黑人女星：和包容性故事不再是好莱坞优先事项

黑人女星：黑人和包容性故事不再是好莱坞优先事项 伊萨·雷说：“现在正在发生一些不好的情况，你会看到许多黑人节目被取消了，很多高管被解雇，尤其是负责平等、多样性和包容性的部门。现在很明显，黑人和包容性故事不那么受重视了。”这位黑人女星从负面角度看到了这些变化，而网友们则相反，他们对这一消息充满热情。因为他们已经受够了好莱坞电影中人为强加或改变肤色的故事(比如《小美人鱼》真人电影)。好莱坞主要电影发行商已经开始放弃在电影中推广所谓正确文化。例如在即将上映的Netflix动画系列《阿凡达：安昂传奇》中就没有一个黑人根据原始资料，片中几乎所有演员都是亚裔。几年前，这样的事情是不可想象的。同样的情况也发生在迪士尼身上：在《星际宝贝》真人电影中，所有演员的选择都尽可能贴近原著，包括莉洛一角该角色由一位年轻的夏威夷女演员扮演。显然再过几年，我们就能在好莱坞电影中看到这种更好的变化了。 ... PC版： 手机版：

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《触不可及 2011 》| 简介：触不可及 2011根据真实故事改编，讲述了一位富有的贵族因意外瘫痪，与一位来自底层的黑人看护之间建立起深厚友谊的故事。两人跨越阶层的友情，带来许多温暖与感动，同时也展现人性的美好 。| 文件大小 NG | 链接： |标签： #触不可及 2011 #真实改编 #跨越阶层 #友情温暖

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《小姐好白 2004 》| 简介：2004 年的小姐好白讲述了两位黑人警探为了完成任务，乔装成白人姐妹混入社交圈的故事。他们在这个过程中闹出许多笑话，影片以幽默诙谐的方式展现种族差异和社会现象，充满喜剧色彩 | 文件大小 NG | 链接： |标签：# 小姐好白 2004# 喜剧动作电影 #种族喜剧题材

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《触不可及 》 简介：触不可及改编自真实故事，讲述了生活优渥但瘫痪在床的菲利普和刑满释放的底层黑人德瑞斯之间的故事。德瑞斯为了领取失业救济金应聘成为菲利普的护工，两人身份、阶层和生活背景天差地别，却在相处过程中碰撞出了奇妙的火花。德瑞斯用他的乐观和真诚，让菲利普重新找回了生活的乐趣，而菲利普也让德瑞斯看到了更广阔的世界，帮助他成长。影片通过他们之间真挚的友谊，打破了种族和阶层的隔阂，展现了人性中温暖与善良的一面 标签：#触不可及#电营#友情电营#人性温暖 文件大小 NG 观看链接：点我跳转

作者以巧妙的说故事方式介绍了许多平凡人的创新故事，并总结为八大心法，教你培育创意火花。透过不断积累，这些微小火花最终转化为意想不

作者以巧妙的说故事方式介绍了许多平凡人的创新故事，并总结为八大心法，教你培育创意火花。透过不断积累，这些微小火花最终转化为意想不到的成果。 每个人都与生俱来创意潜能，只是有些人放弃了他们的想法，有些人却很执著。书中列举了许多没有受过专业训练的普通人，他们为了解决生活问题，或是改善周围环境，不断试验，最终成功。 在瞬息万变的现代社会，创新不再是科技巨头和产业巨擘的专利，而是每个人掌握未来主动权的关键。本书深度解读如何透过日常中的「微创新」概念，激发个人内在的创造力与创新思维，以小见大，撬动改变世界的杠杆。 洞悉创新本质，从理论到实践，剖析微创新的核心价值，揭示其背后驱动社会进步、企业升级乃至个人成长的力量源泉，提供一套适用于各领域、各层次人群的微创新方法论，教你如何从细微处发现机会，用点滴改变累积出颠覆的成果。 本书配备一系列实用工具和练习，引导读者培养敏锐洞察力，打破思维定式，开启创新思维的新篇章。 这不仅是一本提升创新能力的行动指南，更是一部启发智慧、点燃创新火花的励志读物。无论你身处何种产业，拥有何种背景，都能从中汲取力量，以微创新之力，铸就自我价值的大突破，进而推动整个世界朝著更好的方向发展！ 专业评论： 身为一名经验丰富的企业家和投资者，乔希·林克纳清楚地知道一瞬间闪现的灵感很难带来真正的创新。在本书中，他透过引人入胜的故事和真实案例揭示了普通的想法如何创造出非凡的成果。 亚当·格兰特（Adam Grant）纽约时报畅销书《重新思考》和《离经叛道》作者 《微创新》设定了在日常生活中运用创造力的新标准。书中介绍的鼓舞人心的故事、引人入胜的研究和实用指南，揭示了普通人如何成为创新者。 梅尔罗宾斯（Mel Robbins）纽约时报畅销书《5秒法则》作者 乔希是一个非常迷人的故事讲述者，他巧妙地将创业故事分解成一个又一个妙趣横生的小故事。本书对于那些始终认为自己无法成为创新者的人来说，无疑是一剂良药。 奈尔‧帕斯瑞查（Neil Pasricha）纽约时报畅销书《幸福方程式》《你真的很棒》作者 从微小的想法开始，每个人都有能力做出改变。本书为所有寻求日常创新的人提供了强大而实用的建议，颠覆了传统的创新概念。 蒂法妮·博瓦（Tiffani Bova）Saleforce公司全球成长与创新推广者、华尔街日报畅销书《成长智商：有效建构企业未来十大路径》作者 以小见大，启动你的创造力，引领未来潮流！ 这是一本提升创新能力的行动指南，更是一部启迪智慧、点燃创新火花的励志读物。无论你身处何种产业，拥有何种背景，都能从中汲取力量，以微创新之力，铸就自我价值的大突破。 作者简介： 乔许林克纳(Josh Linkner) 企业家、爵士音乐家、创投家、演讲家和作家，世界上最大的互动促销机构ePrize公司的创办人和前执行长。 ePrize公司曾为全球100种顶级品牌中的74个品牌进行数位促销活动。曾荣登《克莱恩商业周刊》「青年才俊榜」的乔希先后被评为安永年度企业家、工业自动化走廊协会年度执行长、底特律年度经理人。他是一位非常受欢迎的主题发言人，经常在顶级商业、技术和行销媒体发表评论，著有畅销书《创新五把刀：突破式创新的运作系统》。 作者简介 · · · · · · 乔许林克纳(Josh Linkner) 企业家、爵士音乐家、创投家、演讲家和作家，世界上最大的互动促销机构ePrize公司的创办人和前执行长。 ePrize公司曾为全球100种顶级品牌中的74个品牌进行数位促销活动。曾荣登《克莱恩商业周刊》「青年才俊榜」的乔希先后被评为安永年度企业家、工业自动化走廊协会年度执行长、底特律年度经理人。他是一位非常受欢迎的主题发言人，经常在顶级商业、技术和行销媒体发表评论，著有畅销书《创新五把刀：突破式创新的运作系统》。

