ASML正在开发hyper-NA EUV光刻机

ASML正在开发hyper-NAEUV光刻机 他表示，在未来十年内，ASML将构建一个集成低数值孔径、高数值孔径和超数孔径EUV系统的单一平台。这一举措被视为减少工艺步骤数量、降低晶圆加工成本和能源消耗的关键。VandenBrink进一步强调了Hyper-NAEUV工具的重要性，指出它能够简化复杂的双重图案工艺，降低生产难度。他解释说，这种高分辨率工具的可用性对于半导体制造行业至关重要。值得注意的是，高数值孔径EUV（high-NA）光刻技术目前正处于起步阶段。ASML自去年12月开始出货高数值孔径工具，目前仅英特尔一家采用，而台积电则表示短期内不会采用。为了推动该技术的研发和应用，ASML将在几周内正式在费尔德霍芬开设高数值孔径实验室，该实验室将与Imec共同运营，为芯片制造商提供该工具的早期使用权。事实上，该实验室的系统已经投入使用，并成功打印了有史以来第一个10纳米线阵图案。据VandenBrink的最新更新，该系统已经能够产生8nm线阵图案，接近该工具的最大分辨率。这一成果进一步证明了ASML在EUV光刻技术领域的领先地位和持续创新的能力。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1431859.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1431859.htm

ASML 首次公开展示 High NA EUV 光刻机

ASML首次公开展示HighNAEUV光刻机2月10日，ASML在荷兰总部向媒体展示新一代HighNAEUV光刻机TwinscanEXE:5000。这台光刻机尺寸等同于一台双层巴士；重达150吨，相当于两架空客A320客机；价值高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）；全套系统需要250个货箱装运，需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成，不仅价格高昂也相当耗时。TwinscanEXE:5000可以制造8nm线宽电路，从而实现晶体管密度比前一代提高至2.9倍。https://laoyaoba.com/n/893942

ASML、中芯国际双双“表态” EUV光刻机出货正常

ASML、中芯国际双双“表态”EUV光刻机出货正常https://tech.sina.com.cn/it/2019-11-07/doc-iicezuev7914031.shtmlASML相关负责人强调：“实际上在我们第三季度财报中，就已经将相关情况进行说明，根据瓦圣纳协议（WassenaarArrangement），ASML出口EUV到中国需取得荷兰政府的出口许可（exportlicense）。该出口许可于今年到期，ASML已经于到期前重新进行申请，目前正在等待荷兰政府核准。因此，关于“ASML决定延迟/终止出货”的说法是错误的，ASML系遵循法规行事，并一视同仁地服务我们全球客户。”

ASML今年将出货60台EUV光刻机 全球只有5家客户

ASML今年将出货60台EUV光刻机全球只有5家客户虽然没有提到具体的名单，但是台积电、三星、Intel这三家是没跑的，他们的逻辑工艺现在都是要用到EUV光刻机的。还有2家应该是内存芯片厂商了，三星这部分已经在14nmDRAM内存上使用EUV光刻了，SK海力士也跟进了，美光之前的表态相对保守一些，但迟早也会上EUV光刻机来生产内存芯片。虽然只有5家客户，但是最近几年对EUV光刻机的需求提升很快，ASML预计今年会出货60台EUV光刻机，而DUV光刻机达到375台，数量依然远高于EUV。毕竟EUV光刻机售价昂贵，单价在1.5到2亿美元，人民币超过10亿元。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1345573.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1345573.htm

ASML：所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机 单价翻番到26亿

ASML：所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机单价翻番到26亿ASML（荷兰阿斯麦）正抓紧研制其下一代高NA（0.55数值孔径）的EUV极紫外光刻机，在发布最新财报期间，AMSL透露，其存量EUV客户均订购了新一代设备。具体来说，在Intel和台积电之后，三星、SK海力士、美光等也下单高NAEUV光刻机了。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1329261.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1329261.htm