ASML和IMEC联合光刻实验室启用 最早2025年大量生产High NA EUV

ASML和IMEC联合光刻实验室启用最早2025年大量生产HighNAEUV实验室内的核心设备为一台原型高数值孔径EUV扫描仪（TWINSCANEXE：5000），以及与之配套的处理和计量工具，这些工具将共同助力未来芯片制造的突破。此次联合实验室的开放，被视为High-NAEUV技术大批量生产准备过程中的重要里程碑。业界预计，随着该技术的不断成熟和普及，将在2025-2026年期间迎来大规模的量产应用。值得一提的是，阿斯麦此前已公开展示了最新一代的HighNAEUV光刻机。这款光刻机体积庞大，相当于一台双层巴士，重量更是高达150吨。由于其庞大的体型和复杂的组装过程，该设备需要被分装在250个单独的板条箱中进行运输，显示了其在制造和运输过程中的非凡挑战。尽管HighNAEUV光刻机的制造成本高昂，据透露其售价高达3.5亿欧元（约合人民币27亿元），但其在半导体制造领域的价值无可估量。它将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1433556.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1433556.htm

ASML 首次公开展示 High NA EUV 光刻机

ASML首次公开展示HighNAEUV光刻机2月10日，ASML在荷兰总部向媒体展示新一代HighNAEUV光刻机TwinscanEXE:5000。这台光刻机尺寸等同于一台双层巴士；重达150吨，相当于两架空客A320客机；价值高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币）；全套系统需要250个货箱装运，需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成，不仅价格高昂也相当耗时。TwinscanEXE:5000可以制造8nm线宽电路，从而实现晶体管密度比前一代提高至2.9倍。https://laoyaoba.com/n/893942