纳米压印设备可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：不能卖到中国，也无法超越EUV

纳米压印设备可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：不能卖到中国，也无法超越EUVhttps://www.icsmart.cn/69388/11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10。由于该设备可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，或将成为中国绕过美国限制来制造尖端制程芯片的可行方案。但是，佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示，该设备无法出口到中国。

2nm芯片研发遭遇瓶颈：没ASML下一代NA EUV光刻机搞不掂

2nm芯片研发遭遇瓶颈：没ASML下一代NAEUV光刻机搞不掂在业内，比Intel、台积电、三星还要早就能接触到ASML光刻机新品的是比利时微电子研究中心（IMEC），虽然名气不大，但其实它是世界上最大的半导体专门研究机构。因为离得近，ASML的原型试做机，往往在完工后就第一时间送交IMEC评估尝鲜。日前，IMEC首席执行官LucVandenhove在公开路线图时表示，当前的EUV光刻设备其实可以响应到2nm的微缩水平，不过，想要超越，必须要靠下一代高NAEUV光刻机。他督促ASML在未来3年内，全力投产高NA光刻机。所谓高NA也就是光刻机的透镜和反射镜数值孔径达到0.55，进而增加光刻分辨率，以便制备更精密的为电路图像。当前的EUV光刻机均停留在0.33的水平。一切顺利的话，ASML会在明年推出其首款高NAEUV光刻机，Intel、三星和台积电都争相第一时间部署进厂，其中Intel下手最快。这款光刻机价值高达4亿美元（约合26亿元人民币），组装好的体积有双层巴士大、重超200吨。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1302961.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1302961.htm

绕开EUV光刻机 美国实现0.7nm芯片：真有那么神奇？

绕开EUV光刻机美国实现0.7nm芯片：真有那么神奇？近日，一则美国制造出了0.7纳米芯片的芯片在笔者的朋友圈传播。与此同时传播的新还有类似绕开EUV光刻机、美国打造全球分辨率最高光刻系统。这究竟是个什么新闻？从现阶段看EUV光刻机会是怎样的一个未来？让我们来还原以下这个新闻本身。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1320915.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1320915.htm

成立一年的日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻机 计划2025年试产2nm工艺

成立一年的日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻机计划2025年试产2nm工艺Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露，他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备，不过具体的型号及进度没有说明，不确定是ASML的哪款EUV光刻机，何时安装、测试也没公布。Rapidus公司成立了仅仅9个月多，不到一年时间就筹备完成EUV光刻机，进度确实很快。小池淳义表示，通常大规模量产先进工艺需要至少1000名工程师，但他们引入了AI和自动化技术，现在有500名工程师了，用一半的资源就能完成。根据该公司的计划，他们2025年试产2nm工艺，2027年量产，2030年代预计营收将达到1万亿日元。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1360153.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1360153.htm