日本尼康研发3D ArF光刻机 预计未来销量翻倍

日本尼康研发3DArF光刻机预计未来销量翻倍在光刻机市场上，最近十多年来荷兰ASML公司一家独大，EUV光刻机中更是独一份，10亿一台的价格都供不应求，而传统的光刻机大厂日本佳能、尼康已经被甩开，不过尼康已经制定策略，重点放在3D光刻机上。据报道，日本尼康公司提出新的目标，希望2025财年（2025年3月到2026年3月）期间，尼康的光刻机销量能提升到2019-2021财年的2倍以上。日本光刻机厂商已经没可能在EUV光刻机上抢市场了，但尼康重点放在了能够生产3D芯片的光刻机上，明年将推出支持3D闪存、图像传感器的沉浸式ArF光刻机，这会是未来销量翻倍的杀手锏。根据ASML、Canon佳能、Nikon尼康2020年的数据，全球光刻机销量413台，同比增长15%，按季度依次是95台、95台、97台、126台，分别同比增长19%、25%、8%、12%。2020年413台光刻机中，ASML销售258台占比62%，佳能销售122台（KrF、i-line）占比30%，尼康销售33台占比8%。如果是按销售额计算，ASML、佳能、尼康的光刻机销售额占比依次是91%、3%、6%，日本两家公司占比也不到10%，ASML近乎垄断。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1308891.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1308891.htm

中国28nm国产光刻机有望年底交付

中国28nm国产光刻机有望年底交付据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。光刻机是决定半导体生产工艺水平高低的核心技术，包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件，极为复杂精密。事实上，光刻机是一个泛概念，包括三种不同类型：为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。前道光刻机就是我们最常说的光刻机，主要用于晶圆制造，可分为DUV、EUV两大类，目前由荷兰阿斯麦(ASML)占绝对垄断地位，日本的尼康、佳能也有很强的实力。——

ASML今年将出货60台EUV光刻机 全球只有5家客户

ASML今年将出货60台EUV光刻机全球只有5家客户虽然没有提到具体的名单，但是台积电、三星、Intel这三家是没跑的，他们的逻辑工艺现在都是要用到EUV光刻机的。还有2家应该是内存芯片厂商了，三星这部分已经在14nmDRAM内存上使用EUV光刻了，SK海力士也跟进了，美光之前的表态相对保守一些，但迟早也会上EUV光刻机来生产内存芯片。虽然只有5家客户，但是最近几年对EUV光刻机的需求提升很快，ASML预计今年会出货60台EUV光刻机，而DUV光刻机达到375台，数量依然远高于EUV。毕竟EUV光刻机售价昂贵，单价在1.5到2亿美元，人民币超过10亿元。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1345573.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1345573.htm

ASML High NA EUV光刻机晶圆制造速度提升150% 可打印8nm线宽

ASMLHighNAEUV光刻机晶圆制造速度提升150%可打印8nm线宽根据ASML前总裁兼首席技术官、现任公司顾问的MartinvandenBrink的说法，新的HighNAEUV光刻机晶圆生产速度达到了每小时400至500片晶圆，是当前标准EUV每小时200片晶圆的2-2.5倍的速度，即提升了100%至150%，将进一步提升产能，并降低成本。现阶段经过进一步调整，ASML已经可用其试验性质High-NAEUV光刻机打印生产8nm线宽，这是的新纪录，这打破了该公司在4月初当时创下的记录。当时ASML宣布，已使用位于ASML荷兰总部与imec联合实验室的试验型High-NAEUV光刻机打印了10nm线宽。就发展路线来说，ASML的标准EUV光刻机可以打印13.5nm的线宽，而新的High-NAEUV光刻机则是可以通过打印8nm线宽来创建更小的晶体管。ASML现在已经证明其设备可以满足其基本规格。MartinvandenBrink强调，ASML当前已经取得了进展，能够在整个打印线宽作业上将其低至8奈米记录，并进行校正，而且还具有一定程度的重叠覆盖。因此，ASML对HighNAEUV光刻机的发展充满信心，预计未来将能够在突破其极限。而除了ASML自己在进行HighNAEUV光刻机的测试之外，目前唯一安装完成HighNAEUV光刻机的英特尔，也在美国俄勒冈州的D1X工厂投入测试工作。预计将在Intel18A节点制程上进行技术的研发与训练工作，之后再将其投入到Intel14A节点制程的大量生产当中。MartinvandenBrink指出，ASML已经可以开发更新一代的Hyper-NAEUV光刻机了，以进一步扩展其High-NAEUV光刻机的潜在路线图。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1432933.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1432933.htm

【光刻机巨头ASML回应

【光刻机巨头ASML回应#美国出口管制新规：受影响的中国大陆晶圆厂数量有限】美国政府周二颁布了更新后的关于先进计算和半导体制造设备规则，增加了对先进芯片制造技术的出口限制。这些规定将在30天后生效。对此，荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在给《中国日报》的声明中表示，“根据目前收到的信息，我们认为适用该新规的涉及先进芯片制造的中国大陆晶圆厂数量有限。”ASML表示鉴于新规的篇幅和复杂性，它需要仔细评估潜在的影响。

ASML将推中国特供版DUV光刻机？完全没必要

ASML将推中国特供版DUV光刻机？完全没必要7月6消息，据DigiTimes报道，荷兰光刻机大厂ASML正在考虑发布其深紫外光刻(DUV)设备的特殊版本，以便使得该设备符合美国及荷兰最新的出口规则，并且无需许可证即可运送给中国客户。报道称，该特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造，而NXT: 1980Di是10年前推出的旧型号，不在限制范围内。PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369569.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1369569.htm