《0基础成人小提琴保姆级教学》

《0基础成人小提琴保姆级教学》 亮点：从零开始轻松学小提琴，详细步骤分解，适合成人自学，快速掌握基础技巧。 标签：#成人小提琴 #0基础教学 #保姆级教程 #自学乐器 #音乐教育 更新日期：2025-05-05 09:10:52 链接：https://pan.quark.cn/s/987dfb68ccfa

禾几页: 小提琴弓振动形成的图案

禾几页: 小提琴弓振动形成的图案 OO: 519 XX: 28 Ethe: 克拉尼板是一种能够直观地将声波可视化的工具。它是根据德国物理学家克拉尼的研究而命名的。简单来说，当你用一个小提琴弓滑动克拉尼板的边缘时，板子会开始振动。如果在板子上撒上沙子，沙子就会被这些振动所驱动，形成各种图案。 要理解这个现象，我们首先要知道什么是声音。声音其实是一种波，特别是一种振动。当你敲击一个物体，或者用小提琴弓滑动一个物体，这个物体就会开始振动。这些振动以波的形式传播，我们听到的声音就是由这些波造成的。 克拉尼板实验中的关键在于振动的形式。当克拉尼板振动时，它的某些部分（叫做节点）几乎不动，而它的其他部分（叫做反节点）则大幅度地振动。这就形成了所谓的驻波。驻波就是节点和反节点的分布模式保持静止不变，即使波本身在传播。 沙子的运动反映了这些振动的模式。沙子会被从反节点（大振动区）赶到节点（无振动区），因为在反节点的大幅振动会使沙子受力并跳起，而节点区则相对静止，沙子能稳定地停在那里。因此，你看到的沙子的分布，实际上就是声音（振动）在板子上形成的驻波模式。 因此，克拉尼板让我们看见声音，是通过转化声音的振动为可视的沙子模式来实现的。这些模式又直接反映了振动波的形状和特性，这就是为什么我们可以通过这种方式“看见”声音的原理。 OO: 185, XX: 3 蛋友16ff277f82616: 为什么形状不是以弓的位置为中心辐射的 OO: 40, XX: 4 celk: @蛋友16ff277f82616 因为弓的振动只是提供了动力输入，真正的振动主体是这块方形板，而图案则反映了方形板自身的振动特性 OO: 23, XX: 0 孔雀仓鼠: 为什么这么规则？ OO: 21, XX: 1

科学家利用模糊光三维打印高质量镜片

科学家利用模糊光三维打印高质量镜片 访问：Saily - 使用eSIM实现手机全球数据漫游 安全可靠 源自NordVPN 研究人员开发了一种名为模糊层析成像的新型 3D 打印方法，可以快速生产出具有商业级光学质量的微透镜。他们使用这种技术打印了一个微型透镜阵列，图中的微型透镜阵列由一组镊子夹持。图片来源：加拿大国家研究理事会丹尼尔-韦伯在光学出版集团（Optica Publishing Group）的高影响力研究期刊《光学》（Optica）上，这些研究人员展示了这种新方法，用它制作了一个毫米大小的平凸透镜，其成像性能与市售玻璃透镜类似。他们还表明，这种方法可以在 30 分钟内生产出可以使用的光学元件。韦伯说："由于层析 3D 打印机和所使用的材料价格低廉，我们预计这种方法对于经济高效地快速制作光学元件原型非常有价值。此外，层析 3D打印固有的自由形态特性可以让光学设计师用形状复杂的打印光学器件取代多个标准光学器件，从而简化设计。"这项新技术使用定制的投影透镜来模糊用于固化光敏树脂的激光束。这样就产生了光学上光滑的表面，从而可以打印出商业质量的镜片，如左下角所示的镜片。资料来源：加拿大国家研究理事会丹尼尔-韦伯断层体积增材制造是一种相对较新的制造方法，它利用投射光在特定区域固化光敏树脂。它可以在没有任何支撑结构的情况下一次性打印出整个部件。然而，现有的层析成像方法无法直接打印出成像质量的透镜，因为所使用的铅笔状光束会造成条纹，从而导致部件表面出现小棱角。虽然可以使用后处理步骤来创建光滑的表面，但这些方法增加了时间和复杂性，从而失去了与断层打印相关的快速原型制作优势。韦伯博士说："光学元件的制造成本很高，因为一个正常的透镜需要严格的技术指标，而且制造过程复杂耗时。模糊层析成像技术可用于以低成本的方式进行自由形态设计。随着技术的成熟，它可以更快地制作出新光学设备的原型，这对从商业制造商到车库发明家的任何人都非常有用。"为了测试这种新方法，研究人员首先制作了一个简单的平凸透镜，结果表明它的成像分辨率与具有相同物理尺寸的商用玻璃透镜相当。它还表现出微米级的形状误差、亚纳米级的表面粗糙度和接近玻璃透镜的点展宽函数。他们还利用模糊层析技术制作了一个 3×3 的微透镜阵列，并将其与用传统层析 3D 打印技术打印的阵列进行了比较。他们发现，由于表面粗糙度较大，用传统方法打印的阵列无法对名片成像，但用模糊层析成像技术打印的阵列却可以。此外，研究人员还演示了将球透镜叠印到光纤上，这在以前只能通过一种称为双光子聚合的增材制造技术来实现。目前，他们正致力于通过优化光图案设计方法和将材料参数纳入打印过程来提高组件精度。他们还希望实现打印时间的自动化，使系统足够强大，使其能够用于商业用途。韦伯说："断层三维打印技术是一个迅速成熟的领域，在许多应用领域都得到了应用。在这里，我们利用这种三维打印方法的内在优势来制造毫米级的光学元件。这样，我们就为光学制造技术增加了一种快速、低成本的替代方法，有可能对未来技术产生影响。"编译来源：ScitechDaily ... PC版： 手机版：

