佳能CEO：可绕过EUV量产5nm的纳米压印设备无法出口到中国

佳能CEO：可绕过EUV量产5nm的纳米压印设备无法出口到中国但是，佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示，该设备无法出口到中国。尖端制程严重依赖EUV光刻机总部位于荷兰的ASML是目前全球最大的光刻机厂商，同时也是全球唯一的极紫外光刻设备供应商。EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备，每台成本高达数亿美元。虽然目前在光刻机市场，还有尼康和佳能这两大供应商，但是这两家厂商的产品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市场份额仅有10%左右，ASML一家占据了90%的市场份额，并垄断了尖端的EUV光刻机的供应。目前7nm以下的先进制程芯片的大规模生产主要都是依赖于ASML的EUV光刻机，但只有少数现金充裕的公司才有能力投资购买这些EUV光刻机。即便如此，EUV光刻机仍因为其在尖端芯片制造供应链中的关键地位而一直受到出口管制审查。多年前，美国就有向其盟友——荷兰施压，要求其限制EUV设备出口到中国。今年6月30日，荷兰政府正式出台了新的半导体出口管制措施，ASML被禁止向中国客户出口EUV系统以及先进的浸没式DUV系统。这也意味着中国想要突破到5nm，甚至更尖端的制程工艺将会面临极大的困难。绕过EUV，佳能纳米压印技术可量产5nm今年10月中旬，佳能公司宣布开始销售基于“纳米压印”（Nanoprintedlithography，NIL）技术的芯片生产设备FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。此前佳能一直专注于制造不太先进光刻机产品。直到2014年，佳能收购了MolecularImprints股份有限公司，开始押注纳米压印技术。近十年来，佳能一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社（DNP）和存储器芯片制造商铠侠（Kioxia）合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。佳能表示，这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML的光刻机不同，其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。相较于目前已商用化的EUV光刻技术，尽管纳米压印技术的芯片制造速度要比传统光刻方式慢，但铠侠在2021年就曾表示，纳米压印技术可大幅减少耗能，并降低设备成本。原因在于纳米压印技术的制程较为简单，耗电量可压低至EUV技术的10%，并让设备投资降低至仅有EUV设备的40%。佳能首席执行官三井藤夫在最新的采访中表示，这项新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路。“价格将比ASML的EUV光刻机低一位数（即仅有10%）”这位88岁的老人上一次退出日常运营是在2016年，现在是他第三次担任佳能公司总裁。他补充说，佳能尚未做出最终定价决定。另外，纳米压印设备还可以使得芯片制造商降低对于ASML的EUV光刻机的依赖，使得台积电、三星等晶圆代工厂可以有第二个路线选择，可以更灵活的为客户生产小批量芯片。甚至，芯片设计厂商可以不依赖于晶圆代工厂来自己生产小批量的芯片。因为NAND闪存的图形更为简单，因为其采取是多层几乎相同的层的堆叠，所以更容易适应基于纳米压印的技术制程。铠侠数年前就表示，已解决纳米压印的基本技术问题，正在进行量产技术的推进工作，希望能较其他竞争对手率先引入到NAND生产当中。但随后的消息显示，铠侠在对纳米压印技术进行测试之后，遭到了潜在客户提出的投诉，认为产品缺陷率较高，最后并未实际应用。另外，相对于更为复杂的，逻辑芯片来说，应用纳米压印技术的来制造还是面临着很多的挑战。不过，佳能在推动纳米技术量产NAND的同时，也致力于将纳米压印量产技术广泛的应用于制造DRAM及PC用的CPU等逻辑芯片的设备上，以在未来供应多的半导体制造商，也希望能应用于手机应用处理器等最先进制程上。据了解，佳能目前正在日本东京北部的宇都宫建造20年来第一家新的光刻设备工厂，将于2025年上线。佳能最新发布的这套纳米压印设备可以应用于最小14平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于5nm工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产2nm芯片。对于纳米压印技术市场前景，三井藤夫说：“我不认为纳米压印技术会超过EUV，但我相信这将创造新的机会和需求。我们已经接到了很多客户的咨询。”纳米压印设备无法出口到中国受美国及荷兰出台对于先进半导体设备的出口管制影响，国内业界对于佳能最新推出基于纳米压印技术的芯片制造设备可以绕过EUV生产5nm充满了兴趣，认为这可能会是一条能够绕过美国限制制造更先进制程芯片的路径。虽然在今年7月日本实施了新的半导体出口管制措施，限制了可以被用于先进制程的浸没式光刻机的出口，其中似乎并未新增对于限制基于纳米压印技术的光刻机的出口。但是事实上，芯智讯查阅日本的出口管制清单，当中就有限制“可实现45nm以下线宽的压印光刻装置”。佳能CEO三井藤夫也在最新的采访中表示，佳能可能无法将这些（基于纳米压印技术的）芯片制造设备出口到中国。“我的理解是，任何超过14nm技术的出口都是被禁止的，所以我认为我们无法销售。”日本经济省的一名官员表示，他无法评论出口限制将如何影响特定的公司或产品。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1395023.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1395023.htm

