国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源

国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司发声，称该项目并非网传的国产#光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）

“中国光刻机工厂”疯传 官方揭开真相：北京高能同步辐射光源

“中国光刻机工厂”疯传官方揭开真相：北京高能同步辐射光源HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施。它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。△北京高能同步辐射光源项目实拍图HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV，然后注入周长1360米的储存环，用接近光速的速度保持运转。电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时，就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。简单的说，HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产生的小光束，可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队，中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作。从项目可研立项到项目落地，中国电子院攻克了多项技术和工艺难关，解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题，实现了重大技术突破，指标控制达到了国际先进水平。目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工，向产生世界最“亮”的光又更近了一步。虽然HEPS不是光刻厂，但关于光刻厂的信息之所以能在自媒体平台迅速刷屏，归根到底，还是源于大众对解决“卡脖子”难题的期待。中国电子院也在，助力“中国芯”之路上持续发力，从建院之初，便开启了中国“芯”的起步。近年来，中国电子院深耕细做半导体行业，承担了国内超过50%的存储芯片项目，为国家在电子信息领域实现科技自立自强做出了重要贡献。中国电子院自主开发了核心算法和数字化技术，已推出“先进电子制造数字孪生工厂解决方案1.0版”，致力于实现生产制造“绿色、低碳、精益、高效”建设目标。国家存储器基地：国内唯一本土企业主导的12英寸3D闪存生产线项目中芯京城：国内规模最大的12英寸集成电路先进工艺生产线项目广州粤芯：广东省第一座成功量产的12英寸集成电路芯片制造厂福建晋华：第一条由本土企业建设并运营的12英寸DRAM芯片生产线合肥晶合：国内第一座EPC模式新建的12英寸厂英诺赛科：国际领先8英寸硅基氮化镓芯片生产线厦门士兰微：国内第一条12英寸特色工艺IDM芯片制造西安奕斯伟：国内规模最大12英寸硅片生产线厦门通富微电：世界级绿色标杆集成电路封装测试基地德州仪器（成都）：全球模拟芯片龙头企业先进封装项目...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1384795.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1384795.htm

中国光刻机“”弯道超车”

中国光刻机“”弯道超车”真正的SSMB-EUV光源方案加速器周长100~150米，输出EUV功率>1KW美国的极限制裁极大的加速了中国EUV光刻机的研发速度。中国目前采取的是一种全新的“技术路线方案”目前中国有三条光刻机研发路线。1.国外正统路线，也就是ASML的EUV光刻机路线。HW+上海光机所+宇量升，国家队，走500WLPP光源+复杂镜头组的技术路线。现在进度最快，技术复杂度相对最高，特别是超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器技术难度非常高。进度保密2.改进型路线。广东智能机器研究院(广智院)+华中科技大，他们在尝试一种采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。如果他们那个400路光纤激光器能够成功，将是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的数倍。何时成功还是未知。3.颠覆式全新路线。清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施--同步辐射光源。直接把光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。比如：深圳产业光源系统规划了EUV光刻线站和EUV检测线站等合计四条光束线，六个实验站。第三条。颠覆性技术路线如果全面成功，可以秒杀上面两条路线。光源外置、极大简化的光路直接把EUV光刻机变成体积大，但是成本相对较低的批量产品。且更匹配中国极高的基础设施建设能力！！！

中国唯一在真正研发光刻机的机构上海微电子到现在只能生产90纳米光刻机。2020年宣布2021年交付28纳米光刻机，没下文了。现在

中国唯一在真正研发光刻机的机构上海微电子到现在只能生产90纳米光刻机。2020年宣布2021年交付28纳米光刻机，没下文了。现在又宣布今年年底交付。即使真能交付，和能量产、质量稳定也是两回事。国外2011年已量产28纳米芯片。但如果中芯因为华为被制裁，以后中国就要靠这款期望中的国产28纳米光刻机。但国外咨询机构早扒过，这款光刻机的中国供应商仍然要靠外国提供必需的配件，美国仍然随时可制裁。一个国家想搞完全国产的光刻机是痴心妄想。阿斯麦生产一台EUV光刻机要由24个国家的500多个供应商提供45万个配件。

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机统筹上海张江科学城开发建设的张江集团透露，中国半导体装备制造商上海微电子已成功研制出28纳米光刻机。上海张江（集团）有限公司星期二（12月19日）在集团微信公众号“你好张江”发文称：“作为国内唯—一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子已成功研制出28nm光刻机。”中国“钛媒体”称，张江集团公布的这一消息，标志着中国最新28纳米前道光刻机研发进展首次被官方披露。张江集团是一家统筹承担张江科学城开发建设、项目引进等重要功能的国有独资公司，隶属于上海市浦东新区政府监管单位。天眼查信息显示，张江集团是上海微电子的第四大股东。消息传出后，张江集团股价飙升了8%。不过，张江集团之后对文章进行了修改，目前的文章中拿掉了关于28纳米的表述：“作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子致力研制先进的光刻机。”上海微电子（SMEE）成立于2002年，是由中国多家产业集团和投资公司共同投资组建的高科技股份有限公司。公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。在美国去年加大力度遏制中国芯片产业发展的背景下，美国商务部将上海微电子列入黑名单。另据彭博社报道，虽然28纳米芯片于2011年首次问世，但上海微电子的最新成果意味着中国可能已将与该领域领先者的差距缩小了几年。此前，中国自己的光刻技术落后荷兰公司约20年。尽管现在的光刻技术更加成熟，28纳米芯片对于智能手机和电动汽车等众多产品仍然至关重要。2023年12月20日3:55PM

中国28nm国产光刻机有望年底交付

中国28nm国产光刻机有望年底交付据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。光刻机是决定半导体生产工艺水平高低的核心技术，包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件，极为复杂精密。事实上，光刻机是一个泛概念，包括三种不同类型：为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。前道光刻机就是我们最常说的光刻机，主要用于晶圆制造，可分为DUV、EUV两大类，目前由荷兰阿斯麦(ASML)占绝对垄断地位，日本的尼康、佳能也有很强的实力。——