3nm追赶台积电?三星将首家采用高端EUV薄膜

3nm追赶台积电?三星将首家采用高端EUV薄膜ChosunBiz报道,据业内人士透露,S&STech最早将于2023年上半年进入透光率超过90%的EUV薄膜的批量生产。S&STech的目标是应三星要求——将比率提高到94%。在三星投资的半导体材料和设备供应商中,S&STech获得了最多的投资资金。2020年7月,三星通过注资658亿韩元(5200万美元)获得了S&STech的8%的股份。据悉,薄膜在EUV工艺时代起着至关重要的作用,可以防止EUV受污染而导致良率性能不佳。三星将采用透光率超过90%的薄膜,以尽量减少光源的损失并稳定其3nm芯片的生产良率。据报道,目前还没有一家晶圆代工厂采用透光率超过90%的薄膜。目前,主要的EUV薄膜供应商包括荷兰的ASML、日本的三井化学、同属韩国公司的S&STech和FST。三星现在投资S&STech和FST,以开发自用EUV薄膜。根据接受BusinessNext采访的专门从事半导体的分析师和专家估计,目前台积电的3nm良率可能低至60%至70%,也可能高达75%至80%。与此同时,金融分析师DanNystedt也在Twitter上表示,台积电目前的3nm良率与5nm良率在其生产初期相似,据媒体报道,其良率可能高达80%。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1337655.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1337655.htm

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