ASML前总裁称"意识形态而非事实"助长中美芯片战争

ASML前总裁称"意识形态而非事实"助长中美芯片战争 在温尼克的领导下,ASML 逐渐成为欧洲最大的科技公司。随着中国政府加倍努力实现半导体自给自足,中国成为继台湾之后 ASML 的第二大市场。但美国以国家安全为由,不断限制芯片技术流入中国。今年年初,ASML宣布将不再向中国出售其NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统。今年 4 月的最新限制措施甚至禁止该公司为之前出售给中国买家的部分设备提供服务。对于一家与中国打了三十年交道的公司来说,这些限制令人十分头疼。正如 Wennink 所说,"你对长期合作的中国员工和客户也有义务"。因此,在他的领导下,他试图在两国之间取得微妙的平衡,声称要游说反对过度限制的出口管制,同时在中国侵犯 ASML 的知识产权时进行反击。温尼克认为,由于他的态度比较中立,华盛顿方面可能会认为他是中国的朋友。但他驳斥了这种说法,声称他效忠的是客户、供应商、员工和股东。温尼克预测,芯片冷战将持续数年甚至数十年。ASML无疑是维持和平的既得利益者。该公司的极紫外光(EUV)光刻系统对于包括台积电、三星和英特尔在内的所有行业领先企业的尖端芯片制造都至关重要。要在 7 纳米和更高密度的硅片上挤出更多的晶体管,EUV 是必不可少的。 ... PC版: 手机版:

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美国芯片管控引ASML吐槽:倒逼中国厂商造出更先进光刻机 过去一段时间,美国一直在向荷兰施压,以阻止中国获得关键的半导体技术。去年,荷兰政府宣布了新的半导体设备出口管制措施,主要针对先进制程的芯片制造技术,阿斯麦首当其冲。根据ASML今年1月1日发布的声明,荷兰政府撤销的是2023年颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的出口许可证,“此禁令将影响少数在华客户”。为进一步遏制中国的科技发展,美国日前还要求荷兰政府对中国境内部分阿斯麦设备的维修服务增加限制。中国已连续三个季度成为ASML最大市场,今年第一季度,对华出口占到ASML系统销售额的49%。ASML十分担忧对华出口进一步受限。公司CEO甚至表示,限制措施会让中国更有动力开发自己的高端技术(光刻机),“施加的限制越多,就越会促使对方自力更生。”相关文章:ASML:EUV技术领域不会面临中国公司的竞争 ... PC版: 手机版:

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继美国在一项撤销部分许可的行动中实施出口限制后,荷兰禁止芯片设备制造商阿斯麦(ASML)向中国出口一些光刻系统。这些系统对于制造先进的微处理器至关重要。 这家总部位于荷兰的公司周一表示,荷兰政府最近部分撤回了2023年向中国出口NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的出口许可。 标签: #ASML #光刻机 频道: @GodlyNews1 投稿: @GodlyNewsBot

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前 ASML 员工被指控为中国盗窃芯片制造机密 一名被指控盗窃有关先进芯片制造设备商业机密的前 ASML 员工,现在可能受雇于华为。 据荷兰报纸 NRC 援引 ASML 内部和相关的几位匿名消息来源报道说,在这名员工离开 ASML 后,他现在可能在华为工作。 今年早些时候,荷兰半导体设备供应商 2022 年年度报告中披露了这起盗窃案。当时,ASML 没有具体透露哪些数据被盗,但向投资者保证,此次盗窃事件不会对其业务构成重大威胁。 荷兰 ASML 是半导体行业的重要参与者,是用于生产 7nm 以下芯片的极紫外(EUV)光刻设备的唯一供应商。

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ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片 在ASML看来,Twinscan NXE:3800E代表了Low-NA EUV光刻技术在性能(每小时处理的晶圆数量)和精度方面的又一次飞跃。新的光刻设备可实现每小时处理195片晶圆的处理速度,相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%,将来有可能提高至220片。此外,新工具还提供了小于1.1nm的晶圆对准精度。即便用于4/5nm芯片的生产,Twinscan NXE:3800E也能提升效率,让制造商可以提高芯片生产的经济性,实现更为高效且更具成本效益的芯片生产。更为重要的一点,是Twinscan NXE:3800E对于制造2nm芯片和后续需要双重曝光的制造技术有更好的效果,精度的提升会让3nm以下的制程节点受益。Twinscan NXE:3800E光刻机的价格并不便宜,机器的复杂性和功能是以巨大的成本为代价,每台大概在1.8亿美元。不过比起新一代High-NA EUV光刻机的报价,显然还是要低很多。此前有报道称,业界首款采用High-NA EUV光刻技术的TWINSCAN EXE:5200光刻机报价达到了3.8亿美元。ASML还会继续推进Low-NA EUV光刻设备的开发,接下来将带来新款Twinscan NXE:4000F,计划在2026年发布,这凸显了ASML对EUV制造技术的承诺。 ... PC版: 手机版:

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美国要求荷兰对华禁售 ASML 光刻机,对芯片国产化影响有多大? 美国 官员正在游说荷兰当局,在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机(EUV)基础上,进一步将禁售范围扩大到上一代技术深紫外线浸没式(ArFi)DUV 光刻机的出口。

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芯片设备制造商阿斯麦(ASML)2月10日向媒体展示新一代极紫外光刻机(EUV),型号为:TWINSCAN EXE:5000。这台光刻机大小约一辆双层巴士,重量约两架空客A320飞机、价值高达3.5亿欧元(约合27亿元人民币)。该设备对ASML在1250亿美元的EUV市场保持领导地位至关重要。 ASML预计今年能出货“数台”High NA EUV。 英特尔已下了订单,第一台设备已于去年12月送达该公司俄勒冈工厂,这台EUV可以制造8nm线宽电路,比前一代小1.7倍,从而实现晶体管密度提高至2.9倍。电路越细,芯片上的晶体管就越多,处理速度和表现就越佳。 ASML高管表示,该设备对人工智能(AI)发展至关重要。 ASML发言人莫尔斯(Monique Mols)2月10日在媒体参观该公司总部时说,安装这套重达15万公斤的系统,要用到250个货箱、250名工程师,且需耗时6个月 标签: #ASML #EUV #光刻机 频道: @GodlyNews1 投稿: @GodlyNewsBot

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