美国将阻止台积电和英特尔在中国增建先进芯片生产工厂

美国将阻止台积电和英特尔在中国增建先进芯片生产工厂美国国会通过了一项历史性的520亿美元的联邦计划,以提高国内的芯片制造能力,其中包括一个重要的注意事项:获得资金的公司必须承诺不在中国增加先进芯片的生产。这个条件肯定会加剧华盛顿和北京之间不断升级的紧张关系。这些限制将打击英特尔公司和台湾半导体制造有限公司等公司,这些领先的芯片制造商一直试图在中国建立他们的业务。台积电将无法大幅升级或扩大其现有设施,实际上失去了在世界最大半导体市场的一些增长机会。具体而言,《芯片和科学法案》禁止获得联邦资助的公司在10年内实质性地扩大在中国--或像俄罗斯这样的相关国家--生产比28纳米更先进的芯片。虽然28纳米的芯片比现在最先进的半导体晚了好几代,但它们仍然被广泛用于包括汽车和智能手机在内的各种产品。该禁令涵盖了逻辑和存储芯片。——

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台积电开始为英特尔生产基于3纳米工艺的"Lunar Lake"芯片

台积电开始为英特尔生产基于3纳米工艺的"LunarLake"芯片新的"LunarLake"芯片与"MeteorLake"一样,是组合式的处理器,CPU内核、iGPU、NPU和内存控制器位于一个单一模块上,称为Computetile,采用3纳米节点制造;而SoC和I/O组件则分解在芯片的另一个模块上,即SoCtile,采用台积电6纳米节点制造。英特尔还没有详细介绍"ArrowLake"处理器的具体细节,只是提到该处理器将采用与"MoonLake"处理器相同的"LionCove"P核和"Skymont"E核,但采用了大家更熟悉的环形总线配置,即E核集群与P核共享三级缓存("月湖"处理器不采用这种配置)。"ArrowLake"还采用了与"MoonLake"相同的基于Xe2图形架构的iGPU,并将配备符合微软Copilot+AIPC要求的NPU。前者的神秘之处在于英特尔将以何种方式来组织各种芯片或芯片组。2024年2月的报道提到,英特尔将利用台积电3纳米工艺制造"ArrowLake"的分解图形芯片,但我们现在从"MoonLake"中了解到,英特尔并不回避让台积电制造其CPU内核。首批采用"MoonLake"的笔记本电脑预计将在2024年第三季度上架,"ArrowLake"z则将在第四季度上市。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1435213.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1435213.htm

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英特尔将为微软代工新芯片 挑战台积电地位

英特尔将为微软代工新芯片挑战台积电地位英特尔的代工服务推出新的路线图,采用英特尔14A制程技术、专业的节点进化以及新的英特尔代工高级系统组装和测试(ASAT)功能,帮助客户实现他们启用AI技术的雄心。系统级代工是英特尔近几年推动代工业务增长的创新方式,它超越传统的晶圆代工服务,引领行业由标准单片式系统级芯片(system-on-chip)向单个封装内的“芯片系统”(systemsofchips)转变。系统级代工服务由晶圆制造、封装、软件和开放的芯粒四部分组成,让英特尔能够发挥其在芯片设计和制造方面的专长,用芯粒打造新的客户和合作伙伴解决方案。英特尔的CEO基辛格(PatGelsinger)表示,AI正在深刻地改变世界,以及我们对技术及其所驱动芯片的看法。这为世界上最具创新力的芯片设计者和英特尔面向AI的系统级代工创造了前所未有的机遇。我们可以共同创造新市场,并革新用技术改善人们生活的方式。英特尔周三同时宣布,更新拓展制程技术的路线图,将14A增加到公司的先进节点计划中。2021年7月,英特尔公布了“四年五个制程节点”(5N4Y)的计划,要通过从当时起四年内推进英特尔7、4、3、20A和18A五个制程节点,到2025年,重获制程领先地位。本周三,英特尔确认,其5N4Y制程路线图仍在按计划进行,并将在业内率先提供背面供电解决方案。英特尔更新的路线图限制涵盖英特尔已经进化的3、18A和14A制程技术,其中包括英特尔3-T,该技术服务于对3D先进封装设计,通过硅通孔(TSV)进行优化,将很快进入准备生产阶段。基辛格在本周三的主题演讲中透露,英特尔的长期系统级代工服务方式得到客户的支持,微软董事长兼CEO纳德拉(SatyaNadella)表示,微软计划利用英特尔的18A制程生产微软自研的芯片。纳德拉表示:“我们正处于非常令人兴奋的平台转变过程中,这(转变)将从根本上改变每个组织和整个行业的生产力。为了实现这一愿景,我们需要可靠的供应最先进、高性能且高质量的半导体。因此,我们如此兴奋第与英特尔代工服务合作,并且,我们选择的芯片设计计划以英特尔的18A制程进行生产。”微软并未披露采用A18制程技术的会是哪些微软的产品。不过,去年11月中,微软推出为Azure服务的两款高端定制芯片,分别是微软的首款AI芯片Maia100,以及英特尔CPU的竞品:基于Arm架构的云原生芯片Cobalt100。其中,Maia100用于OpenAI模型、Bing、GitHubCopilot和ChatGPT等AI工作负载运行云端训练和推理。它采用台积电的5纳米工艺制造,有1050亿个晶体管,比AMD挑战英伟达的AI芯片MI300X的1530亿个晶体管少约30%。当时有媒体评论称,Maia100可能和英伟达的芯片正面对决,成为英伟达芯片的替代品。微软主管Azure硬件系统和基础设施的副总RaniBorkar当时透露,Maia100已在其Bing和OfficeAI产品上测试,OpenAI也在试用。这意味着,ChatGPT等模型的云训练和推理都将可能基于该芯片。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1419891.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1419891.htm

