美光可能获日本政府2000亿日元资助，用于升级芯片工厂

美光可能获日本政府2000亿日元资助，用于升级芯片工厂 知情人士表示，美光 科技将利用这些资金升级其在 日本 广岛 的工厂，安装来自 ASML 的先进 EUV 芯片制造设备，以生产下一代 DRAM 芯片。

日本 政府将提供452亿日元补贴用于光学芯片技术开发

日本 政府将提供452亿日元补贴用于光学芯片技术开发 参与的公司包括日本电信公司(NTT)、日本电气股份有限公司(NEC)、古河电气工业株式会社(Furukawa Electric)、神钢电机株式(Shinko Electric)、铠侠(Kioxia)，还有 英特尔()和 SK 海力士

Rapidus 确认将在 2nm 采用 0.33NA EUV 光刻机，已规划未来 1.4nm 节点

Rapidus 确认将在 2nm 采用 0.33NA EUV 光刻机，已规划未来 1.4nm 节点 理查德称其从潜在客户和 EDA 企业处了解到，整个先进半导体行业都在寻求除台积电外的另一家独立代工企业作为替代供应方。 不是 High-NA

阿里发布5纳米芯片 将用于数据中心

阿里发布5纳米芯片 将用于数据中心 阿里巴巴旗下阿里云发布全新伺服器5纳米芯片“倚天710”，由负责芯片开发业务的平头哥定制，将应用于数据中心，以及由该芯片驱动的自研伺服器“磐久”。 在阿里巴巴“云栖大会”上，阿里云智能总裁兼阿里巴巴达摩院院长张建锋表示，集团一直致力于增强云计算的性能和能效，定制伺服器芯片符合集团的发展方向。他续说，计划用这芯片支持阿里生态的业务，预计在不久的将来，能为客户提供由这芯片驱动的伺服器，并带来新一代云计算服务。

佳能纳米压印设备最快今年交付 可制造5nm芯片

佳能纳米压印设备最快今年交付 可制造5nm芯片 佳能表示，这套设备的工作原理和ASML的光刻机不同，并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。相较于目前已商用化的EUV光刻技术，尽管纳米压印技术的芯片制造速度要比传统光刻方式慢，但铠侠在2021年就曾表示，纳米压印技术可大幅减少耗能，并降低设备成本。原因在于纳米压印技术的制程较为简单，耗电量可压低至EUV技术的10%，并让设备投资降低至仅有EUV设备的40%。另外，纳米压印设备还可以使得芯片制造商降低对于ASML的EUV光刻机的依赖，使得台积电、三星等晶圆代工厂可以有第二个路线选择，可以更灵活的为客户生产小批量芯片。不过佳能CEO三井藤夫曾在采访中表示，佳能可能无法将这些设备出口到中国，“我的理解是，任何超过14nm技术的出口都是被禁止的，所以我认为我们无法销售。” ... PC版： 手机版：