荷兰决定撤回对中国大陆出口部分ASML半导体光刻设备的许可证

荷兰决定撤回对中国大陆出口部分ASML半导体光刻设备的许可证路透报导，范李文在2月5日的报告中写道：“中国着眼外国专业技术，包括荷兰在微影制程领域的专业知识，以促进其在军事技术发展自给自足。”范李文说，艾司摩尔的设备被用于制造可用于“高价值武器系统和大规模杀伤性武器”的先进半导体，荷兰政府在审查出口许可的决定时，会聚焦于“不良最终用途的风险”。报导称，在美国施压下，荷兰政府去年要求艾司摩尔出口中阶“深紫外光刻机”（DUV）设备前必须申请许可。艾司摩尔最先进光刻机从未卖给中国过。荷兰改革派“新社会契约党”（NSC）议员泽迪克（FemkeZeedijk）在国会质询，为何政府起初会授予艾司摩尔向中国未公开的客户出口多种设备的许可证，后来却又迅速撤回。范李文的回答回避了这个问题，仅补充说，自去年9月引进相关许可证规定以来，已多次批准向中国出口先进半导体设备的许可证。而今年预计将接获约20起这类申请，但范李文未具体说明这些申请有多少来自中国大陆，也未回应荷兰是否应美国政府要求而撤销这些许可证。泽迪克20日跟路透说：“我不是说不存在安全问题，或这项决定是错的，但我想了解更多资讯。外界认为，除了安全风险之外，背后还有经济原因。”国际半导体产业协会（SEMI）预测，今年将有约18家中国芯片工厂投产，数量超过任何其他地理区域。许多中国芯片制造商正专注于生产旧世代芯片，并使用不受出口管制政策约束的设备。艾司摩尔今年元旦曾证实，荷兰政府已撤销部分向中国出口芯片制造设备的许可证，但预计2024年对中国的销售仍将保持“稳健”。不过根据相关规定，公司不会向中国出口任何NXT：2000i或更先进工具，且由于美国相关限制措施，公司也无法向“少数”中国厂商出口NXT：1970和NXT：1980i产品线。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1419677.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1419677.htm

1/1/24: 突发，荷兰吊销部分许可证，阻止ASML向中国出口DUV（深紫外线）制造设备 路透社1月1日 - 晶片机械制

1/1/24:突发，荷兰吊销部分许可证，阻止ASML向中国出口DUV（深紫外线）制造设备路透社1月1日-晶片机械制造商阿斯麦（ASML）周一表示，在美国实施出口限制后，荷兰政府吊销了向中国输送部分晶片制造设备的出口许可证。该总部位于荷兰费尔德霍芬的公司表示，出货量包括某些光刻系统。该公司表示：「荷兰政府最近部分吊销了2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的许可证，影响了少数中国客户。」ASML在光刻系统市场占据主导地位，该系统使用激光协助创建晶片电路。该公司表示，预计取消或美国最新的出口管制限制不会对其2023年的财务前景产生重大影响。近来，中国一直是ASML继台湾和韩国之后的第三大市场，但在2023年第三季是最大的，占该公司销售额的46%。2023年，美国宣布新规定，如果ASML的「TwinscanNXT1930Di」机器含有任何美国零件，华盛顿有权限制其出口。不久之后，几名荷兰博士就美国单方面实施限制台ASML晶片制造机向中国出口管制规则是否正确，向荷兰贸易部长提出质疑。这家半导体设备制造商在声明中表示：「在最近与美国政府的讨论中，ASML已进一步明确美国出口管制法规的范围和影响。ASML致力于遵守所有适用的法律和法规，包括我们经营所在国家的出口管制法规。”——新年第一天，美国在半导体领域对中共的绞索又收紧了，禁止荷兰出口深紫外光刻机到中国。这就是美国商务部长雷蒙多所说的堵住漏洞吧。估计不仅仅是荷兰、日本、韩国也跟进了。消息来源：《路透社》报道：https://www.reuters.com/technology/asml-says-dutch-government-revoked-some-export-license-2024-01-01/

ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”荷兰政府在3月8日表示，计划对半导体技术出口实施新的管制。据悉，决定是由荷兰贸易部长LiesjeSchreinemacher在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。信中还指出“荷兰认为有必要以最快的速度对这项技术进行监管，因此荷兰政府将会尽快出台一份国家管控清单”。尽管信中并没有指名道姓地点出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。ASML表示，由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于相关的公告、对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，预计这些管制措施不会对ASML已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCANNXT：1980Di，TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。此外，ASML指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求，并称该公司A长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。ASML此前预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右。ASML声明如下：荷兰政府于今日发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。需要重点指出的是：新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外，我们要指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后，ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1348611.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1348611.htm