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美国政府将向英特尔和台积电等芯片制造商提供数十亿美元用于建立工厂

美国政府将向英特尔和台积电等芯片制造商提供数十亿美元用于建立工厂美国政府新一轮补贴的目标是,通过为建立新工厂提供更多资金,帮助企业向美国转型。根据《华尔街日报》的报道,新资金将惠及CHIPS法案的成员,其中包括英特尔、台积电和其他几家公司,它们决定将工厂转移到美国,以促进政府的"内部"生产,并避免与中国等国日益加剧的敌对行动,据说新的融资将达到数十亿美元,但具体数额尚未披露。美国政府的这一努力是根据《CHIPS法案》进行的,该法案是美国政府的一项激励措施,其唯一目标是吸引半导体公司进入美国。其收益包括2800亿美元的赠款,其中包括520亿美元的联邦投资和对国内半导体研究、设计和制造条款的税收减免。最终目标是通过为企业提供经济资源来启动转型,从而减少美国对台湾和中国大陆等国家的依赖。CHIPS的授予将完全取决于哪些项目将促进美国的经济和国家安全。-美国商务部英特尔很有可能获得这笔新资金,该公司目前正在亚利桑那州、俄亥俄州、新墨西哥州和俄勒冈州与台湾半导体制造股份有限公司(台积电)一起建立大型工厂。上述两家公司的确都在开发"耗资巨大"的设施,总成本超过800亿美元。然而,尽管有如此巨额的经济资助,人们还是对《CHIPS法案》中的政策持保留意见,尤其是英特尔公司,他们声称他们应该获得更多的资助,因为他们显然比其他受益者"更有决心"。在吸引芯片制造商的兴趣方面,《CHIPS法案》做了不少工作,但由于相关公司也面临着许多问题,包括缺乏足够的人力等,人们对实际进程提出了质疑。就在最近,台积电位于亚利桑那州的3纳米工厂被推迟到2027年投产,这表明经济资源并不是"美国转型"真正有效的全部。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1414909.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1414909.htm

