ASML：对中国出口管制已生效 NXT:2000i及以上光刻机无法发运

ASML：对中国出口管制已生效 NXT:2000i及以上光刻机无法发运 一是交付给中国客户的大部分光刻机设备都是基于2022年甚至更早的订单。过去几年，包括中国市场在内的全球光刻机订单交付率其实相对偏低，还不到50％，因此，当其他客户的需求时间节点发生变化时，ASML能够向中国客户交付已经预订的设备。正因为中国地区的交付量在增加，其他地区同时在减少，所以中国市场所占的ASML光刻机份额出现了相对明显的上升。二是发运到中国的光刻机设备主要针对成熟制程客户。Roger Dassen确认，荷兰和美国最新颁布的出口管制法规已经生效，ASML对出口管制的适用范围和影响，与政府做了进一步沟通。ASML预计，出口管制将会影响ASML 2024年中国市场10-15％的销售额，然而仍可看到终端市场对于成熟制程的需求依旧旺盛。这部分市场的需求很稳定，去年很稳定，未来也将继续保持稳定。可以预计的是，2024年，ASML将不会获得向中国发运NXT:2000i及以上浸润式光刻机设备的出口许可证。同时，个别中国先进芯片制造晶圆厂将无法获得发运NXT:1970i、NXT:1980i浸润式光刻机设备的出口许可证。 ... PC版： 手机版：

【光刻机巨头ASML：此次出口许可证撤销对中国个别客户产生影响】

【光刻机巨头ASML：此次出口许可证撤销对中国个别客户产生影响】 近日，荷兰政府部分撤销了此前颁发的ASML相关DUV浸润式光刻机的出口许可证事宜引起外界关注。1月2日上午，记者从ASML获得的官方声明显示，荷兰政府部分撤销的是此前颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻机在2023年发货的出口许可证。ASML表示，这将对公司在中国的个别客户产生影响。同时，该公司预计此次出口许可证撤销及最新的 #美国 出口管制限制不会对2023年的财务情况产生重大影响。（证券时报）

光刻机巨头 ASML 中国员工人数已超 1500 人

光刻机巨头 ASML 中国员工人数已超 1500 人 IT之家 9 月 10 日消息，ASML 最新数据显示，截止到 8 月底，ASML 在华员工人数已超过 1500 人。 资料显示，1988 年，ASML 向中国市场交付了首台 ASML 步进式光刻机；2000 年，ASML 中国正式成立。目前，ASML 在中国设有 15 个办事处、11 个仓储物流中心、3 个开发中心、1 个培训中心以及 1 个维修中心。 ASML 是全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供综合性关键设备。今年 6 月，ASML 表示，为了支持中国业务的增长，今年将持续扩大中国团队，计划招聘 200 余名员工。 ASML 今年 1 月披露的数据显示，ASML 全球员工突破 3 万。在过去近两年的时间里，有超过 6000 名新员工加入了 ASML。其中，到 2021 年底，ASML 中国员工增加至 1300 多名。 财报显示，2022 年第二季度，ASML 实现净销售额 54 亿欧元（约 372.06 亿元人民币），毛利率为 49.1%，净利润达 14 亿欧元（约 96.46 亿元人民币）。ASML 总裁兼首席执行官 Peter Wennink 此前表示，ASML 预计 2022 年第三季度净销售额约为 51 亿欧元（约 351.39 亿元人民币）-54 亿欧元（约 372.06 亿元人民币），毛利率约为 49%-50%。 来自：雷锋 频道：@kejiqu 群组：@kejiquchat 投稿：@kejiqubot

ASML正研发超级NA光刻机 2036年冲击0.2nm工艺

ASML正研发超级NA光刻机 2036年冲击0.2nm工艺 ASML第一代Low NA EUV光刻机只有0.33 NA(孔径数值)，临界尺寸(CD)为13.5nm，最小金属间距为26nm，单次曝光下的内连接间距约为25-30nm，适合制造4/5nm工艺。使用双重曝光，可将内连接间距缩小到21-24nm，就能制造3nm工艺了，比如台积电N3B。第二代EUV光刻机提高到了0.55 NA，临界尺寸缩小到8nm，金属间距最小约为16nm，可制造3-1nm，比如Intel就透露会在1.4nm节点上首次使用。ASML CTO Martin van den Brink在接受采访时确认，ASML正在调查开发Hyper NA技术，继续推进各项光刻指标，其中NA数值将超过0.7，预计在2030年左右完成。它表示，这种新型EUV光刻机适合制造逻辑处理器芯片，相比高NA双重曝光成本更低，也可用来制造DRAM内存芯片。ASML已披露的数据显示，低NA光刻机的成本至少1.83亿美元，高NA光刻机更是3.8亿美元起步。根据微电子研究中心(IMEC)的路线图，2030年左右应该能推进到A7 0.7nm工艺，之后还有A5 0.5nm、A3 0.3nm、A2 0.2nm，但那得是2036年左右的事儿了。 ... PC版： 手机版：

ASML年底前仍可向中国交付部分高端光刻机

ASML年底前仍可向中国交付部分高端光刻机 荷兰对华出口管制措施生效之际，半导体设备制造巨头阿斯麦（ASML）确认，公司已获得荷兰政府的许可，可以在今年年底前继续向中国客户交付部分高端光刻系统。 据路透社报道，ASML发言人星期四（8月31日）说，ASML将能今年剩余时间内，继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV设备到中国。 根据荷兰政府6月宣布的针对先进半导体制造设备的最新出口管制措施，这些产品的出口从9月1日起将受到限制。 使用深紫外光谱光波的光刻机（DUV设备）是 ASML 的第二级产品线，其最先进的“极紫外”（EUV）设备从未出售给中国客户。 不过，ASML发言也说，公司从2024年1月1日起将不太可能再获得相关的出口许可证，以继续向中国客户发货，而客户对此也知悉。 ASML此前曾称，预计荷兰的对华出口管制条例不会对公司2023年财务展望或长期展望产生实质性影响。

ASML 正在开发 Hyper-NA EUV 光刻机

ASML 正在开发 Hyper-NA EUV 光刻机 Van den Brink进一步强调了Hyper-NA EUV工具的重要性，指出它能够简化复杂的双重图案工艺，降低生产难度。他解释说，这种高分辨率工具的可用性对于半导体制造行业至关重要。 ASML 正在规划 0.77 NA 的 EUV 光刻机 ASML首席技术官Martin van den Brink在ASML 2023年年度报告中写道：“NA高于0.7的Hyper-NA无疑是一个机会，从2030年左右开始，这种机会将变得更加明显。”“它可能与Logic最相关，并且需要比“高NA EUV”双图案化更实惠，但它也可能是DRAM的一个机会。对我们来说，关键是Hyper-NA正在推动我们的整体EUV能力平台，以改善成本和交货时间。” 台积电 “冷落” High-NA EUV 光刻机启示录 尤其是在当下大陆在EUV光刻机获取全面受阻的情况下，李弈建议，台积电通过深入挖掘现有EUV光刻机的潜力，可支撑未来的1.6nm工艺，而大陆代工业如何借助DUV光刻机向7nm乃至下一步5nm制程发起冲刺应当有希望，应着力在光刻胶、光罩、多重曝光技术等领域持续创新突破，以全面提升利用DUV实现更先进制程的可能性。