芯片未来，靠他们了

芯片未来，靠他们了 这是前所未有的将电源互连与信号传输分开。作为一名芯片设计师，我可以告诉你，这对整个行业来说是一件大事。要了解全貌，我们先从晶体管开始。晶体管的演进所有现代计算机芯片都是由晶体管（可以打开和关闭的微型电子开关）组成的。这就是经典平面晶体管的外观。它包含一个栅极、一个源极和一个漏极，排列在一个二维平面上。该设备由栅极控制，当我们对栅极施加一定的电压，或者更具体地说，一定的电场时，它就会打开栅极，电流从源极流向漏极。随着平面晶体管的尺寸不断缩小，晶体管的尺寸也随之缩小，特别是沟道的尺寸。我们面临许多问题，漏电问题只是其中之一。最终的解决方案是彻底改变晶体管从平面 2D 晶体管变为三维 FinFET 晶体管。基本上，他们采用平面晶体管，并将沟道向上拉伸为垂直鳍片。平面晶体管的导电沟道只在表面，而 FinFET 的导电沟道在三面，栅极则环绕在导电沟道周围。与原始平面晶体管相比，FinFET 更紧凑，因此使用 FinFET，我们现在能够在同一硅片上封装更多晶体管。2011 年，英特尔推出了首款商用 FinFET 器件，当时我还在读大学。英特尔推出首款 FinFET 器件几年后，三星和台积电开始生产 16nm 和 14nm FinFET 芯片。从那时起，台积电一直引领着 FinFET 的发展。如今，所有尖端芯片都采用 FinFET 制造。例如，最新的 AMD 和 Apple 芯片采用的是 5nm 或 3nm FinFET 技术。环绕栅极然而，就我们可以微缩多少、鳍片可以达到多高以及可以并排放置多少个鳍片而言，FinFET 技术已经达到了极限。高漏电再次成为一个巨大的问题。因此，为了进一步缩小晶体管并降低成本，整个行业现在正在转向新的环绕栅极 (GAA) 晶体管技术。我已经谈论它好几年了，但它终于要投入量产了。台积电将在其 N2 工艺节点上转向 GAA 技术。他们称之为“纳米片晶体管”，但从本质上讲，它本质上是同一件事，只是同一概念的另一个术语。台积电计划在 2025 年初开始生产基于 GAA 技术的芯片，首批芯片预计将出现在 iPhone 上。基本上，他们采用了 FinFET 结构并将其水平放置，将几片这样的薄片叠放在一起，这样我们就可以垂直增加鳍片的数量。最好的部分是栅极完全包裹在沟道周围，使我们能够更好地控制它。通过这项创新，我们可以略微降低工作电压并显著降低漏电流。这将使我们的速度和晶体管密度提高约 15%，但这项技术最大的好处是功率效率。GAA 晶体管的功耗比 FinFET 技术低 35%，这是一个巨大的进步。这对于移动芯片等应用至关重要，因为它可以显着延长电池寿命，或者对于通常非常密集且耗电的 AI 或 HPC 应用来说也是如此。背面供电本月初，台积电在其路线图中首次展示了 A16 技术，其中的“A”代表埃。台积电的 A16 技术将基于纳米片晶体管，但有一个非常有趣的变化背面供电。这项创新将在电源效率方面带来翻天覆地的变化让我来解释一下。自从罗伯特·诺伊斯制造出第一个集成电路以来，所有东西都位于晶圆的顶部，即正面，所有信号互连和电源传输都来自正面。背面供电是一个巨大的变化，因为我们将把电源线移到基板下方，从而腾出更多空间用于顶部布线。你知道，现代芯片中有数十亿个晶体管相互连接；因此芯片上有许多层级的信号互连。同时，顶部有一个电源网格，它是一个电源线和地线网络，用于在半导体芯片上分配电力并为晶体管提供电源。目前，所有的互连和供电都来自顶部的不同金属层。现在想象一下，当我们将所有电源移到背面时，这将大大降低布线的复杂性，让我们能够更密集地放置和布线晶体管并改善拥塞。这种将电源与信号分离的概念将为布线电子设计自动化 (EDA) 工具提供更多自由。这一变化不仅会影响制造流程，还会影响芯片设计本身。