华为测试蛮力方式制造更先进的芯片

华为测试蛮力方式制造更先进的芯片 华为公司和中国一家秘密的芯片制造合作伙伴已为一种低技术但可能有效的先进半导体制造方法申请了专利。根据提交的专利申请，这两家公司正在开发涉及自对准四重成像 (SAQP) 的技术，这可能使他们无需 ASML 最先进的 EUV 光刻设备即可生产先进芯片。国资背景的硅开利、北方华创也在探索 SAQP 技术。尽管美国试图阻止中国制造先进芯片，但该方法仍有可能帮助中国使用过时工具制造某些 5nm 芯片。该技术曾在 10nm 以前的工艺中使用，但因为多重步骤带来制造成本上升和良率下降，在 7nm 以后的先进制程节点中现已被 EUV 全面替代。

美国芯片管控引ASML吐槽：倒逼中国厂商造出更先进光刻机

美国芯片管控引ASML吐槽：倒逼中国厂商造出更先进光刻机 过去一段时间，美国一直在向荷兰施压，以阻止中国获得关键的半导体技术。去年，荷兰政府宣布了新的半导体设备出口管制措施，主要针对先进制程的芯片制造技术，阿斯麦首当其冲。根据ASML今年1月1日发布的声明，荷兰政府撤销的是2023年颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的出口许可证，“此禁令将影响少数在华客户”。为进一步遏制中国的科技发展，美国日前还要求荷兰政府对中国境内部分阿斯麦设备的维修服务增加限制。中国已连续三个季度成为ASML最大市场，今年第一季度，对华出口占到ASML系统销售额的49%。ASML十分担忧对华出口进一步受限。公司CEO甚至表示，限制措施会让中国更有动力开发自己的高端技术（光刻机），“施加的限制越多，就越会促使对方自力更生。”相关文章:ASML：EUV技术领域不会面临中国公司的竞争 ... PC版： 手机版：

荷兰先进光刻机制造商获准在年底前向中国运送受限的芯片制造设备

荷兰先进光刻机制造商获准在年底前向中国运送受限的芯片制造设备 ASML Holding NV表示，尽管出口限制从 9 月份开始实施，但该公司已获得在今年年底之前向中国运送受限制芯片制造机器的许可。 ASML 发言人周四表示，这家欧洲最有价值的科技公司预计不会从 1 月份起获得向中国出口三款先进浸没式深紫外光刻机 (DUV) 型号的出口许可证。

荷兰政府已经对华禁售该国最先进的半导体设备极深紫外光刻机。但美国鼓励荷兰同样限制深紫外线光刻机这一稍欠先进的系统。

荷兰政府已经对华禁售该国最先进的半导体设备极深紫外光刻机。但美国鼓励荷兰同样限制深紫外线光刻机这一稍欠先进的系统。 两国政府面临的问题还包括他们是否像美国那样，拥有颁布限制措施的法律权威，以及关于限制哪些技术的广泛专业讨论。

美国要求荷兰对华禁售 ASML 光刻机，对芯片国产化影响有多大？

美国要求荷兰对华禁售 ASML 光刻机，对芯片国产化影响有多大？ 美国 官员正在游说荷兰当局，在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机（EUV）基础上，进一步将禁售范围扩大到上一代技术深紫外线浸没式（ArFi）DUV 光刻机的出口。

佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML

佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML "我们希望在今年或明年......趁着市场热度开始出货。"佳能负责纳米压印光刻技术开发的工业部门负责人竹西宏明（Hiroaki Takeishi）说："这是一项非常独特的技术，它将使尖端芯片的生产变得简单而低成本。纳米压印光刻机的半导体节点宽度为 5 纳米，目标是最终达到 2 纳米。"Takeishi 说，这项技术主要解决了以前的缺陷率问题，但成功与否将取决于能否说服客户将其集成到现有的制造工厂是值得的。有人怀疑佳能是否有能力扰乱由 ASML 昂贵但复杂的极紫外（EUV）光刻工具引领的市场。然而，如果纳米压印能以更低的成本将产量提高到近 90%，它就能开辟出一片天地，尤其是在极紫外光供应难以满足激增的需求的情况下。据称，佳能的纳米压印设备成本仅为 ASML 设备的 40%，而运行功耗却降低了 90%。佳能最初专注于用此技术生产 3D NAND 存储器芯片，而不是复杂的处理器，因此同样需要应对限制对华销售的出口管制。Takeishi 表示，佳能将 "谨慎关注"制裁风险，但由于可选方案不多。佳能的纳米压印技术经过 15 年多的研发，如果能成功实现商业化应用，将能改变竞争格局，使新的竞争者能够以更低的成本生产领先的半导体产品。但是，新机器的缺陷率、集成挑战和地缘政治阻力能否让佳能在与芯片制造巨头的竞争中脱颖而出，还有待观察。 ... PC版： 手机版：