中美 AI 芯片竞争美国限制芯片出口正在扼杀中国在关键技术领域的进步。过去两年，生成式 AI 技术的发展推动了对 AI 芯片的高

中美 AI 芯片竞争 美国限制芯片出口正在扼杀中国在关键技术领域的进步。过去两年，生成式 AI 技术的发展推动了对 AI 芯片的高涨需求。而英伟达和 AMD 帮助美国在 AI 芯片领域占据了绝对的领先地位。然而美国限制了对华出口特定计算性能以上的 AI 芯片。清华大学的电机工程师 Yu Wang 说，我们无法获得高端英伟达芯片，也无法制造高端芯片。台积电等代工厂只允许为大陆制造低端芯片，因此中国只能在自己境内制造高性能芯片。加州圣何塞的工程师 Ahmed Banafa 表示，中国在 AI 芯片上落后美国 5-10 年。华为正在开发自己的 AI 芯片，但制造芯片的最先进技术只有 7 纳米，而台积电三星等公司已经转向 3 纳米甚至 2 纳米技术。AI 投资基金 Leonis Capital 的合伙人 Jenny Shaw 表示，中国已经出现了高端芯片的黑市，如果你想要购买 5000 个芯片，这很难不会引起注意。但如果你是一家小型创业公司，那么禁令不会影响你。在 AI 领域缺乏竞争力可能会加剧人才的流失。来源 ， 频道：@kejiqu 群组：@kejiquchat

ASML：EUV技术领域不会面临中国公司的竞争

ASML：EUV技术领域不会面临中国公司的竞争 该消息推动ASML股价大涨9.52%，收盘股价1041.34美元，创下历史新高，总市值突破4096.86亿美元，成为了欧洲第二大市值的上市公司。Jefferies的报告指出，ASML预测其设备的市场需求有望一路走强至2026年，这主要是受益于各国政府推动的芯片制造本地化策略，通过补贴当地的晶圆厂建设，以提升自身的芯片制造能力。虽然2024年第一季度，ASML实现净销售额52.90亿欧元，同比下降21%。但是Jefferies证券认为，ASML 2024年二季度到四季度的平均订单额可能会达到57亿欧元左右，有望推动其2025年营收上探至400亿欧元。ASML此前就曾将其2025年营收目标设定在300~400亿欧元。Jefferies证券的报告还预测，台积电预计将在2024年某个时候就会收到ASML最新的High NA EUV（高数值孔径极紫外光）光刻机。ASML的标准EUV光刻机可以打印13.5nm的线宽，而新的High NA EUV光刻机则是可以通过打印8nm线宽来创建更小的晶体管，即可以用于2nm以下的制程工艺制造，并且晶圆生产速度已经达到了每小时400至500片晶圆，是当前标准EUV每小时200片晶圆的2-2.5倍的速度。不过，High NA EUV光刻机的价格也是相当的昂贵，一台要价超过3.5亿欧元。台积电业务开发资深副总裁张晓强（Kevin Zhang）5月14日在阿姆斯特丹举行的一场会议上就曾公开表示，ASML High NA EUV订价太过高昂，台积电预计于2026年下半量产的A16（1.6nm）制程，也不一定需用到High NA EUV光刻机。他说，这要看公司能取得的最佳经济与技术平衡而定，A16制程或许会采用、但不确定。“我喜欢这项技术、但不喜欢高昂的价格。”目前最为积极引入High NA EUV光刻机则是英特尔，其是第一家订购并完成交付安装的晶圆制造商，目前英特尔已经开始在其美国俄勒冈州最先进的技术开发基地将High NA EUV光刻机用于其Intel 18A工艺的测试，以积累相关经验，后续将会被用于Intel 14A的量产。有报道称，ASML已接获数十台High NA EUV光刻机的订单，其中大部分被英特尔预定，此外三星、台积电、SK海力士、美光也有订购。对于ASML所面临的潜在竞争问题，Jefferies证券的报告称，由于技术本身和生态系统的复杂性，ASML 认为“在可预见的未来”，其在 EUV 技术领域不会面临来自中国光刻设备公司 SMEE或HW的竞争。根据资料显示，ASML先进的标准型EUV光刻机就拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供应商。这些零部件极为复杂，对误差和稳定性的要求极高，并且这些零件几乎都是定制的，90%零件都采用的是世界上最先进技术，85%的零部件是和供应链共同研发，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上。可以说，EUV光刻机已经是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，其中包括上万种精密零部件，而且结合了光学、流体力学、表面物理与化学、精密仪器、自动化、高分子物理与化学、软件、机械、图像识别等多个领域的尖端知识。目前全世界没有一家企业，甚至可以说没有一个国家可以独立完成EUV光刻机的完整制造。相对于标准的0.33 NA（数值孔径） EUV光刻机来说，配备0.55 NA透镜的High NA EUV光刻机技术含量更高，系统设计也更为复杂。比如High NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦，主要原因是因为光源问题，ASML甚至还使用液冷铜线为其供电。High NA EUV光刻机其各类组件需要250个单独的板条箱中运输，其中包括13 个大型集装箱，组装后的High-NA EUV光刻机将比双层卡车还要大。目前ASML仍然是全球唯一的EUV光刻机供应商，虽然老牌的光刻机厂商日本的尼康和佳能仍在发展光刻机业务，但是也仅止步于DUV，在EUV方面依然是无能为力。不过，目前High NA EUV光刻机的发展已经接近当前技术的极限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻机理论上是可以实现，但是会面临更多更复杂的技术问题，同时成本也更为惊人。ASML的前首席技术官Martin van den Brink就曾表示，Hyper NA可能将是最后一个NA，而且不一定能真正投入生产，这意味经过数十年的光刻技术创新，我们可能会走到当前半导体光刻技术之路的尽头。即使Hyper NA能够实现，但是如果采用Hyper NA技术的制造成本增长速度和目前High NA EUV技术一样，那么经济层面几乎是不可行的。显然，在ASML现有光刻机技术路线即将走向尽头的背景之下，对于中国厂商来说在现有技术路线对于ASML之间的差距可能将不会继续加速扩大，这有利于厂商的技术追赶。但是在EUV技术路线发展受欧美限制，且该技术路线前景灰暗的情况下，中国厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随，还是考虑投入资源另辟蹊径寻找新的技术路径？比如佳能去年就推出了面向先进制程制造的纳米压印设备，但该技术路线能否成功还有待市场检验。 ... PC版： 手机版：

