ASML否认特供版DUV:没有面向中国市场推出特别版光刻机
ASML否认特供版DUV:没有面向中国市场推出特别版光刻机1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机,支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm,理论上可以支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机,主要生产14nm及以上工艺芯片,很少使用其生产7nm芯片。最近荷兰发布新规定,企业出口先进设备需要申请许可,9月1日后生效。ASML表示,根据新出口管制条例规定,该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369385.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1369385.htm