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大石头｜播客茶水间芯片3 | 日本芯片业崛起和光刻机突破 回溯上世纪日美芯片大战！挑战与应对的经典教训

美国要求荷兰对华禁售 ASML 光刻机，对芯片国产化影响有多大？

美国要求荷兰对华禁售 ASML 光刻机，对芯片国产化影响有多大？ 美国 官员正在游说荷兰当局，在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机（EUV）基础上，进一步将禁售范围扩大到上一代技术深紫外线浸没式（ArFi）DUV 光刻机的出口。

芯片设备制造商阿斯麦（ASML）2月10日向媒体展示新一代极紫外光刻机（EUV），型号为：TWINSCAN EXE:5000。这

芯片设备制造商阿斯麦（ASML）2月10日向媒体展示新一代极紫外光刻机（EUV），型号为：TWINSCAN EXE:5000。这台光刻机大小约一辆双层巴士，重量约两架空客A320飞机、价值高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）。该设备对ASML在1250亿美元的EUV市场保持领导地位至关重要。 ASML预计今年能出货“数台”High NA EUV。 英特尔已下了订单，第一台设备已于去年12月送达该公司俄勒冈工厂，这台EUV可以制造8nm线宽电路，比前一代小1.7倍，从而实现晶体管密度提高至2.9倍。电路越细，芯片上的晶体管就越多，处理速度和表现就越佳。 ASML高管表示，该设备对人工智能（AI）发展至关重要。 ASML发言人莫尔斯（Monique Mols）2月10日在媒体参观该公司总部时说，安装这套重达15万公斤的系统，要用到250个货箱、250名工程师，且需耗时6个月 标签: #ASML #EUV #光刻机 频道: @GodlyNews1 投稿: @GodlyNewsBot

台积电的光刻机安装了远程自毁功能

台积电的光刻机安装了远程自毁功能 世界最大的先进芯片代工厂台积电为其最先进光刻机来自荷兰 ASML 公司的极紫外光刻机安装了远程自毁功能，以防万一紧急情况下使用。据彭博社报道，此举是为了缓解美国的担忧。来源 ， 频道：@kejiqu 群组：@kejiquchat

锁死半导体发展的，也许不是光刻机而是电费

锁死半导体发展的，也许不是光刻机而是电费 EUV 光源的能源转换效率只有 0.02% 左右，耗电量是传统ArF光刻机的10倍。那些没被转换成极紫外光的99.98%电能，大都会转换成热量耗散而去，这又需要耗费大量电力去散热。 #阅读材料

ASML High NA EUV光刻机晶圆制造速度提升150% 可打印8nm线宽

ASML High NA EUV光刻机晶圆制造速度提升150% 可打印8nm线宽 根据ASML前总裁兼首席技术官、现任公司顾问的Martin van den Brink的说法，新的High NA EUV光刻机晶圆生产速度达到了每小时400至500片晶圆，是当前标准EUV每小时200片晶圆的2-2.5倍的速度，即提升了100%至150%，将进一步提升产能，并降低成本。现阶段经过进一步调整，ASML已经可用其试验性质High-NA EUV光刻机打印生产8nm线宽，这是的新纪录，这打破了该公司在4月初当时创下的记录。当时ASML宣布，已使用位于ASML荷兰总部与imec联合实验室的试验型High-NA EUV光刻机打印了10nm线宽。就发展路线来说，ASML的标准EUV光刻机可以打印13.5nm的线宽，而新的High-NA EUV光刻机则是可以通过打印8nm线宽来创建更小的晶体管。ASML现在已经证明其设备可以满足其基本规格。Martin van den Brink强调，ASML当前已经取得了进展，能够在整个打印线宽作业上将其低至8奈米记录，并进行校正，而且还具有一定程度的重叠覆盖。因此，ASML对High NA EUV光刻机的发展充满信心，预计未来将能够在突破其极限。而除了ASML自己在进行High NA EUV光刻机的测试之外，目前唯一安装完成High NA EUV光刻机的英特尔，也在美国俄勒冈州的D1X工厂投入测试工作。预计将在Intel 18A节点制程上进行技术的研发与训练工作，之后再将其投入到Intel 14A节点制程的大量生产当中。Martin van den Brink指出，ASML已经可以开发更新一代的Hyper-NA EUV光刻机了，以进一步扩展其High-NA EUV光刻机的潜在路线图。 ... PC版： 手机版：