以前台积电用28纳米光刻机采用n+2技术生产7纳米芯片,良率不到50%,所以只生产了一年就改用EUV光刻机生产7纳米芯片。中芯国

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以前台积电用28纳米光刻机采用n+2技术生产7纳米芯片,良率不到50%,所以只生产了一年就改用EUV光刻机生产7纳米芯片。中芯国际是山寨台积电的做法,良率更低,业界传言只有15%,所以采用麒麟9000s芯片的华为手机奇贵无比,芯片是其最贵部分。方舟子by匿名投稿

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不用光刻机EUV!5纳米芯片制造方法专利公布#抽屉IT

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佳能:纳米压印设备可以生产2nm芯片,价格仅有EUV光刻机的10%https://www.icsmart.cn/71915/ht

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EUV光刻机耗能巨大 芯片制造商生产与节能减排难并重

EUV光刻机耗能巨大芯片制造商生产与节能减排难并重据彭博社报道,ASML新一代EUV每台耗电约1百万瓦,三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大;台积电对化石燃料高度依赖,2025年耗能估占中国台湾省的12.5%。世界仅此一家的EUV公司ASML,旗下新一代的EUV光刻机耗资高达1.5亿美元,包含10万个部件和长达2公里的布线。EUV光刻机体现着更先进芯片的制造过程正变得复杂和能源密集。ASML当前每台EUV的额定耗电量约为1百万瓦,约为前几代设备的10倍,但由于没有替代品来制造最先进的半导体,芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石。台积电为业界拥有最多EUV光刻机的公司,公司目前已有超过80台EUV,新一代设备还在安装中。预计到2025年,仅台积电一家公司就将占全中国台湾省整体能源消耗的12.5%,远高于2020年时的6%。除台积电外,另一储存芯片制造大厂美光科技计划在位于中国台湾的工厂使用至少一台EUV光刻机。据彭博分析师CharlesShum称,在三年内,中国台湾代工厂中四分之一的芯片制造将使用EUV光刻机。对于芯片制造的能源消耗问题,环保组织绿色和平(Greenpeace)气候能源项目主任郑楚忻曾表示,缺电必然发生,其他行业将受其牵连。比利时微电子研究中心(Imec)Lars-AkeRagnarsson指出,在使用高耗能设备的芯片厂,再生能源变得紧急且必要。彭博社提出,芯片制造对环境的影响将取决于用电来源。据悉,台积电高度仰赖化石燃料。2016年,中国台湾当局制定目标,即到2025年实现20%的电力来自可再生能源,但其7月发布的最新能源评估显示,截至2021年底,其电力只有6%来自可再生能源。韩国芯片制造巨头三星也面临着类似的能源消耗问题。三星在韩国拥有六个半导体制造基地,2021年占其功耗的3%。为了争取更多的客户订单来和台积电竞争,三星正在扩大对EUV的使用。该公司未公开说明拥有机器的数量。6月初,三星集团负责人JayLee前往荷兰与ASML达成新的交易。PC版:https://www.cnbeta.com/articles/soft/1308975.htm手机版:https://m.cnbeta.com/view/1308975.htm

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传台积电A16 1.6nm制程不会采用High-NA EUV光刻机

传台积电A161.6nm制程不会采用High-NAEUV光刻机访问:NordVPN立减75%+外加3个月时长另有NordPass密码管理器据台湾业界消息,台积电并没有为A16制程准备High-NA(高数值孔径)EUV光刻机,而是准备采用现有EUV光刻机生产。相比之下,英特尔、三星都将在这一节点使用最新的High-NAEUV光刻机。关于背面供电技术,英特尔原本计划在20A(2nm)制程导入,称其为“PowerVia”,但后来决定推迟至14A制程采用。三星同样开发了类似的背面供电技术BSPDN,根据早些时候消息,三星代工部门首席技术官JungKi-tae曾宣布将于2027年将背面供电技术用于1.4nm制程。目前英特尔已经收到了ASML首台High-NAEUV光刻机,并完成组装。业界认为,台积电选择在这时推出A16制程,给英特尔与三星带来了竞争压力。虽然英特尔在High-NAEUV设备上抢先一步,但能否赶上台积电的商业化进度还有待观察。台积电决定在A16制程沿用常规EUV光刻机,也展现了其技术实力,可以在不采用最新设备的情况下,将现有EUV设备的分辨率推进到1.3nm以下。事实上,去年台积电就成功通过调整光刻胶材料、光掩模制程等方式,在提升先进制程的临界尺寸与图形精度的同时,还降低了缺陷密度。台湾分析师表示,台积电、英特尔、三星之间的竞争将进一步刺激对EUV光刻机的需求,尤其是独家供应商ASML。考虑到High-NAEUV设备产能有限,如何在三大晶圆代工巨头之间分配,势必成为一大挑战。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1431296.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1431296.htm

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绕开EUV光刻机美国实现0.7nm芯片:真有那么神奇?近日,一则美国制造出了0.7纳米芯片的芯片在笔者的朋友圈传播。与此同时传播的新还有类似绕开EUV光刻机、美国打造全球分辨率最高光刻系统。这究竟是个什么新闻?从现阶段看EUV光刻机会是怎样的一个未来?让我们来还原以下这个新闻本身。PC版:https://www.cnbeta.com/articles/soft/1320915.htm手机版:https://m.cnbeta.com/view/1320915.htm

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