AMD Strix Halo面积暴增 40单元核显媲美移动版4070?

AMD Strix Halo面积暴增 40单元核显媲美移动版4070? 这必然会让Strix Halo变得非常庞大。根据最新曝光的货运清单数据,Strix Halo将会采用新的FP11封装,长宽尺寸为45x37.5毫米,也就是面积达1687平方毫米。这是什么概念?这已经和Intel 12/13/14代桌面酷睿处理器LGA1700封装一模一样了,对比Strix Point FP8 40×25=1000平方毫米增大了几乎70%!AMD更早一些的FP6、FP7r2封装更是只有25×35=875平方毫米,只相当于Strix Halo的一半左右。就算是拿桌面版锐龙7000系列移植改造的锐龙7040HX系列,所用的FL1封装,也不过40×40=1600平方毫米,仍然略小于Strix Halo。Strix Halo最让人着迷的莫过于史无前例的核显,40个单元加上RDNA3.5架构,有说法称至少相当于移动版RTX 4060,甚至堪比移动版RTX 4070。这实在难以让人相信,哪怕理论跑分看起来也不太可能,暂且打个问号,等着看吧。 ... PC版: 手机版:

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AMD最强APU Stirx Halo霸气现身:史无前例128GB内存 最新的一份货运清单首先是显示,Stirx Halo会采用Socket FP11封装接口,功耗释放可高达120W,同时搭配了多达128GB板载内存。这可是个新的纪录,之前的类似记录都只有32GB、64GB。考虑到LPDDR5X内存单颗最大容量为16GB,这里就需要多达8颗。根据泄露资料,Stirx Halo内存支持256-bit位宽、LPDDR5X-8000频率,但不同于苹果M1系列、Intel Lunar Lake,并不会和处理器整合封装在一起,而是单独板载。Stirx Halo将会采用类似桌面处理器的chiplet设计,包含两颗CCD、一颗SoC Die,最多16个CPU核心、40个GPU核心,图形性能有说法声称能媲美移动版RTX 4070,但此处存疑。 ... PC版: 手机版:

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苏姿丰演讲公布AMD目标:3年内实现能效提升100倍 在获奖后的演讲中,苏姿丰重点提到,AMD正在全力冲刺30x25目标,也就是到2025年将计算能效提升30倍,而到了2026-2027年,AMD将把计算能效提升100倍!这一速度,将远超行业平均水平。处理器、显卡等计算产品的能耗越来越高,AMD早在2014年就设定了名为25x20的目标,也就是到2020年将产品能效提升25倍,最终超额做到了31.7倍。随后,AMD就立下了30x25的新目标,明年就能顺利实现。苏姿丰指出,眼下提升计算产品能效的最大障碍就是AI大模型训练、微调所需的庞大算力,往往离不开成千上万的GPU加速器,以及成千上万兆瓦的电力,而且还在急剧膨胀。为此,AMD将多管齐下,从产品架构、制造工艺、封装技术、互连技术等方面提升能效,比如3nm GAA全环绕栅极工艺,比如2.5D/3D混合封装,等等。她指出,Instinct MI300X就是高能效的典型代表,包含1530亿个晶体管,分为12颗小芯片、24颗共192GB HBM3内存芯片。再比如处理器,2024年的第四代EPYC,对比1984年的AM286(Intel 80286的克隆版本),40年间,制造工艺从1.5微米进步到6/5纳米,单颗芯片变成13颗小芯片,晶体管从13.4万个增加到900亿个。核心线程数从1/1个增加到96/192个,频率从20MHz提高到3.5GHz,缓存从16MB增加到486MB,内核面积从49平方毫米增加到1240平方毫米。 ... PC版: 手机版:

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AMD Zen5旗舰笔记本APU现身:功耗可达120W、GPU被传媲美4060 有趣的是,它会自带内存,容量32GB、64GB,应该是直接焊接在主板上。Strix Halo将采用chiplet整合封装设计,其中CPU部分预计有8个、12个、16个等至少三种配置,还有最多16MB二级缓存、32MB三级缓存。GPU升级到RDNA3+架构,最多40个计算单元,要知道RX 7600 XT也不过是32单元,有厂商透露其性能最高有望媲美移动版RTX 4060,甚至还有的说能达到移动版RTX 4070!内存支持高达LPDDR5X-8000,还有特别的32MB MALL缓存,类似现在显卡里的无限缓存,双双为GPU加速。NPU算力也进一步提高至最多60TOPS。 ... PC版: 手机版:

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英特尔首家大批量Foveros封装工厂Fab 9开始运行 这座位于新墨西哥州里奥兰乔附近的工厂耗资 35 亿美元建造和装备。该工厂被认为是有史以来最昂贵的先进封装工厂,其高昂的价格凸显了英特尔对先进封装技术和生产能力的重视程度。英特尔的产品路线图要求在未来大量使用多芯片/小芯片设计,再加上英特尔代工服务客户的需求,该公司正准备大幅提高Foveros、EMIB和其他先进封装技术的产量。英特尔的 Foveros 是一种芯片到芯片的堆叠技术,它使用该公司的低功耗 22FFL 制造工艺生产的基本芯片,并在其上堆叠芯片。基底裸片可以作为其所承载裸片之间的互连,也可以集成某些 I/O 或逻辑。当前一代 Foveros 支持小至 36 微米的凸块,每平方毫米最多可实现 770 个连接,但随着凸块最终变为 25 微米和 18 微米,该技术将提高连接密度和性能(在带宽和支持的功率传输方面)。一个 Foveros 基本裸片的大小可达 600平方毫米,但对于需要大于 600 平方毫米基本裸片的应用( 如用于数据中心产品的裸片),英特尔可以使用 co-EMIB 封装技术将多个基本裸片拼接在一起。新的Fab 9(其名称源自曾经的 6 英寸晶圆光刻厂)终于正式投入生产,至少在未来几年内,它将成为英特尔 Foveros 芯片封装的皇冠上的明珠。虽然该公司在马来西亚(PGAT)也拥有"先进封装"能力,但这些设施目前只配备了 EMIB 生产工具,这意味着英特尔所有的 Foveros 封装都是在新墨西哥园区进行的。作为英特尔首家大批量 Foveros 封装工厂,新增产能将大大提高英特尔 Foveros 封装的总产量,但该公司并未提供具体的产量数据。英特尔的 11x 工厂就在隔壁,这对工厂也是英特尔首个共用先进封装厂,使英特尔能够减少从其他英特尔工厂进口芯片的数量。不过,由于 Fab 11x 不是英特尔 4 工厂,就 Meteor Lake 而言,它只适合生产 22FFL 基本芯片。英特尔仍在进口英特尔4代CPU芯片(俄勒冈和爱尔兰),以及台积电(TSMC)生产的显卡、SoC和I/O芯片(台湾)。 ... PC版: 手机版:

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