三星和台积电均遭遇难题 在3nm工艺良品率上挣扎
三星和台积电均遭遇难题在3nm工艺良品率上挣扎据ChosunBiz报道,虽然三星和台积电都已量产了3nm工艺,不过两者都遇到了良品率方面的问题,都正在努力提高良品率及产量。三星在3nm工艺上采用下一代GAA(Gate-All-Around)晶体管技术,而台积电沿用了原有的FinFET晶体管技术,无论如何取舍和选择,似乎都没有逃过同一个难题,在新的制程节点都没有达到预期的良品率。按照台积电的规划,在3nm制程节点上至少有5个不同的工艺,其中2个可以投产,接下来还会有N3P、N3X和N3AE。相比之下三星规划的工艺数量更少一些,只有3个,且仅有1个投产,就是目前称为3GAE的工艺,未来还会有3GAP和3GAP+。据了解,目前三星和台积电在3nm工艺上的良品率分别为60%和50%,距离70%的及格线显然还差不少。从纸面数据来看,三星的良品率更高一些,但其基于的数字局限于某款加密货币所使用的专用芯片上,显然缺乏说服力。有业内人士表示,三星实际的良品率可能还不到50%,想要吸引大客户至少要达到70%以上。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1388407.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1388407.htm
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