中国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证 为EUV光刻胶开发做技术储备

中国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证为EUV光刻胶开发做技术储备且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。作为半导体制造不可或缺的材料，光刻胶质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下，如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形，成为光刻制造的共性难题。该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向，同时为EUV光刻胶的着力开发做技术储备。上述具有自主知识产权的光刻胶体系在产线上完整了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化的全链条打通。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1425913.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1425913.htm

久日新材：正积极推动光敏剂和光刻胶产品的送样工作，均已小批量供货

久日新材：正积极推动光敏剂和光刻胶产品的送样工作，均已小批量供货久日新材2月23日在互动平台表示，公司正积极推动光敏剂和光刻胶产品的送样工作，均已小批量供货。目前，公司的光刻胶专用光敏剂已向二十八家下游企业送样，向十二家企业小批量供货。公司多款半导体i-线光刻胶已进入下游客户送样测试阶段，已完成五家多批次送样，反馈结果良好，其中已有两家三款产品通过测试，并实现小批量供货，其他客户的送样测试也在持续推进。公司的4500吨/年光刻胶生产线预计今年8月份建成，公司将尽快推动光刻胶实现规模化生产。

扬帆新材：公司目前不生产光刻胶

扬帆新材：公司目前不生产光刻胶扬帆新材披露股票交易异常波动暨严重异常波动公告，公司目前不生产光刻胶，公司光引发剂产品也不涉及半导体相关领域应用。公司2023年和2024年一季度都处于亏损状态。受光引发剂行业竞争加剧、价格下行的影响，公司2023年引发剂营收及营收占比率同比都有所下降。外加产能利用率较低等因素影响，2023年公司引发剂类产品毛利率为-8.96%。公司目前未发现行业有明显的变化趋势，公司2024年经营业绩扭亏好转仍存在较大不确定性。

牢牢控制EUV技术 日本砸万亿日元国产化光刻胶供应商JSR公司

牢牢控制EUV技术日本砸万亿日元国产化光刻胶供应商JSR公司JSR（日本合成橡胶公司）原本是私营公司，在日本股市上市，日本政府支持的投资公司JIC宣布斥资万亿日元，约合500亿人民币收购JSR，完成之后JSR计划在2024年从东京证交所摘牌退市。虽然退市的目的说是进一步投资及重组，但JSR此后显然会从私营公司变成日本国有背景，日本官方一步步掌控半导体核心技术。JSR公司成立于1957年，1979年进入了半导体光刻胶领域，是日本乃至全球几大主要的光刻胶供应商之一，与住友化学、信越化学、东京应化并列，ArF光刻胶领域份额第一，EUV光刻胶也是主力供应商之一。此外，Rapidus公司日前也跟ASML公司达成了合作，将引入EUV光刻机，最快2025年试产2nm工艺，该公司虽然也是丰田、索尼等8家企业联合成立，但是研发到生产都需要日本巨额补贴，不是国有胜似国有。在解决了EUV光刻机及EUV光刻胶之后，日本掌握2nm等先进工艺的雄心又近了一步。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1367565.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1367565.htm

东友精密化学拟提高 KrF 和 L 线光刻胶价格 增幅约 10%-20%

东友精密化学拟提高KrF和L线光刻胶价格增幅约10%-20%业内人士透露，日本住友化学子公司东友精密化学（DongwooFine-Chem）向韩国半导体企业表示，由于原材料价格上涨，拟提高氟化氪（KrF）和L线光刻胶价格，增幅因产品而异，约为10%-20%。但韩国半导体企业对涨价此举表示不满。代工行业业内人士表示，“如果光刻胶价格上涨，代工厂别无选择，只能将一部分转嫁给客户（无晶圆厂）”，并补充说，“东友精密化学光刻胶价格上涨可能会导致代工厂和整个无晶圆厂行业盈利能力恶化。”

南大光电：有两款ArF光刻胶进入批量验证阶段 部分原材料外购解决

南大光电：有两款ArF光刻胶进入批量验证阶段部分原材料外购解决南大光电称，面对激烈的市场竞争，公司充分发挥协同效应，利用高品质、好服务、低成本的优势，在巩固存量市场份额的同时，通过提高产品品质和渠道建设，加速全球IC客户的渗透和海外OLED市场的开拓，提升增量空间，努力保持三氟化氮业务的平稳增长。对于市场关注较高的ArF光刻胶进展，南大光电称，ArF光刻胶验证阶段主要分为PRS（光刻胶性能测试）、STR（小试）、MSTR（批量验证）及Release（通过验证）四个阶段。公司已有两款胶通过客户验证，多款胶正在验证过程中。验证中的ArF光刻胶因开始时间不一，验证进度也不同，其中有两款胶进入MSTR阶段。当前公司光刻胶事业部主要任务是尽快完成更多产品的验证，加强市场拓展，争取早日实现规模量产，形成业绩贡献。南大光电还表示，公司用于生产ArF光刻胶的核心原材料，由公司自主研发，对于国内具备供应能力的原材料，通过外购解决。不过，据行业人士透露，南大光电ArF光刻胶验证主要在国内存储大客户，短期来看出货量可以忽略不计。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1382681.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1382681.htm