国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源

国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司发声，称该项目并非网传的国产#光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）

网传“国产光刻机工厂落地雄安” 中国电子院澄清

网传“国产光刻机工厂落地雄安”中国电子院澄清针对“清华大学EUV项目把阿斯麦（ASML）的光刻机巨大化，实现光刻机国产化”的传闻，中国电子院回应称，该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目。据澎湃新闻早前报道，一则在各大社交平台上广为流传的视频称，北京清华大学科研团队弯道超车，突破美国技术封锁，实现光刻机的巨大化，国产EUV光刻机获得突破，并称该项目已在河北省保定市雄安新区落地。中国电子工程设计院有限公司星期一（9月18日）通过官方微信公众号澄清，上述项目并非网传的中国国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。中国电子院介绍，HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，是中国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。这个项目早在2019年就开始建设、将于2025年底投入使用。中国电子院表示，HEPS可以被视为一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机，它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。中国电子院强调，HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。

我国高能同步辐射光源将发射第一束光

我国高能同步辐射光源将发射第一束光记者日前从北京市怀柔区了解到，年内，怀柔科学城大科学装置高能同步辐射光源预计发射“第一束光”。作为中国大科学装置之一，高能同步辐射光源是由中国科学院、北京市共建的怀柔科学城大科学装置集群的核心装置。建成后，其将成为我国首台高能同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，可以发射比太阳亮1万亿倍的光，有助于更深层次解析物质微观结构和演化机制，为提升我国国家发展战略与前沿基础科学技术领域的原始创新能力提供高科技研究平台。(光明日报)

记者日前从北京市怀柔区了解到，年内，怀柔科学城大科学装置高能同步辐射光源预计发射“第一束光”。作为中国大科学装置之一，高能同步辐

记者日前从北京市怀柔区了解到，年内，怀柔科学城大科学装置高能同步辐射光源预计发射“第一束光”。作为中国大科学装置之一，高能同步辐射光源是由中国科学院、北京市共建的怀柔科学城大科学装置集群的核心装置。建成后，其将成为我国首台高能同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，可以发射比太阳亮1万亿倍的光，有助于更深层次解析物质微观结构和演化机制，为提升我国国家发展战略与前沿基础科学技术领域的原始创新能力提供高科技研究平台。(光明日报)

中国第一台高能量同步辐射光源里程碑 成功加速第一束电子束

中国第一台高能量同步辐射光源里程碑成功加速第一束电子束据了解，HEPS直线加速器是一台常温直线加速器，长约49米，用于产生电子，并将电子加速到500MeV，是电子的源头和第一级加速器，由端头的电子枪、聚束单元、加速结构、微波功率源等设备构成。HEPS直线加速器3月14日，束流能量达到500MeV、末端电荷量达到额定2.5nC以上。HEPS工程总指挥潘卫民说，“直线加速器成功满能量出束，拉开了HEPS加速器调束的序幕，调束团队将在此基础上进行参数优化和性能提升，以优化直线加速器性能指标，并为后续增强器、储存环的建设打下坚实基础”。HEPS是中科院、北京市共建怀柔科学城的核心装置，由国家发展改革委批复立项，中科院高能所承担建设，自2019年6月启动建设，建设周期6.5年。建成后，HEPS将是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，也将是中国第一台高能量同步辐射光源，将和我国现有的光源形成能区互补，对提升我国国家发展战略与前沿基础科学和高技术领域的原始创新能力具有重大意义。HEPS直线加速器建设节点：2019年6月，物理设计定型冻结；2021年3月，第一根加速结构测试验收完成；2021年6月，首台科研设备——电子枪安装完成；2022年3月，科研设备批量安装启动；2022年5月，全线真空封接完成；2022年9月，联合调试完成；2023年3月，获得辐射安全许可证，直线加速器成功出束。HEPS直线加速器能谱靶截图...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1349383.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1349383.htm

中国光刻机“”弯道超车”

中国光刻机“”弯道超车”真正的SSMB-EUV光源方案加速器周长100~150米，输出EUV功率>1KW美国的极限制裁极大的加速了中国EUV光刻机的研发速度。中国目前采取的是一种全新的“技术路线方案”目前中国有三条光刻机研发路线。1.国外正统路线，也就是ASML的EUV光刻机路线。HW+上海光机所+宇量升，国家队，走500WLPP光源+复杂镜头组的技术路线。现在进度最快，技术复杂度相对最高，特别是超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器技术难度非常高。进度保密2.改进型路线。广东智能机器研究院(广智院)+华中科技大，他们在尝试一种采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。如果他们那个400路光纤激光器能够成功，将是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的数倍。何时成功还是未知。3.颠覆式全新路线。清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施--同步辐射光源。直接把光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。比如：深圳产业光源系统规划了EUV光刻线站和EUV检测线站等合计四条光束线，六个实验站。第三条。颠覆性技术路线如果全面成功，可以秒杀上面两条路线。光源外置、极大简化的光路直接把EUV光刻机变成体积大，但是成本相对较低的批量产品。且更匹配中国极高的基础设施建设能力！！！