斯坦福大学工程师用3D打印技术制造出数以万计特殊形状的纳米粒子

斯坦福大学工程师用3D打印技术制造出数以万计特殊形状的纳米粒子 截断四面体形成多个六边形晶粒的光学图像（上图）。键序分析通过不同的颜色显示出不同的六边形晶粒（下图）。颜色相同的相邻四面体表示它们具有相同的晶粒取向。比例尺为 20 微米。资料来源：David Doan 和 John Kulikowski斯坦福大学机械工程助理教授温迪-顾（Wendy Gu）在介绍她发表在《自然-通讯》（Nature Communications）杂志上的最新论文时说："由纳米球轴承构成的晶体与由纳米骰子构成的晶体的排列方式不同，这些排列方式将产生截然不同的物理性质。我们利用三维纳米打印技术制造出了已知最有前景的形状之一阿基米德截顶四面体。它们是尖端被削掉的微米级四面体"。在这篇论文中，Gu 和她的合著者描述了他们如何纳米打印出数以万计的这种具有挑战性的纳米粒子，将它们搅拌到溶液中，然后观察它们如何自我组装成各种有前景的晶体结构。更重要的是，只需将这些粒子重新排列成新的几何图案，这些材料就能在几分钟内实现不同状态之间的转换。这种改变"相位"的能力材料工程师将其称为"变形"特性类似于将铁变成回钢的原子重新排列，也类似于使计算机能够以数字形式存储 TB 级宝贵数据的材料。她说："如果我们能学会控制由这些阿基米德截断四面体制成的材料中的这些相移，就能引领许多有前景的工程方向。"长期以来，人们一直认为阿基米德截顶四面体（ATT）是最理想的几何形状之一，可用于生产易于改变相位的材料，但直到最近，这种材料的制造仍具有挑战性在计算机模拟中可以预测，但在现实世界中却很难再现。Gu 很快指出，她的团队并不是第一个大量生产纳米级阿基米德截顶四面体的团队，但他们是第一批（如果不是第一批的话）使用三维纳米打印技术实现这一目标的团队之一。"利用三维纳米打印技术，我们几乎可以制造出任何想要的形状。我们可以非常小心地控制粒子的形状，"Gu 解释说。"通过模拟预测，这种特殊形状可以形成非常有趣的结构。当你能以各种方式将它们组合在一起时，它们就会产生有价值的物理特性。"ATT 至少形成两种非常理想的几何结构。第一种是六边形图案，其中的四面体平放在基底上，截断的顶端朝上，就像一座纳米级山脉。Gu 说，第二种可能更有前景。它是一种准金刚石晶体结构，其中的四面体在朝上和朝下的方向上交替排列，就像鸡蛋放在鸡蛋盒里一样。这种金刚石排列方式被认为是光子学界的"圣杯"，可以引领许多新的有趣的科学方向。最重要的是，如果设计得当，未来由三维打印颗粒制成的材料可以快速重新排列，在应用磁场、电流、热量或其他工程方法的情况下，很容易在不同阶段之间来回切换。Gu 说，她可以想象，太阳能电池板的涂层可以全天变化，以最大限度地提高能效；飞机机翼和窗户可以使用新时代的疏水薄膜，这意味着它们永远不会起雾或结冰；还有新型计算机内存。这样的设想不胜枚举。"现在，我们正在努力使这些粒子具有磁性，以控制它们的行为方式，"Gu 谈到她已经在进行的最新研究时说，她正在以新的方式使用阿基米德截顶四面体纳米粒子。"各种可能性才刚刚开始探索。"编译自:ScitechDaily ... PC版： 手机版：

