光刻机、光刻胶概念震荡拉升清溢光电涨超15%光刻机、光刻胶概念震荡拉升，清溢光电、安集科技涨超15%，路维光电、强力新材、久日新

荷兰新规所有DUV光刻机都禁止出口！ASML正式回应#抽屉IT

清溢光电：公司佛山生产基地项目已进入厂房建设阶段清溢光电接受调研时表示，公司高端半导体掩膜版生产基地建设主要设备已下单，设备

清溢光电：拟定增募资不超过12亿元清溢光电公告，拟定增募资不超过12亿元，用于高精度掩膜版生产基地建设项目一期、高端半导体掩膜版

清溢光电：拟定增募资不超过12亿元，用于高精度掩膜版生产基地建设项目一期、高端半导体掩膜版生产基地建设一期。

清溢光电：正在推进28nm芯片所需掩膜版工艺开发规划清溢光电近期调研纪要显示，公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产