ASML首席技术官认为当前光刻技术或走到尽头

ASML首席技术官认为当前光刻技术或走到尽头近年来,ASML站到了世界半导体技术的中心位置。去年ASML两次提高了生产目标,希望到2025年,其年出货量能达到约600台DUV(深紫外光)光刻机以及90台EUV(极紫外光)光刻机。由于持续的芯片短缺,交付问题每天都在发生,而且ASML还遇到了柏林工厂火灾这样的意外。PC版:https://www.cnbeta.com/articles/soft/1321349.htm手机版:https://m.cnbeta.com/view/1321349.htm

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ASML将推中国特供版DUV光刻机?完全没必要

ASML将推中国特供版DUV光刻机?完全没必要7月6消息,据DigiTimes报道,荷兰光刻机大厂ASML正在考虑发布其深紫外光刻(DUV)设备的特殊版本,以便使得该设备符合美国及荷兰最新的出口规则,并且无需许可证即可运送给中国客户。报道称,该特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造,而NXT: 1980Di是10年前推出的旧型号,不在限制范围内。PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369569.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1369569.htm

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ASML:所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机 单价翻番到26亿

ASML:所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机单价翻番到26亿ASML(荷兰阿斯麦)正抓紧研制其下一代高NA(0.55数值孔径)的EUV极紫外光刻机,在发布最新财报期间,AMSL透露,其存量EUV客户均订购了新一代设备。具体来说,在Intel和台积电之后,三星、SK海力士、美光等也下单高NAEUV光刻机了。PC版:https://www.cnbeta.com/articles/soft/1329261.htm手机版:https://m.cnbeta.com/view/1329261.htm

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光刻机巨头ASML:没有向中国市场推出特别版光刻机一周前,荷兰政府正式宣布限制某些先进半导体设备出口的新规,这些规定将于9月1日生效。具体而言,荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。尽管荷兰政府并未直接点名会受到限制的公司,但外界都明白这是在针对当地最出名的半导体设备公司ASML。彼时,ASML回应观察者网表示,根据新出口管制条例规定,该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。ASML在声明中重点指出,荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统(DUV,深紫外光刻)。而该公司的EUV光刻(极紫外光刻)系统在此前已经受到限制,其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。ASML受出口管制的光刻机型号在荷兰政府宣布新的半导体出口管制条例后,中国驻荷兰大使馆6月30日很快做出回应:荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施,这是对出口管制措施的滥用,是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离,中方对此坚决反对。“我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发,立即纠正错误做法。中方将坚决维护自身合法权益。同时,也愿与荷方一道,本着互利互惠的原则,共同探讨解决方案,共同推动中荷经贸关系健康发展。”中国驻荷兰大使馆发言人表示。ASML方面也早就对出口管制做出过警示。今年2月,在接受欧洲媒体采访时,ASML首席执行官温彼得直言,如果美国及其盟友切断中国(大陆)获得某些半导体和半导体制造技术的渠道,中国将被迫加倍努力开发自主技术。他坦言,虽然出口管制是合法工具,但不应该被滥用,决策者在“摆弄”半导体供应链之前应充分了解它的复杂性。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369555.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1369555.htm

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ASML表示美国最新限制措施可能会影响中国的中期销售业绩ASML预计新规定将适用于少数生产先进半导体的中国工厂。预计今年的财务前景不会受到重大影响,而到2030年的长期指导也不会受到影响。这家科技巨头预计将在周三上午公布第三季度收益。ASML表示将寻求美国当局进一步澄清新法规的范围。今年早些时候,ASML已经成为美国限制向中国出口尖端技术的目标,中国是这家位于Veldhoven的公司最大的市场之一。在拜登政府的压力下,荷兰政府对部分浸入式深紫外光刻机向中国出口实施限制,该限制将于1月1日起全面生效。浸入式深紫外光刻机是ASML第二先进的产品线。该公司已经被限制在该国销售其最先进的系统——极紫外线光刻机。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1390597.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1390597.htm

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ASML今年将出货60台EUV光刻机全球只有5家客户虽然没有提到具体的名单,但是台积电、三星、Intel这三家是没跑的,他们的逻辑工艺现在都是要用到EUV光刻机的。还有2家应该是内存芯片厂商了,三星这部分已经在14nmDRAM内存上使用EUV光刻了,SK海力士也跟进了,美光之前的表态相对保守一些,但迟早也会上EUV光刻机来生产内存芯片。虽然只有5家客户,但是最近几年对EUV光刻机的需求提升很快,ASML预计今年会出货60台EUV光刻机,而DUV光刻机达到375台,数量依然远高于EUV。毕竟EUV光刻机售价昂贵,单价在1.5到2亿美元,人民币超过10亿元。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1345573.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1345573.htm

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中国在芯片技术方面悄然取得进展,以减少对先进ASML光刻机的依赖据知情人士透露,中国的北方华创科技集团上个月开始研发光刻系统,中国本土的半导体设备制造商试图在不使用荷兰巨头阿斯麦最新设备的情况下生产先进芯片,这一突破可能会挫败美国遏制中国芯片制造能力的企图。这些努力涉及中国半导体供应链的多个参与者,并取得了初步研究进展,华为技术有限公司上个月申请的一项专利披露了一种称为“自对准四重图案化(SAQP)”的技术,该技术通过在硅片上多次蚀刻线路,提高晶体管密度,进而增强芯片性能。这项专利结合了先进的蚀刻和光刻技术,“可以提高电路图案设计的自由度”。彭博社曾报道,利用SAQP技术,使用深紫外光刻(DUV)设备中国就可以制造出5纳米级芯片,而无需只有阿斯麦尔才能供应的更先进的极紫外(EUV)设备。知情人士透露,北方华创去年12月就拟定计划,要于今年3月开始研发光刻系统。北方华创发言人表示,报道的消息并不准确,但没有进一步说明详情。——

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