阿斯麦和 IMEC 联合光刻实验室启用
阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用比利时微电子研究中心(IMEC)和阿斯麦(ASML.O)6月3日宣布,由双方共同运营的High-NAEUV光刻实验室(HighNAEUVLithographyLab)在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开幕,该实验室可提供HighNAEUV扫描仪(TWINSCANEXE:5000)及周边处理工具。声明中称,该实验室的启用是为大批量生产HighNAEUV做准备的一个里程碑,预计将于2025-2026年实现大批量生产。
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