中国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证 为EUV光刻胶开发做技术储备

中国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证为EUV光刻胶开发做技术储备且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。作为半导体制造不可或缺的材料，光刻胶质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下，如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形，成为光刻制造的共性难题。该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向，同时为EUV光刻胶的着力开发做技术储备。上述具有自主知识产权的光刻胶体系在产线上完整了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化的全链条打通。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1425913.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1425913.htm

扬帆新材：公司目前不生产光刻胶

扬帆新材：公司目前不生产光刻胶扬帆新材披露股票交易异常波动暨严重异常波动公告，公司目前不生产光刻胶，公司光引发剂产品也不涉及半导体相关领域应用。公司2023年和2024年一季度都处于亏损状态。受光引发剂行业竞争加剧、价格下行的影响，公司2023年引发剂营收及营收占比率同比都有所下降。外加产能利用率较低等因素影响，2023年公司引发剂类产品毛利率为-8.96%。公司目前未发现行业有明显的变化趋势，公司2024年经营业绩扭亏好转仍存在较大不确定性。