非光刻方案，佳能开始销售 5nm 芯片生产设备

非光刻方案，佳能开始销售5nm芯片生产设备佳能（Canon）公司近日发布，开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小14平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于5nm工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产2nm芯片。来源，频道：@kejiqu群组：@kejiquchat

佳能推出纳米压印技术 挑战阿斯麦EUV霸主地位

佳能推出纳米压印技术挑战阿斯麦EUV霸主地位佳能预计，随着技术的持续进步和优化，其设备将有望实现下一代2纳米的生产水平，该公司周五在一份声明中说。与竞争对手尼康一样，佳能在EUV竞争中已经落后于阿斯麦，但其纳米压印光刻方法可能有助于公司缩小差距。佳能的设备也可能在美中贸易战中开辟一个新的战场，因为目前唯一可靠的制造5纳米及以下芯片的方法（EUV机器）被贸易制裁禁止进入中国。而日本公司的技术则完全省略了光刻过程，而是直接将所需的电路图案压印到硅片上。由于其创新性，它不太可能被现有的贸易限制所禁止。目前，佳能的发言人拒绝对新设备是否受到日本出口限制发表评论。纳米压印光刻技术长期以来承诺提供一种低成本的光刻替代方案，并曾经得到了SK海力士和ToshibaCorp等存储芯片制造商的推广。东芝的前存储部门Kioxia在佳能的纳米压印机器达到商业成熟之前就对其进行了测试。佳能现在必须证明它已经解决了过去遇到的问题，如缺陷率高等。阿斯麦是欧洲最有价值的科技公司，已经连续五个季度实现收入增长和订单激增。这家总部位于荷兰Veldhoven的公司是世界领先芯片制造商的首选EUV供应商，并预计今年净销售额将增长30%。佳能股价今年已经上涨了26%，受益于日本股市的整体上涨，以及人工智能应用带来的芯片制造设备需求增加。佳能迄今为止主要专注于用于制造较不先进芯片的产品，在2014年收购了纳米压印先驱MolecularImprintsInc．，并花了近十年时间研发该技术。作为台积电（TSM.US）的供应商，佳能正在东京北部宇都宫市建造其二十年来第一个新的光刻设备工厂，预计将于2025年投入运营。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1389773.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1389773.htm

佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML

佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML"我们希望在今年或明年......趁着市场热度开始出货。"佳能负责纳米压印光刻技术开发的工业部门负责人竹西宏明（HiroakiTakeishi）说："这是一项非常独特的技术，它将使尖端芯片的生产变得简单而低成本。纳米压印光刻机的半导体节点宽度为5纳米，目标是最终达到2纳米。"Takeishi说，这项技术主要解决了以前的缺陷率问题，但成功与否将取决于能否说服客户将其集成到现有的制造工厂是值得的。有人怀疑佳能是否有能力扰乱由ASML昂贵但复杂的极紫外（EUV）光刻工具引领的市场。然而，如果纳米压印能以更低的成本将产量提高到近90%，它就能开辟出一片天地，尤其是在极紫外光供应难以满足激增的需求的情况下。据称，佳能的纳米压印设备成本仅为ASML设备的40%，而运行功耗却降低了90%。佳能最初专注于用此技术生产3DNAND存储器芯片，而不是复杂的处理器，因此同样需要应对限制对华销售的出口管制。Takeishi表示，佳能将"谨慎关注"制裁风险，但由于可选方案不多。佳能的纳米压印技术经过15年多的研发，如果能成功实现商业化应用，将能改变竞争格局，使新的竞争者能够以更低的成本生产领先的半导体产品。但是，新机器的缺陷率、集成挑战和地缘政治阻力能否让佳能在与芯片制造巨头的竞争中脱颖而出，还有待观察。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1414931.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1414931.htm

