佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML

佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML "我们希望在今年或明年......趁着市场热度开始出货。"佳能负责纳米压印光刻技术开发的工业部门负责人竹西宏明（Hiroaki Takeishi）说："这是一项非常独特的技术，它将使尖端芯片的生产变得简单而低成本。纳米压印光刻机的半导体节点宽度为 5 纳米，目标是最终达到 2 纳米。"Takeishi 说，这项技术主要解决了以前的缺陷率问题，但成功与否将取决于能否说服客户将其集成到现有的制造工厂是值得的。有人怀疑佳能是否有能力扰乱由 ASML 昂贵但复杂的极紫外（EUV）光刻工具引领的市场。然而，如果纳米压印能以更低的成本将产量提高到近 90%，它就能开辟出一片天地，尤其是在极紫外光供应难以满足激增的需求的情况下。据称，佳能的纳米压印设备成本仅为 ASML 设备的 40%，而运行功耗却降低了 90%。佳能最初专注于用此技术生产 3D NAND 存储器芯片，而不是复杂的处理器，因此同样需要应对限制对华销售的出口管制。Takeishi 表示，佳能将 "谨慎关注"制裁风险，但由于可选方案不多。佳能的纳米压印技术经过 15 年多的研发，如果能成功实现商业化应用，将能改变竞争格局，使新的竞争者能够以更低的成本生产领先的半导体产品。但是，新机器的缺陷率、集成挑战和地缘政治阻力能否让佳能在与芯片制造巨头的竞争中脱颖而出，还有待观察。 ... PC版： 手机版：

ASML年底前仍可向中国交付部分高端光刻机

ASML年底前仍可向中国交付部分高端光刻机 荷兰对华出口管制措施生效之际，半导体设备制造巨头阿斯麦（ASML）确认，公司已获得荷兰政府的许可，可以在今年年底前继续向中国客户交付部分高端光刻系统。 据路透社报道，ASML发言人星期四（8月31日）说，ASML将能今年剩余时间内，继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV设备到中国。 根据荷兰政府6月宣布的针对先进半导体制造设备的最新出口管制措施，这些产品的出口从9月1日起将受到限制。 使用深紫外光谱光波的光刻机（DUV设备）是 ASML 的第二级产品线，其最先进的“极紫外”（EUV）设备从未出售给中国客户。 不过，ASML发言也说，公司从2024年1月1日起将不太可能再获得相关的出口许可证，以继续向中国客户发货，而客户对此也知悉。 ASML此前曾称，预计荷兰的对华出口管制条例不会对公司2023年财务展望或长期展望产生实质性影响。

ASML正在开发hyper-NA EUV光刻机

ASML正在开发hyper-NA EUV光刻机  他表示，在未来十年内，ASML将构建一个集成低数值孔径、高数值孔径和超数孔径EUV系统的单一平台。 这一举措被视为减少工艺步骤数量、降低晶圆加工成本和能源消耗的关键。Van den Brink进一步强调了Hyper-NA EUV工具的重要性，指出它能够简化复杂的双重图案工艺，降低生产难度。他解释说，这种高分辨率工具的可用性对于半导体制造行业至关重要。值得注意的是，高数值孔径EUV（high-NA）光刻技术目前正处于起步阶段。ASML自去年12月开始出货高数值孔径工具，目前仅英特尔一家采用，而台积电则表示短期内不会采用。为了推动该技术的研发和应用，ASML将在几周内正式在费尔德霍芬开设高数值孔径实验室，该实验室将与Imec共同运营，为芯片制造商提供该工具的早期使用权。事实上，该实验室的系统已经投入使用，并成功打印了有史以来第一个10纳米线阵图案。据Van den Brink的最新更新，该系统已经能够产生8nm线阵图案，接近该工具的最大分辨率。这一成果进一步证明了ASML在EUV光刻技术领域的领先地位和持续创新的能力。 ... PC版： 手机版：