【28nm又成扩产焦点?】相比其他成熟制程,28nm一直是单晶体管成本最低的工艺,也是DUV光刻机平面光刻的极限。作为一个十年前

【28nm又成扩产焦点?】相比其他成熟制程,28nm一直是单晶体管成本最低的工艺,也是DUV光刻机平面光刻的极限。作为一个十年前量产的工艺节点,台积电第三季度财报显示,28nm占营收比重也达到了约10%。而对于主攻成熟制程的联电而言,第三季22/28 nm营收贡献度更是达25%。 #抽屉IT

相关推荐

封面图片

中国28nm国产光刻机有望年底交付

中国28nm国产光刻机有望年底交付 据新华网援引《证券日报》消息称,上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破,预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。 光刻机是决定半导体生产工艺水平高低的核心技术,包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件,极为复杂精密。 事实上,光刻机是一个泛概念,包括三种不同类型:为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。 前道光刻机就是我们最常说的光刻机,主要用于晶圆制造,可分为DUV、EUV两大类,目前由荷兰阿斯麦(ASML)占绝对垄断地位,日本的尼康、佳能也有很强的实力。

封面图片

DUV光刻机从7nm再冲5nm?浸润光刻之父:行!但成本极高

DUV光刻机从7nm再冲5nm?浸润光刻之父:行!但成本极高 不过,林本坚表示,依靠现有的DUV光刻机(浸润式)制造出5nm晶片依然是可行的,但是至少需要进行4重曝光。不幸的是,这种工艺的缺点是不仅耗时,而且价格昂贵,还会影响整体良率。

封面图片

俄罗斯完成制造首台 350 纳米制程的光刻机

俄罗斯完成制造首台 350 纳米制程的光刻机 俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试,俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 指出,该设备可支持生产最终到达350纳米工艺的芯片。 Shpak 告诉媒体:“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。

封面图片

传台积电A16 1.6nm制程不会采用High-NA EUV光刻机

传台积电A16 1.6nm制程不会采用High-NA EUV光刻机 访问:NordVPN 立减 75% + 外加 3 个月时长 另有NordPass密码管理器 据台湾业界消息,台积电并没有为A16制程准备High-NA(高数值孔径)EUV光刻机,而是准备采用现有EUV光刻机生产。相比之下,英特尔、三星都将在这一节点使用最新的High-NA EUV光刻机。关于背面供电技术,英特尔原本计划在20A(2nm)制程导入,称其为“Power Via”,但后来决定推迟至14A制程采用。三星同样开发了类似的背面供电技术BSPDN,根据早些时候消息,三星代工部门首席技术官Jung Ki-tae曾宣布将于2027年将背面供电技术用于1.4nm制程。目前英特尔已经收到了ASML首台High-NA EUV光刻机,并完成组装。业界认为,台积电选择在这时推出A16制程,给英特尔与三星带来了竞争压力。虽然英特尔在High-NA EUV设备上抢先一步,但能否赶上台积电的商业化进度还有待观察。台积电决定在A16制程沿用常规EUV光刻机,也展现了其技术实力,可以在不采用最新设备的情况下,将现有EUV设备的分辨率推进到1.3nm以下。事实上,去年台积电就成功通过调整光刻胶材料、光掩模制程等方式,在提升先进制程的临界尺寸与图形精度的同时,还降低了缺陷密度。台湾分析师表示,台积电、英特尔、三星之间的竞争将进一步刺激对EUV光刻机的需求,尤其是独家供应商ASML。考虑到High-NA EUV设备产能有限,如何在三大晶圆代工巨头之间分配,势必成为一大挑战。 ... PC版: 手机版:

封面图片

中国扩大投入成熟制程 28nm以上产能占全球29%

中国扩大投入成熟制程 28nm以上产能占全球29% 中芯国际、华虹集团、合肥晶合集成扩产最积极,扩产将聚焦于驱动芯片、CIS/ISP与功率半导体分立器件等特殊工艺。研究显示,根据对中国48家拥有制造工厂的芯片制造商的分析,预计60%的新增产能可能会在未来3年内增加。中国企业已加快采购重要的芯片制造设备,以支持产能扩张并增加供应。包括荷兰ASML和日本东京电子在内的领先半导体设备生产商在2023年收到了大量来自中国的订单。机构统计,中国大陆半导体厂商2023年产能同比增长12%,达到每月760万片晶圆。预计中国大陆芯片制造商将在2024年开始运营18个项目,2024年产能同比增加13%,达到每月860万片晶圆。相关文章:中国半导体厂商集体发力28nm及更成熟制程 预计2027年全球产能占比39% ... PC版: 手机版:

封面图片

2023年6月7日,华泰证券研报:上海微电子或将在明年交付国产第一台 28nm的immersion式光刻机;

2023年6月7日,华泰证券研报:上海微电子或将在明年交付国产第一台 28nm的immersion式光刻机; 2023年7月31日,官媒《证券日报》报道:有消息称,上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机,预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场; 2023年12月20日,国资张江集团官方账户发文:作为国内唯一 一家掌握光刻机技术的企业,上海微电子成功研制出28纳米光刻机。 后续结果:华泰该研报从Wind撤回、证券日报电子版该消息链接失效、张江集团修改文章。

🔍 发送关键词来寻找群组、频道或视频。

启动SOSO机器人