华为测试蛮力方式制造更先进的芯片

华为测试蛮力方式制造更先进的芯片 华为公司和中国一家秘密的芯片制造合作伙伴已为一种低技术但可能有效的先进半导体制造方法申请了专利。根据提交的专利申请，这两家公司正在开发涉及自对准四重成像 (SAQP) 的技术，这可能使他们无需 ASML 最先进的 EUV 光刻设备即可生产先进芯片。国资背景的硅开利、北方华创也在探索 SAQP 技术。尽管美国试图阻止中国制造先进芯片，但该方法仍有可能帮助中国使用过时工具制造某些 5nm 芯片。该技术曾在 10nm 以前的工艺中使用，但因为多重步骤带来制造成本上升和良率下降，在 7nm 以后的先进制程节点中现已被 EUV 全面替代。

美国芯片管控引ASML吐槽：倒逼中国厂商造出更先进光刻机

美国芯片管控引ASML吐槽：倒逼中国厂商造出更先进光刻机 过去一段时间，美国一直在向荷兰施压，以阻止中国获得关键的半导体技术。去年，荷兰政府宣布了新的半导体设备出口管制措施，主要针对先进制程的芯片制造技术，阿斯麦首当其冲。根据ASML今年1月1日发布的声明，荷兰政府撤销的是2023年颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的出口许可证，“此禁令将影响少数在华客户”。为进一步遏制中国的科技发展，美国日前还要求荷兰政府对中国境内部分阿斯麦设备的维修服务增加限制。中国已连续三个季度成为ASML最大市场，今年第一季度，对华出口占到ASML系统销售额的49%。ASML十分担忧对华出口进一步受限。公司CEO甚至表示，限制措施会让中国更有动力开发自己的高端技术（光刻机），“施加的限制越多，就越会促使对方自力更生。”相关文章:ASML：EUV技术领域不会面临中国公司的竞争 ... PC版： 手机版：

荷兰先进光刻机制造商获准在年底前向中国运送受限的芯片制造设备

荷兰先进光刻机制造商获准在年底前向中国运送受限的芯片制造设备 ASML Holding NV表示，尽管出口限制从 9 月份开始实施，但该公司已获得在今年年底之前向中国运送受限制芯片制造机器的许可。 ASML 发言人周四表示，这家欧洲最有价值的科技公司预计不会从 1 月份起获得向中国出口三款先进浸没式深紫外光刻机 (DUV) 型号的出口许可证。

ASML年底前仍可向中国交付部分高端光刻机

ASML年底前仍可向中国交付部分高端光刻机 荷兰对华出口管制措施生效之际，半导体设备制造巨头阿斯麦（ASML）确认，公司已获得荷兰政府的许可，可以在今年年底前继续向中国客户交付部分高端光刻系统。 据路透社报道，ASML发言人星期四（8月31日）说，ASML将能今年剩余时间内，继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV设备到中国。 根据荷兰政府6月宣布的针对先进半导体制造设备的最新出口管制措施，这些产品的出口从9月1日起将受到限制。 使用深紫外光谱光波的光刻机（DUV设备）是 ASML 的第二级产品线，其最先进的“极紫外”（EUV）设备从未出售给中国客户。 不过，ASML发言也说，公司从2024年1月1日起将不太可能再获得相关的出口许可证，以继续向中国客户发货，而客户对此也知悉。 ASML此前曾称，预计荷兰的对华出口管制条例不会对公司2023年财务展望或长期展望产生实质性影响。

【光刻机巨头ASML回应 #美国 出口管制新规：受影响的中国大陆晶圆厂数量有限】

【光刻机巨头ASML回应 #美国 出口管制新规：受影响的中国大陆晶圆厂数量有限】 美国政府周二颁布了更新后的关于先进计算和半导体制造设备规则，增加了对先进芯片制造技术的出口限制。这些规定将在30天后生效。对此，荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在给《中国日报》的声明中表示，“根据目前收到的信息，我们认为适用该新规的涉及先进芯片制造的中国大陆晶圆厂数量有限。”ASML表示鉴于新规的篇幅和复杂性，它需要仔细评估潜在的影响。

荷兰政府已经对华禁售该国最先进的半导体设备极深紫外光刻机。但美国鼓励荷兰同样限制深紫外线光刻机这一稍欠先进的系统。

荷兰政府已经对华禁售该国最先进的半导体设备极深紫外光刻机。但美国鼓励荷兰同样限制深紫外线光刻机这一稍欠先进的系统。 两国政府面临的问题还包括他们是否像美国那样，拥有颁布限制措施的法律权威，以及关于限制哪些技术的广泛专业讨论。