1350131.htm

荷兰新规9月1日生效 ASML：年底前仍可向中国出口高端DUV光刻机

荷兰新规9月1日生效ASML：年底前仍可向中国出口高端DUV光刻机“我们的客户了解出口管制法规，因此他们知道，自2024年1月1日起，我们不太可能获得向中国国内客户运送这些系统的出口许可证。”ASML发言人说道。今年3月，在今年荷兰出口管制新规出台之前，荷兰政府已经向ASML发出了政策即将调整的通知。当时，ASML就曾发布公告称，其认为TWINSCANNXT：2000i及之后的浸没式光刻系统将会受限。随后在今年6月30日，荷兰政府正式出台了半导体出口管制新规。进一步确认了ASMLNXT：2000i及之后的浸没式光刻系统出口将会受限。当时ASML就表示，将继续遵守适用的出口管制条例，其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。荷兰政府新颁布的出口管制条例将于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可开始提交出口许可证申请。荷兰政府将视具体情况批准或拒绝这些申请。从ASML最新的回应来看，ASML在荷兰政府6月30日的新规正式公布之后（或者之前），就开始提交了出口许可证的申请，并且可能在7月19日ASML公布2023财年二季度财报之前就已经获得了许可。不然，ASMLCEOPeterWennink就不会在二季度财报会议上说“我们预计出口控制措施不会对2023年业绩产生重大影响。”毕竟二季度时，ASML来自中国大陆的营收占比高达24%。虽然现在ASML的声明已经确认之前的许可申请已经获得了荷兰政府的批准，但是这个许可证的有效期只到2023年底为止！应该主要是为了完成之前已经接到的中国大陆客户订单的后续交付，毕竟目前ASML的光刻机供应依然很紧张。此前ASML公布的财报也显示，今年二季度，来自中国大陆的销售收入占比为24%，相比一季度的8%，大幅增加了16个百分点，增长了200%。在所有销售的设备当中，ArFi设备（浸没式DUV设备）销量相比一季度大涨了56%，增长了14台至39台。对于二季度DUV设备销量的大幅增加，ASML首席执行官彼得·温宁克（PeterWennink）解释称，“在DUV上，需求仍然高于我们的生产能力。虽然我们已经看到了行业中不同细分市场的需求出现了一些挤出。然而，我们的中国客户在过去两年中的需求满足率远远低于50%。所以，我们的中国客户说：我们很乐意接受别人不想要的机器。因为他们的工厂已经准备好了。因此，当有可用的设备时，他们会拿走这些设备。所以，总的来说，我们的DUV业务看起来仍然相当强劲。”据中国海关总署数据，2022年我国光刻机进口总额39.63亿美元，其中从荷兰进口额为25.48亿美元，占比64.3%。2023年1-7月份，从荷兰进口的光刻机金额为25.86亿美元，同比增长64.8%，7月份进口额为6.26亿美元，同比增长近8倍，不过环比下降了28.4%。熟悉荷兰半导体设备采购的业内人士表示，由于全球最大的光刻机制造商ASML向中国客户交付了更多光刻机，今年6月和7月，中国对荷兰芯片制造设备的进口量相比5月翻了一番。显然，在6月30日荷兰的半导体新规正式出台之后，今年7月，ASML依然正常向中国客户交付相关的光刻机产品，不然7月对荷兰光刻机的进口额不可能会有那么大的同比增长。另外，ASML的最新声明还表示，自2024年1月1日起，其将不太可能获得向中国国内客户运送浸没式DUV光刻机出口许可证。因此，自明年开始，ASML可能将只能向中国客户出口NXT:1980Di及更低端型号的光刻机。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1381085.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1381085.htm

中国28nm国产光刻机有望年底交付

中国28nm国产光刻机有望年底交付据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。光刻机是决定半导体生产工艺水平高低的核心技术，包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件，极为复杂精密。事实上，光刻机是一个泛概念，包括三种不同类型：为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。前道光刻机就是我们最常说的光刻机，主要用于晶圆制造，可分为DUV、EUV两大类，目前由荷兰阿斯麦(ASML)占绝对垄断地位，日本的尼康、佳能也有很强的实力。——

ASML将推中国特供版DUV光刻机？完全没必要

ASML将推中国特供版DUV光刻机？完全没必要7月6消息，据DigiTimes报道，荷兰光刻机大厂ASML正在考虑发布其深紫外光刻(DUV)设备的特殊版本，以便使得该设备符合美国及荷兰最新的出口规则，并且无需许可证即可运送给中国客户。报道称，该特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造，而NXT: 1980Di是10年前推出的旧型号，不在限制范围内。PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369569.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1369569.htm

日本尼康研发3D ArF光刻机 预计未来销量翻倍

日本尼康研发3DArF光刻机预计未来销量翻倍在光刻机市场上，最近十多年来荷兰ASML公司一家独大，EUV光刻机中更是独一份，10亿一台的价格都供不应求，而传统的光刻机大厂日本佳能、尼康已经被甩开，不过尼康已经制定策略，重点放在3D光刻机上。据报道，日本尼康公司提出新的目标，希望2025财年（2025年3月到2026年3月）期间，尼康的光刻机销量能提升到2019-2021财年的2倍以上。日本光刻机厂商已经没可能在EUV光刻机上抢市场了，但尼康重点放在了能够生产3D芯片的光刻机上，明年将推出支持3D闪存、图像传感器的沉浸式ArF光刻机，这会是未来销量翻倍的杀手锏。根据ASML、Canon佳能、Nikon尼康2020年的数据，全球光刻机销量413台，同比增长15%，按季度依次是95台、95台、97台、126台，分别同比增长19%、25%、8%、12%。2020年413台光刻机中，ASML销售258台占比62%，佳能销售122台（KrF、i-line）占比30%，尼康销售33台占比8%。如果是按销售额计算，ASML、佳能、尼康的光刻机销售额占比依次是91%、3%、6%，日本两家公司占比也不到10%，ASML近乎垄断。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1308891.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1308891.htm

ASML否认特供版DUV：没有面向中国市场推出特别版光刻机

ASML否认特供版DUV：没有面向中国市场推出特别版光刻机1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机，支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm，理论上可以支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机，主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用其生产7nm芯片。最近荷兰发布新规定，企业出口先进设备需要申请许可，9月1日后生效。ASML表示，根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369385.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1369385.htm