整个流程需要大量学习，尤其是在电源网格和散热方面。台积电将于 2026 年开始生产基于 A16 技术的芯片。我非常期待看到它的进展。当然，台积电并不是唯一一家致力于这项创新的公司。英特尔也在努力通过背面供电和其他升级来重新夺回其在芯片制造竞赛中的地位。英特尔的“登月计划”我想花点时间讨论一下英特尔的野心，因为这个故事有几个有趣的方面。过去五年来，英特尔在先进芯片制造方面一直落后于台积电和三星。但现在，他们计划成为第一个甚至领先于台积电将新晶体管和电力输送技术投入生产的公司。对于英特尔来说，GAA 技术和背面供电正在 20A 工艺节点中融合。他们现在正在对其进行最后的润色。这个 20A 节点对英特尔至关重要。这对英特尔来说是一个冒险的举动，因为通常情况下，你会希望逐一引入创新，以了解问题出在哪里。同时引入两项新技术意味着英特尔正在“全力以赴”。这对英特尔来说显然是一个“登月计划”，风险很大，因为可能性成倍增加。有趣的是，过去英特尔比较保守，而台积电则比较冒险。这一次，情况正好相反。英特尔需要获得大买家才能达到高产量，实现经济效益，因为芯片制造依赖于规模经济。2021 年，英特尔首席执行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 向投资者和客户承诺，四年内实现五个节点。这次他们必须兑现承诺。他们目前已在生产英特尔 4 和英特尔 3 FinFET 技术，并计划在 2024 年底前量产英特尔 20A。Arrow Lake 将成为首款采用 GAA（他们称之为 RibbonFET）晶体管和背面供电的英特尔 CPU，英特尔称之为 PowerVia。一、英特尔 14A 和新High NA EUV英特尔路线图上最有趣的里程碑是计划于 2027 年推出的 14A 工艺节点。这涉及一项重大更新：使用 ASML 的新型高 NA EUV 光刻机，每台成本为 3.8 亿美元。这会带来很大的风险。除了与新工具相关的风险外，High NA 的经济效益到目前为止还没有奏效。在台积电和英特尔争夺 3nm 以下节点的竞争中，关键在于谁能率先以最低成本生产出高良率的产品。高 NA EUV 机器在经济上尚不可行，每片晶圆的价格很高。这就是台积电暂时放弃这台机器的原因。二、直接自组装（Direct Self-Assembly）目前，使用Hihg NA EUV 机器，光刻工艺每片晶圆需要更多时间。这限制了晶圆厂的产量并推高了成本。为了实现经济效益，英特尔计划使用直接自组装。简而言之，晶圆上覆盖有 PMMA（poly methyl methacrylate）并烘烤。在此过程中，聚合物材料自组织成细小的线条。研究表明，EUV 机器可以帮助引导晶圆上的这一过程。然而，由于缺陷率高，这种方法至少已经处于研究阶段十年了。在英特尔激进的同时，台积电也不甘人后。台积电成功做出CFET台积电资深副总暨副共同营运长张晓强今日在台积电技术论坛宣布，台积电已成功整合不同晶体管架构，在实验室做出CFET（互补式场效晶体管），虽然他未透露未来会导入在哪个制程，但指出继CFET可预见导入先进逻辑制程，下世代先进逻辑制程，台积电研发部门仍寻求导入新材料，实现让单一逻辑芯片放入比现有逾2000亿颗还更多的晶体管，推动半导体技术持续创新。张晓强强调，这是他投入半导体领域20多年来最令他感到兴奋的时候，正如另一副共同营运长侯永清指出，半导体黄金时刻已到来，而未来AI芯片发展，接近99%将靠台积电先进逻辑技术和先进封装支持，而台积电技术创新，已可看到未来在技术持续推进下，发挥芯片更高的效能及更优异能耗表现。他表示，台积电在2纳米基础下，全球首创的A16纳米制程技术，搭配独家开发的超级电轨（即晶背供电）技术，让产出的芯片在相同速度下效能比2纳米再高出8~10%，在相... PC版： 手机版：