imec：部分欧洲实验室将获得25亿欧元资助 以开发新一代芯片

imec：部分欧洲实验室将获得25亿欧元资助以开发新一代芯片NanoIC中试生产线的目标是开发超过2nm的片上系统，并将作为现有imec中试生产线设施的延伸。imec总裁兼首席执行官LucVandenhove表示:“这项投资将使我们的产量和学习速度翻一番，加快我们的创新步伐，加强欧洲芯片生态系统，推动欧洲经济增长。”预计25亿欧元的投资将来自公共和私人捐款。通过ChipsJointUndertaking(ChipsJU)和Flanders，欧盟资助项目(即HorizonEurope和DigitalEurope)的贡献将达到约14亿欧元。与ChipsJU的赠款协议目前正在进行中，将于今年晚些时候签署。imec指出，私人捐款将达到约11亿欧元，来自包括阿斯麦在内的行业合作伙伴。与imec合作的其他研究实验室有法国的CEA-Leti、德国的Fraunhofer-Gesellschaft、芬兰的VTT、罗马尼亚的CSSNT和爱尔兰的廷德尔研究所。根据imec的说法，这些研究所将与欧洲和全球的设备和材料供应商合作，建立超越2nm的SoC研发试点线，这将支持欧洲的几个行业，包括汽车，电信和健康。欧盟于2023年宣布了430亿欧元的《芯片法案》，旨在支持本土芯片制造。美国、中国、日本和韩国等几个国家已经加大力度推动国内芯片制造，以在人工智能竞赛中保持领先地位。根据旨在增加美国半导体制造和研究，特别是在先进半导体方面的美国芯片法案，几家公司已经与美国商务部签署了初步协议，以获得资金。英特尔(INTC.US)获得了近200亿美元的赠款和贷款，美光科技(MU.US)获得了61亿美元的援助，台积电获得了高达116亿美元的援助和贷款，三星电子在美国获得了高达64亿美元的援助。台积电、英特尔和三星预计将在2024年和明年在商业工厂或晶圆厂推出2纳米芯片，成本约为200亿欧元。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1431796.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1431796.htm

上海汽车芯片工程中心检测实验室启用

上海汽车芯片工程中心检测实验室启用记者从上海市嘉定区获悉，近日，位于嘉定的上海汽车芯片工程中心检测实验室正式启用，将以更全面、更可靠的测试服务助力汽车产业发展。“目前实验室可提供汽车芯片可靠性测试、失效分析、工程测试等，在助力上游满足车规标准的同时，保障下游供应链安全。”上海汽车芯片工程中心有限公司检测实验室业务主管姜辰刚表示，年内计划推进实验室二期建设，将引入更多设备提升测试能力，满足不同芯片产品的测试需求，帮助提升产品生产质量；同时，以更全面、更可靠的测试服务助力企业攻关高端汽车芯片的设计和制造。（澎湃）

ASML和IMEC联合光刻实验室启用 最早2025年大量生产High NA EUV

ASML和IMEC联合光刻实验室启用最早2025年大量生产HighNAEUV实验室内的核心设备为一台原型高数值孔径EUV扫描仪（TWINSCANEXE：5000），以及与之配套的处理和计量工具，这些工具将共同助力未来芯片制造的突破。此次联合实验室的开放，被视为High-NAEUV技术大批量生产准备过程中的重要里程碑。业界预计，随着该技术的不断成熟和普及，将在2025-2026年期间迎来大规模的量产应用。值得一提的是，阿斯麦此前已公开展示了最新一代的HighNAEUV光刻机。这款光刻机体积庞大，相当于一台双层巴士，重量更是高达150吨。由于其庞大的体型和复杂的组装过程，该设备需要被分装在250个单独的板条箱中进行运输，显示了其在制造和运输过程中的非凡挑战。尽管HighNAEUV光刻机的制造成本高昂，据透露其售价高达3.5亿欧元（约合人民币27亿元），但其在半导体制造领域的价值无可估量。它将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1433556.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1433556.htm

中国信通院 / 中国泰尔实验室获得 CCC 联盟数字钥匙授权实验室资质

中国信通院/中国泰尔实验室获得CCC联盟数字钥匙授权实验室资质12月23日，据中国信通院官微消息，中国信息通信研究院/中国泰尔实验室（CAICT/CTTL）近日获得车联接联盟（CCC联盟）数字钥匙（DigitalKey）授权实验室资质，成为全球首批6家获得此资质的实验室（集团）之一，也是中国大陆地区唯一一家获得此资质的实验室。实验室授权范围涵盖DKAppletFunctionalCompliancetesting（由中国信息通信研究院泰尔系统实验室承担）和End-to-EndInteroperabilitytesting（由中国信息通信研究院泰尔终端实验室承担）。

阿斯麦和 IMEC 联合光刻实验室启用

阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用比利时微电子研究中心（IMEC）和阿斯麦(ASML.O)6月3日宣布，由双方共同运营的High-NAEUV光刻实验室（HighNAEUVLithographyLab）在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开幕，该实验室可提供HighNAEUV扫描仪（TWINSCANEXE：5000）及周边处理工具。声明中称，该实验室的启用是为大批量生产HighNAEUV做准备的一个里程碑，预计将于2025-2026年实现大批量生产。