中国警方网络安全技术领域合作的安洵信息公司内部绝密文件泄露

中国警方网络安全技术领域合作的安洵信息公司内部绝密文件泄露 渗透海外政府部门，包括印，泰，越，韩，北约等 其中相当大一部分技术项目特别针对Telegram账户端口取证采集技术 用中国号码注册任何软件用于敏感操作都是高危自杀行为 劫持上号码 你一切行为在条子眼里都属于在裸奔

，GitHub 上一份开源的 #AI 技术进阶路线图，由德国一家软件公司 AMAI GmbH 发起，里面包含了 AI 技术领域的

，GitHub 上一份开源的 #AI 技术进阶路线图，由德国一家软件公司 AMAI GmbH 发起，里面包含了 AI 技术领域的相关知识点，每个知识点均附有详细文档。其主要目的在于帮助开发者更好的学习与掌握数据科学家、机器学习或者人工智能专家的必备知识

中国的选择：中美博弈与战略抉择

中国的选择：中美博弈与战略抉择 描述：21世纪具有决定意义的地缘政治竞赛是在中美之间进行的。这种竞争，源于双方的沟通不畅。 这本书对国际政治、大国关系、未来世界格局等进行了详细的研究和探讨，通过对比中美的政治制度和文化价值观等，分析了在地缘政治竞赛中双方的优势和劣势，并对这种大国关系中的深层内涵和对抗风险进行了清晰和客观的评估。中美双方应该消除误解，了解对方的真实诉求，并依此来制定长期的发展战略。为了制定这种战略，有十大问题需要讨论并回答。比如当美国不再是世界经济的主导力量时，它需要做出哪些战略改变？在中美博弈的大环境下，中国的战略选择是什么？为什么做出这样的选择？等等…… 链接： 大小：5 MB 标签：#地缘政治 #中美关系 #国际政治 #大国关系 #亚洲问题研究 #马凯硕 #文化价值观 #战略选择 来自：雷锋 频道：@Aliyundrive_Share_Channel 群组：@alyd_g 投稿：@AliYunPanBot

谢尔盖·绍伊古：“ARMY-2023 论坛再次证明，即使在制裁条件下，它依然是准备在军事技术领域建立平等伙伴关系的国家的相关平台

谢尔盖·绍伊古： “ARMY-2023 论坛再次证明，即使在制裁条件下，它依然是准备在军事技术领域建立平等伙伴关系的国家的相关平台。” #俄罗斯国防部 https://t.me/JShangrong