ASML 首次公开展示 High NA EUV 光刻机

ASML 首次公开展示 High NA EUV 光刻机 2月10日，ASML 在荷兰总部向媒体展示新一代 High NA EUV 光刻机 Twinscan EXE:5000。 这台光刻机尺寸等同于一台双层巴士；重达150吨，相当于两架空客A320客机；价值高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）；全套系统需要250个货箱装运，需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成，不仅价格高昂也相当耗时。 Twinscan EXE:5000 可以制造8nm线宽电路，从而实现晶体管密度比前一代提高至2.9倍。

光刻机巨头ASML被传将“离开”荷兰 政府紧急成立“挽留小组”

光刻机巨头ASML被传将“离开”荷兰 政府紧急成立“挽留小组” 消息还称，ASML已向荷兰政府提出了意向，表示将有可能在其他地方扩张或迁移，法国是选择之一。ASML位于荷兰埃因霍温市的总部（资料图）去年11月，极右翼民粹主义者威尔德斯（Geert Wilders）领导的自由党（PVV）在荷兰议会选举中大获全胜，在众议院150个席位中获得37席，被认为“令人震惊地”赢得了大选的胜利。威尔德斯素有“荷兰特朗普”之称，已经表态自己希望成为下一任荷兰首相。他已经多次表示，若执政，他将把主要精力集中于遏制移民，采取包括遏制海外留学生数量、减少外籍人士的税收减免等措施。他公开反对伊斯兰教和欧盟，支持就“荷兰是否应该离开欧盟”举行全民公投。荷兰“明显右转”引起ASML的警惕。据报道，ASML在荷兰的总计2.3万名员工中，非荷兰籍员工占比约为40%，而留在荷兰就业的海外留学生是该公司主要劳动力来源之一。ASML首席执行官温宁克（Peter Wennink）此前曾警告称，该公司高度依赖熟练的外国劳工，并担心荷兰的商业环境正在恶化。今年1月，温宁克表示：“限制劳动力迁移的后果是巨大的，我们需要这些人进行创新。如果我们在这里找不到这些人，我们就去其他可以发展的地方。”此外，有内部人士透露，荷兰的住房短缺也是导致ASML有意搬离的原因之一。ASML首席执行官温宁克，视频截图就上述报道，ASML一名发言人向《电讯报》回应称：“很明显，我们必须继续增长。我们收到了很多关于如何做、怎么做和在哪里做的问题，但我们无法回应所有的谣言和猜测。”6日晚些时候接受路透社采访时，荷兰经济大臣阿德里安森斯（Micky Adriaansens）并未对上述报道作出回应。但她证实，她计划当天在荷兰海牙与ASML首席执行官温宁克举行谈判。“我不知道他们是否会离开荷兰，”阿德里安森斯坦承，“他们想要成长，想继续增长，而这一目标给我们的基础设施带来了压力”。她补充说：“这就是为什么我们进行了非常密集对话的原因。因为我们想知道，我们能解决这个问题吗？”公开资料显示，总部位于荷兰的ASML是欧洲第三大市值公司，市值接近3650亿欧元。去年，ASML实现了创纪录的276亿欧元营收，较2022年增长了30%，净利润激增至78亿欧元，增加了约22亿欧元。《电讯报》称，ASML离开或向海外扩张，对于荷兰来说都将是一个极其敏感的打击。近年来，对于荷兰商业环境的担忧正达到沸点，跨国公司壳牌和联合利华已先后离开了荷兰。彭博社认为，制造最先进芯片需要高度复杂的机器EUV光刻机，而ASML是世界上唯一一家能够提供最先进光刻机的公司，在中美“芯片竞争”加剧之际，该公司不仅具有巨大的经济价值，而且具有战略意义。 ... PC版： 手机版：

价值27亿元的ASML高数值孔径EUV光刻机组装画面公开

价值27亿元的ASML高数值孔径EUV光刻机组装画面公开 ASML预计今年能出货“数台”High NA EUV。 英特尔已下了订单，第一台设备已于去年12月送达该公司俄勒冈工厂，这台EUV可以制造8nm线宽电路，比前一代小1.7倍，从而实现晶体管密度提高至2.9倍。电路越细，芯片上的晶体管就越多，处理速度和表现就越佳。 ASML高管表示，该设备对人工智能（AI）发展至关重要。ASML CEO Peter Wennink上月受访时表示，AI需要“大量计算能力和数据储存。 如果没有ASML，没有ASML的技术，将无法实现。 这会是我们业务的一大驱动力。”ASML发言人莫尔斯（Monique Mols）2月10日在媒体参观该公司总部时说，安装这套重达15万公斤的系统，要用到250个货箱、250名工程师，且需耗时6个月。ASML从2018年开始销售的所谓low-NA（低数值孔径）光刻机设备NXE系列，标价是1.7亿欧元（约合13.16亿元人民币）。 ... PC版： 手机版：