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剑指台积电:英特尔重注押宝先进封装

剑指台积电:英特尔重注押宝先进封装英特尔封装/组装和测试技术开发资深总监PatStover说,“我在封装领域已有27年经验,透过封装技术延续了摩尔定律”。封装技术的改进,被称为“先进封装”。通俗地说,先进封装,就是将芯片像乐高积木那样堆叠组合,再把这些组合封住固化成一个整体。这是用3D立体方式解决物理存在极限带来的微缩障碍。台积电、英特尔和三星电子等,都在提高这种技术的研发投入。英特尔在亚太区下了封装投资重注,选择的国家是马来西亚。看上,英特尔很想在台积电的封装版图中,掰下一块蛋糕,但就目前的进展看,还没到真正能对台积电形成威胁的那个时刻。2.5D/3D封装的异同点是什么?一般来说,先进封装是指2.5D以上的封装技术。所谓2.5D,就是堆叠部分芯片;3D是实现全部堆叠。目前,苹果(Apple)的M1Ultra芯片,采用的是台积电的InFO封装技术(InFO_Li),为2.5D;英伟达(NVIDIA)AI芯片则用了台积电CoWoS封装堆叠技术,又被称为“3DIC”。但也有技术论文称台积电CoWoS也是2.5D封装技术。台积电SoIC技术则属于3D封装。2.5D/3DIC封装都是新兴的半导体封装技术,都能实现芯片间的高速和高密度互连,从而提高系统的性能和集成度。这两者的区别:首先是连接方式不同。2.5D封装通过TSV硅转接基板连接芯片,将两个或多个有源半导体芯片并排置于硅中介层,以实现多个/组芯片的高密度互连;3DIC封装是将多个芯片/组作垂直堆叠,再通过直接键合技术实现芯片间的互连,特点是芯片组之间连接相对于2.D封装更短,尺寸也更小。其次,制造工艺不同。2.5D封装要制造硅基中介层,还要做微影技术等复杂工艺;3DIC封装的制造工艺是要应用直接键合技术,难度很高。第三,应用场景和性能不同。2.5D封装通常在高性能计算、网络通信、人工智能和移动设备等领域有大规模应用,具有较高的性能和相对更灵活的设计;3DIC封装通常应用于存储器、传感器和医疗器械等领域,集成度较高,封装体积也相对更小。英特尔的2.5D封装技术被称为“EMIB”,自2017年开始在产品中得以应用。与一般2.5D封装技术不同之处是EMIB没有TSV转接基板。所以无需额外工艺,设计也较为简单。英特尔的资料中心处理器SapphireRapid即采用了这项技术。英特尔首代3DIC封装称为“Foveros”,2019年时用于英特尔上一代计算机处理器Lakefield。就技术特色而言,EMIB透过“硅桥(SilliconBridge)”(而非TSV转接基板),从下方连接高带宽存储器(HBM:HighBandwidthMemory)和运算等各种芯片(die)。由于硅桥会埋在基板(substrate)中并连接芯片,达成高带宽存储器和运算芯片的直接连接,因此这样就能加快芯片本身的能效。Foveros采用3D堆叠,将高带宽存储器、运算单元和架构等不同功能的芯片组像汉堡包一样层叠,再用铜线穿透每层芯片组,就像将筷子穿透插入汉堡包,以此达到连接效果。最后,工厂将已完成堆叠的芯片送到封装厂座组装,接合铜线与电路板上的电路。9月即将发布的英特尔新一代CPU“MeteorLake”,即采用了第二代“Foveros”3DIC技术。目前,台积电CoWoS封装技术产能不足。业界有消息称,苹果公司预订了台积电CoWoS封装大部分产能,迫使高通将部分芯片订单转给三星电子。目前,三星电子的3D封装技术被称为“X-Cube”。