ASML正在开发hyper-NA EUV光刻机

ASML正在开发hyper-NAEUV光刻机 他表示，在未来十年内，ASML将构建一个集成低数值孔径、高数值孔径和超数孔径EUV系统的单一平台。这一举措被视为减少工艺步骤数量、降低晶圆加工成本和能源消耗的关键。VandenBrink进一步强调了Hyper-NAEUV工具的重要性，指出它能够简化复杂的双重图案工艺，降低生产难度。他解释说，这种高分辨率工具的可用性对于半导体制造行业至关重要。值得注意的是，高数值孔径EUV（high-NA）光刻技术目前正处于起步阶段。ASML自去年12月开始出货高数值孔径工具，目前仅英特尔一家采用，而台积电则表示短期内不会采用。为了推动该技术的研发和应用，ASML将在几周内正式在费尔德霍芬开设高数值孔径实验室，该实验室将与Imec共同运营，为芯片制造商提供该工具的早期使用权。事实上，该实验室的系统已经投入使用，并成功打印了有史以来第一个10纳米线阵图案。据VandenBrink的最新更新，该系统已经能够产生8nm线阵图案，接近该工具的最大分辨率。这一成果进一步证明了ASML在EUV光刻技术领域的领先地位和持续创新的能力。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1431859.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1431859.htm

ASML 首次公开展示 High NA EUV 光刻机

ASML首次公开展示HighNAEUV光刻机2月10日，ASML在荷兰总部向媒体展示新一代HighNAEUV光刻机TwinscanEXE:5000。这台光刻机尺寸等同于一台双层巴士；重达150吨，相当于两架空客A320客机；价值高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）；全套系统需要250个货箱装运，需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成，不仅价格高昂也相当耗时。TwinscanEXE:5000可以制造8nm线宽电路，从而实现晶体管密度比前一代提高至2.9倍。https://laoyaoba.com/n/893942

光刻机巨头ASML：没有向中国市场推出特别版光刻机

光刻机巨头ASML：没有向中国市场推出特别版光刻机一周前，荷兰政府正式宣布限制某些先进半导体设备出口的新规，这些规定将于9月1日生效。具体而言，荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。尽管荷兰政府并未直接点名会受到限制的公司，但外界都明白这是在针对当地最出名的半导体设备公司ASML。彼时，ASML回应观察者网表示，根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。ASML在声明中重点指出，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统（DUV，深紫外光刻）。而该公司的EUV光刻（极紫外光刻）系统在此前已经受到限制，其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。ASML受出口管制的光刻机型号在荷兰政府宣布新的半导体出口管制条例后，中国驻荷兰大使馆6月30日很快做出回应：荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中方对此坚决反对。“我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，立即纠正错误做法。中方将坚决维护自身合法权益。同时，也愿与荷方一道，本着互利互惠的原则，共同探讨解决方案，共同推动中荷经贸关系健康发展。”中国驻荷兰大使馆发言人表示。ASML方面也早就对出口管制做出过警示。今年2月，在接受欧洲媒体采访时，ASML首席执行官温彼得直言，如果美国及其盟友切断中国（大陆）获得某些半导体和半导体制造技术的渠道，中国将被迫加倍努力开发自主技术。他坦言，虽然出口管制是合法工具，但不应该被滥用，决策者在“摆弄”半导体供应链之前应充分了解它的复杂性。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369555.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1369555.htm

ASML、中芯国际双双“表态” EUV光刻机出货正常

ASML、中芯国际双双“表态”EUV光刻机出货正常https://tech.sina.com.cn/it/2019-11-07/doc-iicezuev7914031.shtmlASML相关负责人强调：“实际上在我们第三季度财报中，就已经将相关情况进行说明，根据瓦圣纳协议（WassenaarArrangement），ASML出口EUV到中国需取得荷兰政府的出口许可（exportlicense）。该出口许可于今年到期，ASML已经于到期前重新进行申请，目前正在等待荷兰政府核准。因此，关于“ASML决定延迟/终止出货”的说法是错误的，ASML系遵循法规行事，并一视同仁地服务我们全球客户。”

ASML今年将出货60台EUV光刻机 全球只有5家客户

ASML今年将出货60台EUV光刻机全球只有5家客户虽然没有提到具体的名单，但是台积电、三星、Intel这三家是没跑的，他们的逻辑工艺现在都是要用到EUV光刻机的。还有2家应该是内存芯片厂商了，三星这部分已经在14nmDRAM内存上使用EUV光刻了，SK海力士也跟进了，美光之前的表态相对保守一些，但迟早也会上EUV光刻机来生产内存芯片。虽然只有5家客户，但是最近几年对EUV光刻机的需求提升很快，ASML预计今年会出货60台EUV光刻机，而DUV光刻机达到375台，数量依然远高于EUV。毕竟EUV光刻机售价昂贵，单价在1.5到2亿美元，人民币超过10亿元。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1345573.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1345573.htm

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺必备 售价直逼30亿

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺必备售价直逼30亿根据ASML公司高管日前透露的消息，NA=0.55的EUV光刻机今年底会出货首个商用原型，2025年会正式量产。他没有公布具体哪家公司会首发NA=0.55光刻机，但之前英特尔公司表示他们会率先使用下代EUV光刻机，已经巨资提前下单。按照2025年出货的时间点来看，台积电、英特尔、三星的2nm级别工艺是赶不上的，最快也要到1.4nm工艺才能用上NA=0.55光刻机，未来生产1nm工艺则是不可少的设备。伴随技术提升的还有售价，由于更加复杂、精密，NA=0.55的EUV光刻机价格大幅上涨，具体多少不确定，此前消息称不低于4亿美元，人民币接近30亿元了，是现在的2-3倍。这还不排除未来正式商用的时候价格进一步上涨，毕竟还要好几年才能上市。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1365835.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1365835.htm