荷兰新规所有DUV光刻机都禁止出口!ASML正式回应#抽屉IT

None

相关推荐

封面图片

荷兰新规9月1日生效 ASML:年底前仍可向中国出口高端DUV光刻机

荷兰新规9月1日生效ASML:年底前仍可向中国出口高端DUV光刻机“我们的客户了解出口管制法规,因此他们知道,自2024年1月1日起,我们不太可能获得向中国国内客户运送这些系统的出口许可证。”ASML发言人说道。今年3月,在今年荷兰出口管制新规出台之前,荷兰政府已经向ASML发出了政策即将调整的通知。当时,ASML就曾发布公告称,其认为TWINSCANNXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受限。随后在今年6月30日,荷兰政府正式出台了半导体出口管制新规。进一步确认了ASMLNXT:2000i及之后的浸没式光刻系统出口将会受限。当时ASML就表示,将继续遵守适用的出口管制条例,其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。荷兰政府新颁布的出口管制条例将于2023年9月1日生效,在此日期前,ASML可开始提交出口许可证申请。荷兰政府将视具体情况批准或拒绝这些申请。从ASML最新的回应来看,ASML在荷兰政府6月30日的新规正式公布之后(或者之前),就开始提交了出口许可证的申请,并且可能在7月19日ASML公布2023财年二季度财报之前就已经获得了许可。不然,ASMLCEOPeterWennink就不会在二季度财报会议上说“我们预计出口控制措施不会对2023年业绩产生重大影响。”毕竟二季度时,ASML来自中国大陆的营收占比高达24%。虽然现在ASML的声明已经确认之前的许可申请已经获得了荷兰政府的批准,但是这个许可证的有效期只到2023年底为止!应该主要是为了完成之前已经接到的中国大陆客户订单的后续交付,毕竟目前ASML的光刻机供应依然很紧张。此前ASML公布的财报也显示,今年二季度,来自中国大陆的销售收入占比为24%,相比一季度的8%,大幅增加了16个百分点,增长了200%。在所有销售的设备当中,ArFi设备(浸没式DUV设备)销量相比一季度大涨了56%,增长了14台至39台。对于二季度DUV设备销量的大幅增加,ASML首席执行官彼得·温宁克(PeterWennink)解释称,“在DUV上,需求仍然高于我们的生产能力。虽然我们已经看到了行业中不同细分市场的需求出现了一些挤出。然而,我们的中国客户在过去两年中的需求满足率远远低于50%。所以,我们的中国客户说:我们很乐意接受别人不想要的机器。因为他们的工厂已经准备好了。因此,当有可用的设备时,他们会拿走这些设备。所以,总的来说,我们的DUV业务看起来仍然相当强劲。”据中国海关总署数据,2022年我国光刻机进口总额39.63亿美元,其中从荷兰进口额为25.48亿美元,占比64.3%。2023年1-7月份,从荷兰进口的光刻机金额为25.86亿美元,同比增长64.8%,7月份进口额为6.26亿美元,同比增长近8倍,不过环比下降了28.4%。熟悉荷兰半导体设备采购的业内人士表示,由于全球最大的光刻机制造商ASML向中国客户交付了更多光刻机,今年6月和7月,中国对荷兰芯片制造设备的进口量相比5月翻了一番。显然,在6月30日荷兰的半导体新规正式出台之后,今年7月,ASML依然正常向中国客户交付相关的光刻机产品,不然7月对荷兰光刻机的进口额不可能会有那么大的同比增长。另外,ASML的最新声明还表示,自2024年1月1日起,其将不太可能获得向中国国内客户运送浸没式DUV光刻机出口许可证。因此,自明年开始,ASML可能将只能向中国客户出口NXT:1980Di及更低端型号的光刻机。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1381085.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1381085.htm

封面图片

ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备

ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备3月9日上午,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)发布声明表示,ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”荷兰政府在3月8日表示,计划对半导体技术出口实施新的管制。据悉,决定是由荷兰贸易部长LiesjeSchreinemacher在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称,这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。信中还指出“荷兰认为有必要以最快的速度对这项技术进行监管,因此荷兰政府将会尽快出台一份国家管控清单”。尽管信中并没有指名道姓地点出ASML和其合作伙伴,但是ASML在最新的声明中指出,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。ASML表示,由于该等即将出台的法规,ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统,这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于相关的公告、对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势,预计这些管制措施不会对ASML已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。ASML强调,新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息,公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”,即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。ASML公司官网信息显示,该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备:TWINSCANNXT:1980Di,TWINSCANNXT:2000i和TWINSCANNXT:2050i,其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。此外,ASML指出,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求,并称该公司A长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势,而不是对具体地域的预期。自2019年以来,ASML的EUV光刻系统已经受到限制。ASML此前预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右。ASML声明如下:荷兰政府于今日发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。由于该等即将出台的法规,ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势,我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。需要重点指出的是:新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息,我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”,即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外,我们要指出,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后,ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势,而不是对具体地域的预期。自2019年以来,ASML的EUV光刻系统已经受到限制。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1348611.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1348611.htm

封面图片

光刻机巨头ASML回应美国出口管制新规:受影响的中国大陆晶圆厂数量有限

光刻机巨头ASML回应美国出口管制新规:受影响的中国大陆晶圆厂数量有限对此,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在声明中表示,“根据目前收到的信息,我们认为适用该新规的涉及先进芯片制造的中国大陆晶圆厂数量有限。” ASML表示鉴于新规的篇幅和复杂性,它需要仔细评估潜在的影响。“从中长期角度来看,这些出口管制措施可能会影响到我们不同的机台销售量在各区域间的配比,但我们预计这些措施不会对公司2023年的财务情况以及我们在2022年11月投资者日公布的2025年和2030年的长期展望产生重大影响。”ASML表示。美国半导体行业协会(SIA)发布声明,过于广泛的单边制裁,可能会损害美国半导体生态系统,而不会强化国家安全,因为此举会鼓励海外客户转向其他地方。因此,我们敦促美国政府加强与盟友的协调,以确保所有公司有一个公平的竞争环境。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1390743.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1390743.htm

封面图片

消息称ASML将向中国推出“特供版”DUV光刻机#抽屉IT

封面图片

【禁闻】响应美国荷兰限ASML光刻机对华出口

封面图片

ASML部分先进DUV光刻机出口受限:对准精度不高于2.5nm

ASML部分先进DUV光刻机出口受限:对准精度不高于2.5nm同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”据中国经营报,荷兰方面的动议未提及会对服务采取限制措施的表述,换言之,业内人士相信,已完成进口的DUV设备大都还处在关键部件的设计寿命以内,只要正常维护保养就暂无影响。一般,DUV设备6个月进行一次维护以替换或维修老化和损耗部件。另外,按照目前业界理解,不受出口限制的DUV将停留在对准精度2.5纳米的水平。ASML已经出货的DUV光刻机中对准精度最高的是1.5nm的NXT:2050i。所谓“对准精度”是指,光刻机在进行芯片加工时,在对准芯片和掩模图案时能够达到的精度。对准精度一般以纳米衡量,纳米数值越小,产品越先进。至于所谓浸没式光刻机(浸润式光刻机),属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式),可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1350131.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1350131.htm

🔍 发送关键词来寻找群组、频道或视频。

启动SOSO机器人