就这两种封装技术的应用广度和深度看,3D封装技术仍在早期阶段,2.5D封装技术也没有完全放量。有一点很有意思,据PatStover透露,在英特尔IDM2.0战略指引下,即使客户未在晶圆代工厂下单,也可以使用先进封装服务。这说明英特尔开始从“产品导向”转变为“用户导向”,不再强调产品本位思维,转而向着“客户需求定制”商业模式转换。比如,客户可以直接在英特尔完成封装,而没有强制规定客户必须通过英特尔代工厂完成芯片制造的所有流程。海外封测核心重镇在哪?英特尔在9月即将发布的新一代CPU“MeteorLake”,采用了自家的3DIC封装技术“Foveros”,封装环节也会在自家工厂完成。英特尔做先进封装是认真的。8月底,有媒体消息称,英特尔副总裁兼亚太区总经理StevenLong表示,目前英特尔正在马来西亚槟城兴建最新的封装厂,以强化2.5D/3D封装布局。这将是继英特尔新墨西哥州及奥勒冈厂之后,首座在美国之外采用英特尔Foveros先进封装架构的3D封装厂。根据英特尔的规划,到2025年,英特尔Foveros封装产能将达到当前水平的4倍。届时,槟城新厂将成为英特尔最大的3D封装厂。此外,英特尔还将在马来西亚居林高科技园区兴建另一座封装测试厂。未来英特尔在马来西亚的封测厂将增至6座。在2022年末举行的英特尔On技术创新峰会上,英特尔CEO基辛格表示,英特尔代工服务将开创“系统级代工时代”。不同于仅向客户供应晶圆的传统代工模式,英特尔还提供硅片、封装、软件和芯粒等多项服务。此外,从PatStover的描述中可以看到,英特尔将芯片代工的各个环节都做了“拆/整”组合,以更灵活的方式由客户自行挑选。值得一提的是英特尔Foveros计划推出FoverosDirect,这能实现直接铜对铜键合转变。通过HBI(HybridBonding)技术以实现10微米以下的凸点间距,让不同芯片间实现超过10倍的互联密度提升。这就使得晶圆制造与先进封装之间的界限不再那么泾渭分明,但其对先进封装工厂要求也大幅提升。据英特尔企业副总裁暨亚太日本区(APJ)总经理SteveLong透露,英特尔在亚太区的多国均有投资,但主要集中在日本和马来西亚,尤其以后者的投资额为最高。华尔街见闻查阅英特尔公开投资记录发现,在亚太区,英特尔在中国(成都)有投资组装测试厂;在越难,英特尔也做了组装测试厂的投资。就封装厂而言,英特尔目前有在建和规划中的3座工厂:分别位于美国新墨西哥州(在建)、马来西亚槟城(开建)和马来西亚居林(规划)。目前英特尔官方并未透露Foveros的产能数据。就眼下的情况看,台积电和三星电子不必对英特尔的先进封装产能有过分担忧。因为英特尔在两年前宣布投资35亿美元扩充的新墨西哥州先进封装产能厂,至今仍未完工。至于马来西亚槟城新厂的完工时间,估计要到2024年底和2025年初。未来英特尔在马来西亚将有6座工厂。现有的4座分别为槟城和居林(Kulim)的两座封测厂,以及在居林负责生产测试设备的系统整合和制造服务厂(SIMS)和自制设备厂(KMDSDP)。英特尔芯片组数计工程事业部副总裁SureshKumar表示,拥有设计能力是马来西亚基地的重要特色,同一个专案能和美国奥勒冈州(Oregon)的研发团队轮流交替,可以24小时不间断地投入研发,“马来西亚设计团队已经拥有32年的历史,加上产线近乎完整,在这边设计速度也会较快”。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1381243.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1381243.htm

