报道称中国拟建巨型芯片工厂

报道称中国拟建巨型芯片工厂香港《南华早报》星期一（9月25日）报道，中国正计划用一种新型粒子加速器光源，建造一座容纳多台光刻机的大型工厂，以实现芯片制造本土化。报道称，中国计划建造的单个粒子加速器有两个篮球场大小，目前清华大学团队正和河北雄安新区政府讨论，为这一项目敲定建设地点。报道还引述科学家称，这项技术可以让中国超越美国的制裁，并成为半导体芯片行业的新领导者。中国的新型光源技术全称“稳态微聚束”（Steady-statemicrobunching，简称SSMB），简单来说是利用带电粒子在加速过程中释放的能量作为光源，产生极紫外光（EUV）。大众熟知的EUV光刻，正是以波长为10至14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。目前世界上使用极紫外光的光刻机制造商仅荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦（ASML）一家。这也解释了为什么中国稳态微聚束技术有突破的传闻，过去几天在中国互联网上引发热议。——

俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试 可生产350纳米工艺芯片

俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试可生产350纳米工艺芯片什帕克告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”在全球范围内，这种复杂程度的设备由几家主要公司组装，其中最大的是荷兰的ASML公司以及佳能和尼康。目前，台积电和三星利用ASML的EUV光刻技术，已经能够生产出精细至3纳米甚至2纳米的芯片。尽管350纳米的芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言，这一进展无疑是一则喜讯。这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1432289.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1432289.htm

中芯国际加速国产化，向戒掉对美依赖迈进

中芯国际加速国产化，向戒掉对美依赖迈进中国国内芯片业正努力实现自给自足。中国芯片龙头企业中芯国际在北京市郊工业区的中芯京城新厂正积极地将国产半导体生产设备纳入生产线。一位熟悉内情的人士说，中芯国际现在已经能够在这条生产线上生产制程达到28纳米的芯片，而且最近的产量已经超过了试生产水平。一位知情人士说，生产线使用的国产工具包括中国领先的半导体设备制造商生产的工具，如北方华创科技集团、中微半导体设备(上海)股份有限公司和盛美半导体设备(上海)股份有限公司。要实现真正的本土化，中国不仅需要国产芯片制造设备，还必须确保国产设备内部的元件是国产的。中国还需要在本地生产芯片所用的晶圆和其他材料。在高端光刻机方面，中国没有本土替代产品。中国国内的首选是上海微电子装备集团，其网站显示，该集团可生产90纳米光刻机。在全球范围内，这项技术早在20多年前就已问世。——

中国推出电视剧《我的中国芯》

中国推出电视剧《我的中国芯》中国新推出的一部电视剧，讲述了一家初创公司如何杀出重围，开发先进芯片制造技术的故事；但与现实情况不同的是，多国以出口管制措施让中国对这些技术不得其门而入。据彭博社报道，这部剧集的中文名称为《我的中国芯》，英文名称则是“TheBestChip”，星期一（7月10日）起在视频平台优酷播出。据报道，《我的中国芯》在预告片中以一段英文开头：“即日起，全面禁止向中国销售先进光刻机。”在中美不断升温的科技贸易战下，荷兰政府6月底已宣布对部分先进半导体制造设备实施新出口管制措施，意味着荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦（ASML）必须获得许可证，才能把部分型号的深紫外线光刻机（DUV）卖给中国。该措施将在9月1日生效。阿斯麦是全球半导体光刻机厂商龙头，其制造的光刻机是半导体供应链中最重要的环节之一。在这之前，阿斯麦最精密的机器极紫外光刻机（EUV）已被限制运往中国。美国去年10月出台措施，限制美企对华出口半导体制造设备，旨在遏制中国芯片产业的发展。美国在今年1月与荷兰和日本达成协议，进一步扩大对中国出口先进半导体制造机器的限制。对于《我的中国芯》的开播，有中国网民开玩笑说：“看这些剧不尴尬吗？”“恬不知耻、一帮没脸没皮的玩意，怎么好意思！”但也有网民说：“还蛮喜欢这个题材的，让我们一起了解科研人员的不容易”“这部剧也说明了中国在芯片研发的不易啊，尤其在美国限制下，大家要多多支持。”

下午察：中国拟建巨型芯片工厂？

下午察：中国拟建巨型芯片工厂？香港《南华早报》星期一（9月25日）报道，中国正计划用一种新型粒子加速器光源，建造一座容纳多台光刻机的大型工厂，以实现芯片制造本土化。报道称，中国计划建造的单个粒子加速器有两个篮球场大小，目前清华大学团队正和河北雄安新区政府讨论，为这一项目敲定建设地点。报道还引述科学家称，这项技术可以让中国超越美国的制裁，并成为半导体芯片行业的新领导者。

中国在芯片技术方面悄然取得进展，以减少对先进 ASML 光刻机的依赖

中国在芯片技术方面悄然取得进展，以减少对先进ASML光刻机的依赖据知情人士透露，中国的北方华创科技集团上个月开始研发光刻系统，中国本土的半导体设备制造商试图在不使用荷兰巨头阿斯麦最新设备的情况下生产先进芯片，这一突破可能会挫败美国遏制中国芯片制造能力的企图。这些努力涉及中国半导体供应链的多个参与者，并取得了初步研究进展，华为技术有限公司上个月申请的一项专利披露了一种称为“自对准四重图案化(SAQP)”的技术，该技术通过在硅片上多次蚀刻线路，提高晶体管密度，进而增强芯片性能。这项专利结合了先进的蚀刻和光刻技术，“可以提高电路图案设计的自由度”。彭博社曾报道，利用SAQP技术，使用深紫外光刻(DUV)设备中国就可以制造出5纳米级芯片，而无需只有阿斯麦尔才能供应的更先进的极紫外(EUV)设备。知情人士透露，北方华创去年12月就拟定计划，要于今年3月开始研发光刻系统。北方华创发言人表示，报道的消息并不准确，但没有进一步说明详情。——