ASML超越应用材料 成全球最大半导体设备制造商

ASML超越应用材料成全球最大半导体设备制造商DanNystedt表示，2023年ASML的收入为298.3亿美元，而应用材料收入为265.2亿美元。ASML成功从应用材料手中夺走晶圆厂设备制造桂冠的原因有多种。首先，ASML确认了53台低数值孔径EUVTwinscanNXE设备的收入（2022年为40台），每台设备的价格约为1.83亿美元。此外，该公司还确认了125台深紫外（DUV）光刻设备的收入（高于一年前的81台）；其次，由于出口管制条例于2023年9月生效，并仅针对部分机型，因此ASML可以在2023年的大部分时间里向中国客户销售先进的DUV设备。相比之下，应用材料向中国客户销售的设备在一定程度上受到美国2023年10月推出的出口规则的影响。虽然都是半导体设备厂商，但这两家厂商的关注点不同。应用材料不生产光刻设备，ASML不制造用于外延、离子注入、沉积和选择性材料去除的设备。整体来看，如今一家晶圆厂的运行都离不开应用材料、ASML、KLA（科磊）和东京电子的设备，因此这些公司之间的关系不是竞争，而是彼此互补。举例来说，销售的ASML设备越多，需要的应用材料的设备就越多，因此在目前的形势下两家公司都将在未来几年蓬勃发展。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1418919.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1418919.htm

传荷兰最早下周发布新出口管制措施 限制ASML对华半导体设备出口

传荷兰最早下周发布新出口管制措施限制ASML对华半导体设备出口ASML副总裁兼首席商务官ChristopheFouquet表示，ASML不相信“脱钩”具有可能性，这样做将极度困难、极度昂贵。他们迟早要明白，半导体业的成功之道只有合作。他形容脱钩是“躲回一个幽暗角落自己做”，那是极具挑战性的概念。ASML成功的秘诀，就是与全球关键供应商维持长期合作。6月23日消息，据市场消息，荷兰政府计划最早下周发布新的出口管制措施，进一步限制光刻机巨头ASML产品对中国出口的限制。消息人士称，荷兰议员制定的出口管制规定，预计最早会在本月30日或7月首周公布，并将可被其他欧盟成员国作为蓝本。荷兰政府此前承诺在夏季前公布此类措施。早前有媒体指，预计荷兰不会点名中国或ASML，但相关措施旨在限制部分型号光刻机对中国的出口。据悉，荷兰和日本今年1月原则上同意加入美国的行动，限制向中国企业出口部分先进的半导体和晶片制造技术。值得一提的是，近期清华大学教授魏少军在广州南沙论坛上公布的数据显示，尽管国产芯片的价值份额从2013年的13%上升到2022年的41.4%，但作为“中国制造2025”倡议的一个关键目标，半导体自给率到2025年仍然无法达到70%。而且这41.4%的比例当中，外资在华半导体工厂的产能占据了较大一部分。数据显示，从2016年起，中国本土投资者所有的半导体公司的平均复合年增长率（CAGR）为14.7%。然而，来自中国台湾、韩国和其他地方的非中国大陆晶圆制造企业的复合年增长速度更高，达到了30%。魏少军教授表示，大陆半导体产业如果要继续突破，则需要展开“再全球化”。大陆可以基于国内超大市场需求的优势，继续扩大开放，广邀外资进入国内投资半导体，这应是国内朝向实现再全球化的路径。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1367079.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1367079.htm

ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”荷兰政府在3月8日表示，计划对半导体技术出口实施新的管制。据悉，决定是由荷兰贸易部长LiesjeSchreinemacher在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。信中还指出“荷兰认为有必要以最快的速度对这项技术进行监管，因此荷兰政府将会尽快出台一份国家管控清单”。尽管信中并没有指名道姓地点出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。ASML表示，由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于相关的公告、对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，预计这些管制措施不会对ASML已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCANNXT：1980Di，TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。此外，ASML指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求，并称该公司A长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。ASML此前预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右。ASML声明如下：荷兰政府于今日发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。需要重点指出的是：新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外，我们要指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后，ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1348611.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1348611.htm

日议员：中国定将报复日本力挺美主导半导体设备输华限制

日议员：中国定将报复日本力挺美主导半导体设备输华限制日本自民党议员青山繁晴说，中国百分之百将报复日本力挺美国拜登政府主导的半导体设备输华限制，日本企业将因此受影响，必须物色新的出口市场。彭博社报道，荷兰和日本即将与美国达成协议，联手限制半导体出口到中国市场。日本自民党贸工委员会委员青山繁晴（ShigeharuAoyama）星期四（1月26日）接受彭博社访问时，作出以上表述，并说：“中国一定强力报复，在华经商的日本企业或将受害。”日本和荷兰是半导体制造设备的主要供应商，目前尚不清楚他们将采取怎样的限制措施。青山繁晴支持日本参与对华出口半导体的限制措施，并称日本企业应该视此决定为转折点，寻求其他出口市场。中国是日本的最大贸易伙伴，并说美国的做法体现其“自私的霸权利益”。拜登政府在去年10月颁布一系列新措施，包括限制美国制造商向中国供应先进晶片制造设备，并限制美国人在中国半导体企业任职，旨在阻截中国获取先进技术。荷兰半导体巨企阿斯麦（ASML）对彭博社说，美国主导的限制措施将激励北京在先进半导体制造机械领域开发自身的科技。北京上月向世界贸易组织提出申诉，志在推翻美国实施的出口限制。发布：2023年1月27日11:55AM