芯片设备制造商阿斯麦（ASML）2月10日向媒体展示新一代极紫外光刻机（EUV），型号为：TWINSCAN EXE:5000。这

芯片设备制造商阿斯麦（ASML）2月10日向媒体展示新一代极紫外光刻机（EUV），型号为：TWINSCAN EXE:5000。这台光刻机大小约一辆双层巴士，重量约两架空客A320飞机、价值高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）。该设备对ASML在1250亿美元的EUV市场保持领导地位至关重要。 ASML预计今年能出货“数台”High NA EUV。 英特尔已下了订单，第一台设备已于去年12月送达该公司俄勒冈工厂，这台EUV可以制造8nm线宽电路，比前一代小1.7倍，从而实现晶体管密度提高至2.9倍。电路越细，芯片上的晶体管就越多，处理速度和表现就越佳。 ASML高管表示，该设备对人工智能（AI）发展至关重要。 ASML发言人莫尔斯（Monique Mols）2月10日在媒体参观该公司总部时说，安装这套重达15万公斤的系统，要用到250个货箱、250名工程师，且需耗时6个月 标签: #ASML #EUV #光刻机 频道: @GodlyNews1 投稿: @GodlyNewsBot

ASML：对中国出口管制已生效 NXT:2000i及以上光刻机无法发运

ASML：对中国出口管制已生效 NXT:2000i及以上光刻机无法发运 一是交付给中国客户的大部分光刻机设备都是基于2022年甚至更早的订单。过去几年，包括中国市场在内的全球光刻机订单交付率其实相对偏低，还不到50％，因此，当其他客户的需求时间节点发生变化时，ASML能够向中国客户交付已经预订的设备。正因为中国地区的交付量在增加，其他地区同时在减少，所以中国市场所占的ASML光刻机份额出现了相对明显的上升。二是发运到中国的光刻机设备主要针对成熟制程客户。Roger Dassen确认，荷兰和美国最新颁布的出口管制法规已经生效，ASML对出口管制的适用范围和影响，与政府做了进一步沟通。ASML预计，出口管制将会影响ASML 2024年中国市场10-15％的销售额，然而仍可看到终端市场对于成熟制程的需求依旧旺盛。这部分市场的需求很稳定，去年很稳定，未来也将继续保持稳定。可以预计的是，2024年，ASML将不会获得向中国发运NXT:2000i及以上浸润式光刻机设备的出口许可证。同时，个别中国先进芯片制造晶圆厂将无法获得发运NXT:1970i、NXT:1980i浸润式光刻机设备的出口许可证。 ... PC版： 手机版：

ASML正研发超级NA光刻机 2036年冲击0.2nm工艺

ASML正研发超级NA光刻机 2036年冲击0.2nm工艺 ASML第一代Low NA EUV光刻机只有0.33 NA(孔径数值)，临界尺寸(CD)为13.5nm，最小金属间距为26nm，单次曝光下的内连接间距约为25-30nm，适合制造4/5nm工艺。使用双重曝光，可将内连接间距缩小到21-24nm，就能制造3nm工艺了，比如台积电N3B。第二代EUV光刻机提高到了0.55 NA，临界尺寸缩小到8nm，金属间距最小约为16nm，可制造3-1nm，比如Intel就透露会在1.4nm节点上首次使用。ASML CTO Martin van den Brink在接受采访时确认，ASML正在调查开发Hyper NA技术，继续推进各项光刻指标，其中NA数值将超过0.7，预计在2030年左右完成。它表示，这种新型EUV光刻机适合制造逻辑处理器芯片，相比高NA双重曝光成本更低，也可用来制造DRAM内存芯片。ASML已披露的数据显示，低NA光刻机的成本至少1.83亿美元，高NA光刻机更是3.8亿美元起步。根据微电子研究中心(IMEC)的路线图，2030年左右应该能推进到A7 0.7nm工艺，之后还有A5 0.5nm、A3 0.3nm、A2 0.2nm，但那得是2036年左右的事儿了。 ... PC版： 手机版：