报道称中国拟建巨型芯片工厂

报道称中国拟建巨型芯片工厂香港《南华早报》星期一(9月25日)报道,中国正计划用一种新型粒子加速器光源,建造一座容纳多台光刻机的大型工厂,以实现芯片制造本土化。报道称,中国计划建造的单个粒子加速器有两个篮球场大小,目前清华大学团队正和河北雄安新区政府讨论,为这一项目敲定建设地点。报道还引述科学家称,这项技术可以让中国超越美国的制裁,并成为半导体芯片行业的新领导者。中国的新型光源技术全称“稳态微聚束”(Steady-statemicrobunching,简称SSMB),简单来说是利用带电粒子在加速过程中释放的能量作为光源,产生极紫外光(EUV)。大众熟知的EUV光刻,正是以波长为10至14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。目前世界上使用极紫外光的光刻机制造商仅荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦(ASML)一家。这也解释了为什么中国稳态微聚束技术有突破的传闻,过去几天在中国互联网上引发热议。——

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韩国SK海力士改造中国无锡芯片厂计划因美国反对而遇险三位知情人士表示,SK海力士的生产计划要求公司以荷兰艾司摩尔(ASML)的最新极紫外光(EUV)微影技术的芯片制造机为无锡厂的一个量产设施进行升级。无锡这家工厂对全球电子行业至关重要,因其生产SK海力士约半数的动态随机存取记忆体芯片,占全球总量的15%。一位了解SK海力士在中国运营情况的消息人士说,随着两到三年后新型芯片在SK海力士的生产中占据更大份额,该公司将需要EUV光刻机来控制其成本并加速生产。美国官员不希望该过程中使用的先进设备进入中国。()

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