获“无限期豁免”后 三星西安工厂将升级236层NAND技术

获“无限期豁免”后三星西安工厂将升级236层NAND技术△三星1TbitGen8V-NAND芯片报道引用消息人士的说法指出,三星已开始预定和购买最新的半导体设备以用于接下来的制程转换动作。预计,新设备将在2023年底交货,并在2024年于西安工厂陆续引进可生产三星第8代V-NAND的技术,堆叠层数将达到236层,相比其第7代V-NAND的176层数增长了34%。这也被业界视为在当前全球NANDFlash闪存需求疲软,导致产能下降的应对计划。根据公开数据显示,三星中国半导体有限公司在2012年正是落脚中国西安高新区。其中,三星半导体西安工厂是该公司唯一的海外内存半导体生产基地,于2014年开始运营,并在2020年增建第二座工厂后,主要以生产128层堆叠NANDFlash闪存为主,月产能达20万片12寸晶圆,占三星NANDFlash产总量的40%以上。资料显示,三星在中国大陆的西安、苏州拥有存储芯片工厂。其中,西安工厂是三星在华最大投资项目,主要制造3DNAND闪存芯片。三星中国西安工厂的第一期工程投资108.7亿美元,而在2017年开始,三星开始展开第二期工程,两期工程先后共投资了150亿美元。目前,三星西安工厂月产能将达到26.5万张12英寸晶圆,占三星全球NAND闪存芯片总产量的42%。2022年,三星半导体西安工厂产值将突破1000亿元人民币。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1391579.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1391579.htm

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三星将升级西安工厂NAND芯片工艺至236层

三星将升级西安工厂NAND芯片工艺至236层报道显示,三星已开始采购最新的半导体设备,新设备预计将在2023年底交付,并于2024年在西安工厂陆续引进可生产236层(第8代)NAND的设备。三星决定升级其西安工厂的原因主要由两个:第一个原因是三星想要在目前尚未复苏的NAND芯片市场继续保持全球领先地位。从去年年底开始的半导体市场疲软影响到了三星NAND业务,即便是4月开始采取减产措施后也没有明显改变。因此三星选择了升级工艺来确保产品的竞争力和价格,毕竟比起第6代NAND技术,第8代新技术的晶圆投入减少了30%左右,更能平衡市场供需。再加上由于三星的减产措施,其西安工厂的整体开工率也是大幅下降到了20%左右。另一个原因就是美国的无限期豁免。三星西安工厂是其唯一的海外存储半导体生产基地,第一工厂投资了108.7亿美元(约合795亿元人民币),2017年开始建造的第二工厂,先后投资了150亿美元(约合1097亿元人民币)。目前三星西安工厂已经成为了世界上最大的NAND制造基地,约占了三星NAND总产量的40%。三星那么多的投资,再加上美国现在又对其进行了豁免,升级生产工艺也就在情理之中了。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1390285.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1390285.htm

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三星将在明年量产300层NAND闪存芯片2030年实现1000层该负责人还表示,对于DRAM三星正在研发3D堆叠结构和新材料;对于NAND闪存,正在通过增加堆叠层数、同时降低高度来实现半导体行业最小的单元尺寸。这一计划也将使三星的进度超过SK海力士,SK海力士曾在不久前宣布计划在2025年开始量产321层NAND芯片。预计三星第9代NAND闪存芯片仍将采用双堆叠技术,其中包括在两个独立过程中创建NAND存储器,然后将它们组装在一起。与老对手三星不同,SK海力士的300层NAND产品采用的是三重堆叠技术,每组分别堆叠120层、110层和91层,最后组合成一个芯片。相比于三重堆叠,双堆叠工艺在生产成本和效率上存在着不小的优势。三星此举也是为了用成本优势来超越对手,从而巩固其市场领先地位。在去年举办的三星技术日上,三星表示将在2030年实现堆叠多达1000层的技术。然而如果不采用三重堆叠工艺,要实现超过400层的堆叠将是一个挑战。因此业内人士表示三星可能会在第10代430层产品中开始采用三重堆叠技术。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1390553.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1390553.htm

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