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击败英特尔三星 台积电成收入最高代工厂

击败英特尔三星台积电成收入最高代工厂虽然多年以来,台积电一直是全球排名第一的芯片代工厂,但其收入始终低于英特尔等领先的存储芯片制造商。然而近年来,情况发生了变化。根据台湾分析师DanNystedt的观察,台积电在2023年的收入已经超过了英特尔和三星。在营业利润上,台积电也同样领先,这充分说明了它作为全球代工领头羊的持续吸金能力。Nystedt的数据,是基于每家公司的日历年收入,而非财年业绩。需要注意的是,这些收入包括了每家公司其他来源的收益,不仅仅是芯片制造业务。现在,台积电已成全球最大的芯片半导体公司。尽管23年是充满挑战的一年,台积电的全年收入也已达到693亿美元,远超英特尔的542.3亿美元和三星的509.9亿美元。根据第四季度的预测,英伟达23年的年收入可能超过580亿美元,超过英特尔和三星,但仍落后于台积电。台积电这位新晋的行业领头羊,从历史上看一直落后于英特尔和三星。但2020年以来,情况开始发生变化。疫情的影响,和用户对电脑、游戏机等数字产品需求的增加,让台积电的收入急剧增长。由于使用现代生产工艺的成本较高,而台积电在工艺技术上领先于英特尔和三星,因而它可以以极高的溢价销售服务,因而收入取得了大幅提高。台积电并不开发自己的芯片,而是为AMD、苹果、英伟达、高通等晶圆厂代工,制造世界上最先进的芯片。如今看来,这一策略至少在目前是十分成功的。此前,世界头把交椅一直属于英特尔。从1992年起,英特尔就领先半导体行业数十年,直到2017年,三星以显著优势超越英特尔。三星的半导体收入依赖于3DNAND和DRAM内存价格,而英特尔的主要收入来源于逻辑产品,比如客户端和数据中心应用的CPU。值得一提的是,目前英特尔的许多产品都由台积电生产。未来,英特尔是否会通过先进的工艺技术,通过代工服务部门夺回市场份额,重获领先地位呢?目前还有待观察。英伟达也赶超三星英特尔,但低于台积电凭借GPU大卖,成为全球算力霸主的英伟达又如何呢?这家公司计划在2月21日公布财报。根据第四季度预测,英伟达预计2023年的收入接近588.2亿美元,同样赶超英特尔和三星,但仍低于台积电,它将赢得2023年“标准”芯片收入的称号。(注意:英伟达的全年收入预估是基于其第一季度到第三季度的实际结果加上第四季度的预测。这是一个简单的计算过程。)英伟达的第四季度预测属于2024财年,于2024年1月28日结束。(由于一些公司的财年与日历年不同,这可能会引起混淆,但这里比较的是日历年的业绩。)尽管台积电通常不被列入主流的十大半导体公司名单,因为它主要是作为供应商,没有自己品牌的芯片,只生产因英伟达、苹果、AMD等公司设计的芯片,但将其与其他公司进行比较仍然具有重要意义。约克大学助理教授ShenJung-chin在社交媒体上发文:成立于1987年的台积电,用了36年的时间,不仅成为全球最大的晶圆代工制造商,也成为全球最大的半导体制造商。不过,当他被问及对“台积电2024年前景”有何看法时,Jung-chin表示,「台积电稳坐全球头把交椅将变得更加困难,他预测,用于AI的GPU需求旺盛,英伟达将在2024年夺得芯片总收入桂冠。同时,了解台积电在芯片代工领域与竞争对手,如排名第二的三星和正在发展中的英特尔的对比,也十分有益。值得一提的是,台积电的第四季度收入同样领先于英特尔和三星,而且这已是连续第六个季度。-台积电:195.5亿美元-三星(芯片部门):164.2亿美元-英特尔:154.1亿美元而且,台积电已经连续在第八个季度在营业利润上拔得头筹。-台积电:81.6亿美元-三星:亏损18.6亿美元-英特尔:25.9亿美元(注意:三星以韩元报告其半导体部门的收入和营业利润。2023年的计算基于1美元兑1305.845韩元,第四季度基于1美元兑1320.68韩元的平均汇率。台积电和英特尔均以美元报告数据。)台积电斥资200亿刀,在日本建第二大厂台积电表示,将在2027年底之前建造第二家日本工厂开始运营,总投资超过200亿美元。2021年,台积电曾首次宣布在日本南部九州的熊本市,投资70亿美元建芯片厂。据称,第一家日本芯片厂将于2025年2月开业,并在第季度开始量产。如今,70亿美元之后,台积电又追加到200亿美元建厂,就是为了满足日益增长的客户需求。台积电表示,第二家工厂将于今年年底开始建设,选址靠近第一家工厂,将增加6nm或7nm的制程技术。这家公司预计,两家工厂每月的总产能将超过10万片12英寸晶圆,可用在汽车、工业、消费和高性能计算相关应用,并创造超过3400个高科技工作岗位。另外,它补充道,产能计划可能会根据客户需求进一步调整。彭博社还报道称,台积电已经在考虑在日本开设第三家工厂,使用更先进的3nm技术。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1416735.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1416735.htm

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台积电称2纳米生产将在2025年开始 先进高NA光刻机将于2024年到货

台积电称2纳米生产将在2025年开始先进高NA光刻机将于2024年到货根据台湾媒体的报道,台湾半导体制造公司(TSMC)的目标是在2025年量产其2纳米(nm)半导体制造工艺。台积电目前正准备加大其3纳米节点的生产,这被认为是世界上最先进的芯片制造技术之一,公司代表向台湾媒体表示,它将继续通过下一代技术引领全球半导体行业。PC版:https://www.cnbeta.com/articles/soft/1315735.htm手机版:https://m.cnbeta.com/view/1315735.htm

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