相传，西元64年7月19日晚上，罗马皇帝尼禄放火烧毁了他雄伟的帝都，并在城市燃烧的同时演奏小提琴。这个故事已经流传了两千年多很可

相传，西元64年7月19日晚上，罗马皇帝尼禄放火烧毁了他雄伟的帝都，并在城市燃烧的同时演奏小提琴。这个故事已经流传了两千年多很可能几乎不是真的。本书中杰出的罗马历史学家安东尼·巴雷特 （Anthony Barrett）澄清了事实，对罗马大火、其直接后果及其对罗马世界造成的长期破坏性后果进行了全面而权威的描述。在藉鉴非凡的考古新发现并筛选所有文学证据后，他讲述了已知的实际情况并认为这场灾难是罗马历史的转折点，最终导致了尼禄的垮台和始于凯撒王朝的罗马帝国的终结。 作者简介 · · · · · · 安东尼·A.巴雷特（Anthony A. Barrett），加拿大不列颠哥伦比亚大学历史学荣休教授。

单价4亿美元的光刻机 ASML又卖了一台

单价4亿美元的光刻机 ASML又卖了一台 ASML 首席商务官 Christophe Fouquet 在该公司与分析师和投资者举行的财报电话会议上表示：“关于 High-NA（即 0.55 NA EUV），我们向客户交付了第一个系统，该系统目前正在安装中。” “我们本月开始发货第二个系统，安装也即将开始。”ASML 于 2023 年底开始向英特尔交付其首款高数值孔径 EUV 光刻工具 Twinscan EXE:5000。英特尔将使用该系统来学习如何使用此类机器，并将将该系统与英特尔一起投入14A 制造工艺的大规模生产。这还需要几年时间。通过尽早开始研究基于高数值孔径 EUV 的工艺技术，英特尔将能够制定下一代光刻的行业标准，这有望在未来几年成为竞争优势。ASML方面表示：“在 2 月份的 SPIE 行业会议上，我们首次宣布了位于 Veldhoven 的 ASML-Imec High-NA 联合实验室中的 High-NA 系统的亮相。” “此后，我们获得了第一张图像，分辨率低于 10 纳米，创下了新纪录，并预计在未来几周内开始曝光晶圆。所有高数值孔径客户都将使用该系统来尽早进行工艺开发。”虽然台积电和Rapidus似乎并不急于采用高数值孔径EUV光刻系统进行量产，但他们仍然必须在未来的某个时候这样做，这就是为什么ASML对这项技术的未来持乐观态度。事实上，全球最大的晶圆厂工具制造商正在探索 Hyper-NA、EUV 光刻工具，其投影光学器件的数值孔径高于 0.7。“客户对我们的 [高数值孔径] 系统实验室的兴趣很高，因为该系统将帮助我们的逻辑和内存客户为将高 NA 插入他们的路线图做好准备，”Fouquet 说。“相对于 0.33 NA，0.55 NA 系统提供了更精细的分辨率，在相似的生产率下，晶体管密度几乎增加了 3 倍，支持低于 2 纳米的逻辑和低于 10 纳米的 DRAM 节点。”近日，ASML 宣布其首款具有 0.55 数值孔径 ( High-NA ) 投影光学器件的极紫外 (EUV) 光刻工具已打印出第一个图案。该公告对于 ASML 和高数值孔径 EUV 光刻技术来说都是一个重要的里程碑。ASML 在一份声明中写道：“我们位于 Veldhoven 的高数值孔径 EUV 系统打印了有史以来第一条 10 纳米密集线。” “成像是在光学器件、传感器和平台完成粗略校准后完成的。下一步：使系统充分发挥性能。并在现场取得相同的结果。”ASML 似乎是第一家宣布使用高数值孔径 EUV 光刻系统成功图案化的公司，这对于整个半导体行业来说是一个重要的里程碑。ASML 将仅将其 Twinscan EXE:5000 用于自己的开发和完善自己的技术。相比之下，英特尔将使用其 Twinscan EXE:5000 来学习如何使用高数值孔径 EUV 光刻技术来批量生产芯片。英特尔将通过其英特尔18A（1.8纳米级）工艺技术将该工具用于研发目的，并计划部署下一代Twinscan EXE：5200扫描仪在其14A（1.4纳米级）生产节点上制造芯片。ASML 的 Twinscan EXE:5200 配备 0.55 NA 镜头，设计用于打印 8 纳米分辨率的芯片，这比当前 EUV 工具的 13 纳米分辨率有了显着改进。与低数值孔径工具相比，该技术可通过单次曝光打印尺寸小 1.7 倍的晶体管，并实现高 2.9 倍的晶体管密度 。尽管低数值孔径系统可以匹配此分辨率，但它们必须使用昂贵的双图案技术。实现 8 纳米对于制造 3 纳米以下工艺芯片至关重要，这些芯片预计将于 2025 年至 2026 年问世。高数值孔径 EUV 技术的引入将消除对 EUV 双图案化的需求，从而简化生产流程，潜在地提高产量并降低成本。然而，每个高数值孔径工具的成本高达 4 亿美元，并带来了众多挑战，这使得向领先工艺技术的过渡变得复杂（将在本世纪下半叶发生）。 ... PC版： 手机版：