中国号称现在生产出来的芯片跟国外只有几年的差距,但这是靠国外生产的光刻机生产出来的。如果看光刻机,那差距就不止几十年了,在可预见

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中国#光刻机

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中国唯一在真正研发光刻机的机构上海微电子到现在只能生产90纳米光刻机。2020年宣布2021年交付28纳米光刻机,没下文了。现在又宣布今年年底交付。即使真能交付,和能量产、质量稳定也是两回事。国外2011年已量产28纳米芯片。但如果中芯因为华为被制裁,以后中国就要靠这款期望中的国产28纳米光刻机。但国外咨询机构早扒过,这款光刻机的中国供应商仍然要靠外国提供必需的配件,美国仍然随时可制裁。一个国家想搞完全国产的光刻机是痴心妄想。阿斯麦生产一台EUV光刻机要由24个国家的500多个供应商提供45万个配件。

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俄称自行开发光刻机将于2028年问世可产出7纳米芯片俄罗斯科学院发豪语2028年自行研发的光刻机将问世,可生产出7纳米芯片。据报道,国际制裁对俄罗斯断供后,造成俄国芯片短缺,加以美国、英国和欧盟也祭出多项制裁,几乎所有拥有先进晶圆制造商都停止与俄罗斯实体合作,ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的芯片设计师。PC版:https://www.cnbeta.com/articles/soft/1329993.htm手机版:https://m.cnbeta.com/view/1329993.htm

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中国光刻机

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光刻机巨头ASML:没有向中国市场推出特别版光刻机一周前,荷兰政府正式宣布限制某些先进半导体设备出口的新规,这些规定将于9月1日生效。具体而言,荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。尽管荷兰政府并未直接点名会受到限制的公司,但外界都明白这是在针对当地最出名的半导体设备公司ASML。彼时,ASML回应观察者网表示,根据新出口管制条例规定,该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。ASML在声明中重点指出,荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统(DUV,深紫外光刻)。而该公司的EUV光刻(极紫外光刻)系统在此前已经受到限制,其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。ASML受出口管制的光刻机型号在荷兰政府宣布新的半导体出口管制条例后,中国驻荷兰大使馆6月30日很快做出回应:荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施,这是对出口管制措施的滥用,是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离,中方对此坚决反对。“我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发,立即纠正错误做法。中方将坚决维护自身合法权益。同时,也愿与荷方一道,本着互利互惠的原则,共同探讨解决方案,共同推动中荷经贸关系健康发展。”中国驻荷兰大使馆发言人表示。ASML方面也早就对出口管制做出过警示。今年2月,在接受欧洲媒体采访时,ASML首席执行官温彼得直言,如果美国及其盟友切断中国(大陆)获得某些半导体和半导体制造技术的渠道,中国将被迫加倍努力开发自主技术。他坦言,虽然出口管制是合法工具,但不应该被滥用,决策者在“摆弄”半导体供应链之前应充分了解它的复杂性。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369555.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1369555.htm

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