台积电5nm制程出现过剩 EUV都要关掉4台

台积电5nm制程出现过剩EUV都要关掉4台前不久AMD正式发布了锐龙7000处理器，定于9月27日开始上市，6核售价299美元起，16核的锐龙97950X还降价了100美元，性价比大增。由于上一代的锐龙5000发布之后没多久就遭遇产能危机，导致产品缺货、涨价，玩家至今都心有余悸，锐龙7000这次又上了更先进的5nm工艺，缺货问题是否重演？AMD的回应是不会，CEO苏姿丰之前在采访中就已经确认，这一次AMD在晶圆、基板以及后端方面都大幅提升了产能，随着Zen4的推出，预计不会出现任何供应限制的问题。AMD这次为何敢拍胸脯保证不会缺货？实际上也跟台积电有极大关系，因为时代变了，之前两年是芯片缺产能，然而今年下半年开始市场需求不足，芯片产能又大增，台积电现在要发愁的是5nm产能利用率。来自供应链的消息称，由于5nm芯片的利用率下降，台积电不得不考虑关闭部分EUV光刻机，该公司总计拥有大约80台EUV光刻机，计划今年底关闭其中的4台，毕竟EUV光刻机日耗电3万度，运行成本很高。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1312435.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1312435.htm

台积电3nm量产 刘德音：良率与5nm量产同期相当

台积电3nm量产刘德音：良率与5nm量产同期相当台积电表示，其3nm制程技术性能、功耗及面积(PPA)及晶体管体技术为业界最先进半导体逻辑制程技术，是继5nm(N5)制程后另一个全新世代制程。相较N5制程，3nm逻辑密度增加约60%，或相同速度下功耗降低30%~35%，并支持创新的TSMCFINFLEXTM架构。预计，3nm技术将会应用在超级计算机、云端、数据中心、高速网际网络，及许多移动装置，包括未来的AR、VR产品。刘德音致词时表示，台积电保持技术领先，同时深耕台湾，持续投资并与环境共荣，3nm量产暨扩厂典礼展现台积电在台湾发展先进技术及扩充先进产能的具体作为，与供应链上下游一同成长，培养未来人才，从设计到制造、封装测试、从设备、到材料，为世界释放最具竞争力的先进制程技术、可靠的产能驱动未来科技的创新。据了解，台积电位于南部科学园区晶圆18厂为台积电生产5nm及3nm制程技术的超大晶圆厂(GIGAFABFacilities)。该厂区投资金额总计超过新台币18,600亿元，创造逾23,500个营建工作机会，以及超过11,300个直接高科技工作机会。台积电除了台湾持续扩建3nm产能，美国第二期建厂亦同步展开。台积电预估3nm制程技术量产第一年收入优于2020年5nm量产时收益，预计3nm制程技术将在量产5年内释放全世界约1.5万亿美元终端产品价值。刘德音在致词时还透露，台积电南科厂区，包括六厂、十四厂、十八厂，同时有来自南科再生水厂的水资源供应，将逐步达成2030年再生水替代率60%的目标；台积电目前使用20%再生能源，并将达到2050年采用100%再生能源与净零排放的永续目标。值得一提的是，台积电全球研发中心将于2023年第二季在新竹科学园区开幕，可进驻8000位研发人员，准备中的2nm晶圆厂分别落址新竹与中部科学园区，共计六期工程皆依计划进展。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1336801.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1336801.htm