英特尔包圆 ASML 初始产能,获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机

英特尔包圆ASML初始产能,获得今年全部高数值孔径EUV光刻机https://www.ithome.com/0/766/399.htmTheElec表示,ASML截至明年上半年绝大部分高数值孔径EUV设备的订单已经由英特尔承包,包括今年计划生产的五套设备将全部运给这家美国芯片制造商。———2023-12-222024-04-18

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英特尔包揽ASML High-NA EUV初期产能

英特尔包揽ASMLHigh-NAEUV初期产能TheElec获悉,ASML截至明年上半年的高数值孔径EUV(High-NAEUV)设备订单由英特尔全部包揽,因此三星和SK海力士明年下半年后才能获得设备。消息人士称,ASML的高数值孔径EUV设备产能每年约为五至六台,这意味着英特尔将获得所有初始产能。他们还表示,英特尔在宣布重新进入芯片代工业务时抢先购买了这些设备。ASML的高数值孔径EUV设备是芯片制造商制造2nm工艺节点芯片的必备设备,每台设备的成本超过5000亿韩元。——

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消息称英特尔包揽 ASML High-NA EUV 初期产能 单台成本超 26 亿元

消息称英特尔包揽ASMLHigh-NAEUV初期产能单台成本超26亿元ASML截至2025上半年的高数值孔径EUV(High-NAEUV)设备订单由英特尔全部包揽,因此三星和SK海力士2025下半年后才能获得设备。消息人士称,ASML的高数值孔径EUV设备产能每年约为五至六台,这意味着英特尔将获得所有初始产能。他们还表示,英特尔在宣布重新进入芯片代工业务时抢先购买了这些设备。ASML的高数值孔径EUV设备是芯片制造商制造2nm工艺节点芯片的必备设备,每台设备的成本超过5000亿韩元(当前约26.47亿元人民币)。

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ASML正在开发hyper-NA EUV光刻机

ASML正在开发hyper-NAEUV光刻机 他表示,在未来十年内,ASML将构建一个集成低数值孔径、高数值孔径和超数孔径EUV系统的单一平台。这一举措被视为减少工艺步骤数量、降低晶圆加工成本和能源消耗的关键。VandenBrink进一步强调了Hyper-NAEUV工具的重要性,指出它能够简化复杂的双重图案工艺,降低生产难度。他解释说,这种高分辨率工具的可用性对于半导体制造行业至关重要。值得注意的是,高数值孔径EUV(high-NA)光刻技术目前正处于起步阶段。ASML自去年12月开始出货高数值孔径工具,目前仅英特尔一家采用,而台积电则表示短期内不会采用。为了推动该技术的研发和应用,ASML将在几周内正式在费尔德霍芬开设高数值孔径实验室,该实验室将与Imec共同运营,为芯片制造商提供该工具的早期使用权。事实上,该实验室的系统已经投入使用,并成功打印了有史以来第一个10纳米线阵图案。据VandenBrink的最新更新,该系统已经能够产生8nm线阵图案,接近该工具的最大分辨率。这一成果进一步证明了ASML在EUV光刻技术领域的领先地位和持续创新的能力。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1431859.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1431859.htm

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3.8 亿美元!ASML 今年将向台积电交付最新光刻机

3.8亿美元!ASML今年将向台积电交付最新光刻机有消息称,ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机,单台造价达3.8亿美元。ASML首席财务官RogerDassen在最近的一次电话会议上告诉分析师,公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统。英特尔此前已经订购了最新的高NAEUV设备,第一台设备已于12月底运往俄勒冈州的一家工厂。此前Jefferies分析师预计,今年剩余三个季度ASML的平均订单可能在57亿欧元左右,将推动2025年销售额达到400亿欧元。(一财科技)

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阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机,买家身份成谜

阿斯麦向客户交付第二台HighNAEUV光刻机,买家身份成谜https://www.ithome.com/0/762/592.htm然而,ASML对买家身份讳莫如深,只能猜测其身份,路透社指出英特尔、台积电和三星都是潜在客户。事实上,英特尔已经购买了首台高数值孔径EUV光刻机,用于其即将推出的14A制程节点。正如ASML在提交给美国证券交易委员会的文件(第13页)中提到的,英特尔在2024年初于其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂接收了首台TWINSCANEXE:5200系统。台积电和三星也已经确认有意采用ASML的高数值孔径EUV光刻机。

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ASML最先进光刻机今年产能被英特尔买完 单台售价超25亿元

ASML最先进光刻机今年产能被英特尔买完单台售价超25亿元按照消息人士的说法,由于上述EUV设备产能每年约为5到6台,这意味着英特尔将获得所有初始库存。这也导致,英特尔的竞争对手三星和SK海力士预计将在明年下半年才能获得该设备。High-NAEUV光刻机能够在半导体上蚀刻出仅8nm宽的线条,是上一代产品的1/1.7。更细的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管,从而实现更快的处理速度和更高的存储容量,这对于人工智能工作负载至关重要。这台EUV已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂,英特尔计划在2025年年底开始使用该系统进行生产。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1430061.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1430061.htm

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