国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源

国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源 近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司发声，称该项目并非网传的国产 #光刻机 工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）

中国光刻机“”弯道超车”

中国光刻机“”弯道超车” 真正的SSMB-EUV光源方案 加速器周长100~150米，输出EUV功率>1KW 美国的极限制裁极大的加速了中国EUV光刻机的研发速度。 中国目前采取的是一种全新的“技术路线方案” 目前中国有三条光刻机研发路线。 1.国外正统路线，也就是ASML的EUV光刻机路线。HW+上海光机所+宇量升，国家队，走500W LPP光源+复杂镜头组的技术路线。现在进度最快，技术复杂度相对最高，特别是超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器技术难度非常高。进度保密 2.改进型路线。广东智能机器研究院(广智院)+华中科技大，他们在尝试一种采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。如果他们那个400路光纤激光器能够成功，将是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的数倍。何时成功还是未知。 3.颠覆式全新路线。清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施同步辐射光源。直接把光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。比如：深圳产业光源系统规划了EUV光刻线站和EUV检测线站等合计四条光束线，六个实验站。 第三条。颠覆性技术路线如果全面成功，可以秒杀上面两条路线。光源外置、极大简化的光路直接把EUV光刻机变成体积大，但是成本相对较低的批量产品。且更匹配中国极高的基础设施建设能力！！！

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机 不过，张江集团之后对文章进行了修改，目前的文章中拿掉了关于28纳米的表述，改为：“作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子致力研制先进的光刻机。”

中国唯一在真正研发光刻机的机构上海微电子到现在只能生产90纳米光刻机。2020年宣布2021年交付28纳米光刻机，没下文了。现在

中国唯一在真正研发光刻机的机构上海微电子到现在只能生产90纳米光刻机。2020年宣布2021年交付28纳米光刻机，没下文了。现在又宣布今年年底交付。即使真能交付，和能量产、质量稳定也是两回事。国外2011年已量产28纳米芯片。但如果中芯因为华为被制裁，以后中国就要靠这款期望中的国产28纳米光刻机。但国外咨询机构早扒过，这款光刻机的中国供应商仍然要靠外国提供必需的配件，美国仍然随时可制裁。一个国家想搞完全国产的光刻机是痴心妄想。阿斯麦生产一台EUV光刻机要由24个国家的500多个供应商提供45万个配件。

DUV光刻机和EUV光刻机的主要区别是激光光源。DUV光源波长为193纳米，分辨率差，而EUV光源波长为13.5纳米。圣地亚哥C

DUV光刻机和EUV光刻机的主要区别是激光光源。DUV光源波长为193纳米，分辨率差，而EUV光源波长为13.5纳米。圣地亚哥Cymer公司（在4SRanch边上）是生产EUV光源的唯一厂家，于2013年被阿斯麦用37亿美元收购成为其子公司。为EUV光刻机供货的500个厂商分属24个国家，都被拜登拉进去共同打压中国芯片产业。中国官媒声称美国越制裁越促进中国发展，有当年慈禧太后向所有列强宣战的勇气，

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机 统筹上海张江科学城开发建设的张江集团透露，中国半导体装备制造商上海微电子已成功研制出28纳米光刻机。 上海张江（集团）有限公司星期二（12月19日）在集团微信公众号“你好张江”发文称：“作为国内唯一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子已成功研制出28nm光刻机。” 中国“钛媒体”称，张江集团公布的这一消息，标志着中国最新28纳米前道光刻机研发进展首次被官方披露。 张江集团是一家统筹承担张江科学城开发建设、项目引进等重要功能的国有独资公司，隶属于上海市浦东新区政府监管单位。天眼查信息显示，张江集团是上海微电子的第四大股东。消息传出后，张江集团股价飙升了8%。 不过，张江集团之后对文章进行了修改，目前的文章中拿掉了关于28纳米的表述：“作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子致力研制先进的光刻机。” 上海微电子（SMEE）成立于2002年，是由中国多家产业集团和投资公司共同投资组建的高科技股份有限公司。公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。 在美国去年加大力度遏制中国芯片产业发展的背景下，美国商务部将上海微电子列入黑名单。 另据彭博社报道，虽然28纳米芯片于2011年首次问世，但上海微电子的最新成果意味着中国可能已将与该领域领先者的差距缩小了几年。 此前，中国自己的光刻技术落后荷兰公司约20年。尽管现在的光刻技术更加成熟，28纳米芯片对于智能手机和电动汽车等众多产品仍然至关重要。 2023年12月20日 3:55 PM