阿斯麦今年将向台积电和三星交付价值3.8亿美元的高数值孔径极紫外光刻机

阿斯麦今年将向台积电和三星交付价值3.8亿美元的高数值孔径极紫外光刻机总部位于荷兰的阿斯麦今年将向台积电和三星电子出货其最新的芯片制造设备。据该公司发言人称，阿斯麦首席财务官罗杰·达森在最近的电话会议上告诉分析师，阿斯麦的三大客户台积电、英特尔和三星都将在今年年底前获得高数值孔径极紫外光刻机。英特尔已经订购了最新的高数值孔径极紫外光刻机，并于去年12月底送往俄勒冈州的制造工厂。目前尚不清楚阿斯麦最大的EUV客户台积电何时会收到这台设备。这家台湾芯片制造商的一位代表表示，该公司与供应商密切合作，并拒绝进一步置评。——

ASML：所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机 单价翻番到26亿

ASML：所有EUV客户均订购了下一代高NA极紫外光刻机单价翻番到26亿ASML（荷兰阿斯麦）正抓紧研制其下一代高NA（0.55数值孔径）的EUV极紫外光刻机，在发布最新财报期间，AMSL透露，其存量EUV客户均订购了新一代设备。具体来说，在Intel和台积电之后，三星、SK海力士、美光等也下单高NAEUV光刻机了。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1329261.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1329261.htm

阿斯麦台积电能远程关闭EUV？国科会吴诚文：技术上可行

阿斯麦台积电能远程关闭EUV？国科会吴诚文：技术上可行彭博社报道，据数名知情人士透露，若台湾被入侵，荷兰半导体生产设备制造商阿斯麦及台积电有方法让台积电最先进的芯片制造设备“极紫外光刻机”(EUV)停止运行。立法院教育及文化委员会邀请国科会主委吴诚文列席报告业务概况并接受质询，国民党立委叶元之提问外媒报导是否属实，是否可远端关闭EUV。吴诚文回应说，以现在的半导体产业智能制造技术，“可以做得到，技术上是可以的”。——(台湾)、

东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶

东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻胶，是为了满足阿斯麦这一类极紫外光刻机大量投产之后的需求。阿斯麦高数值孔径的极紫外光刻机，是他们在推出TWINSCANNXE:3400C、TWINSCANNXE:3600D等多个型号的极紫外光刻机之后，所研发的新一代产品，将沿用EXE系列的命名，已有TWINSCANEXE:5000和TWINSCANEXE:5200两个型号。阿斯麦高数值孔径的极紫外光刻机，数值孔径将由0.33增至0.55，用于2nm及以下的制程工艺，首台交由客户用于制程工艺研发的产品，计划在今年年底出货，用于大规模生产的，预计2025年开始在客户的工厂全面投入运营。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1367465.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1367465.htm

阿斯麦计划明年下半年之前在日本北海道新建一个技术支持中心

阿斯麦计划明年下半年之前在日本北海道新建一个技术支持中心报道称，约50名阿斯麦工程师将在Rapidus正在建设的半导体工厂的原型生产线上安装极紫外（EUV）光刻设备。此外，阿斯麦还将为Rapidus的工厂提供技术支持和设备维护工作。阿斯麦的总部位于荷兰的Veldhoven市，是全球唯一的极紫外（EUV）光刻机设备制造商，而EUV光刻机设备是量产5纳米至7纳米及以下先进半导体所必需的设备。据悉，三星电子、英特尔、台积电等均采购了该公司的极紫外光刻机设备。Rapidus于2022年8月由日本八大企业（丰田汽车、索尼、日本电信电话、日本电气、日本电装、软银、铠侠和三菱日联银行）联合投资成立，主要研究、开发、设计、制造和销售先进的逻辑半导体。外媒称，该公司在日本政府的大量资金支持下，正在冒险进入竞争激烈的定制尖端微芯片制造市场。今年2月份，该公司宣布，它已选择北海道千岁市作为其新的先进半导体工厂的建设地点。这座新工厂将是日本首座2纳米晶圆工厂，将生产用于5G通信、量子计算、数据中心、自动驾驶汽车和数字智能城市等领域的先进芯片。今年9月1日，Rapidus在北海道千岁市为该工厂举行动工仪式，该工厂计划生产2纳米制程半导体。据报道，日本政府已经决定为Rapidus提供总计3300亿日元的补贴，以加强该国的半导体产业。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1386643.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1386643.htm

2nm芯片研发遭遇瓶颈：没ASML下一代NA EUV光刻机搞不掂

2nm芯片研发遭遇瓶颈：没ASML下一代NAEUV光刻机搞不掂在业内，比Intel、台积电、三星还要早就能接触到ASML光刻机新品的是比利时微电子研究中心（IMEC），虽然名气不大，但其实它是世界上最大的半导体专门研究机构。因为离得近，ASML的原型试做机，往往在完工后就第一时间送交IMEC评估尝鲜。日前，IMEC首席执行官LucVandenhove在公开路线图时表示，当前的EUV光刻设备其实可以响应到2nm的微缩水平，不过，想要超越，必须要靠下一代高NAEUV光刻机。他督促ASML在未来3年内，全力投产高NA光刻机。所谓高NA也就是光刻机的透镜和反射镜数值孔径达到0.55，进而增加光刻分辨率，以便制备更精密的为电路图像。当前的EUV光刻机均停留在0.33的水平。一切顺利的话，ASML会在明年推出其首款高NAEUV光刻机，Intel、三星和台积电都争相第一时间部署进厂，其中Intel下手最快。这款光刻机价值高达4亿美元（约合26亿元人民币），组装好的体积有双层巴士大、重超200吨。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1302961.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1302961.htm