消息称三星计划量产的 1c DRAM 使用 MOR 光刻胶
消息称三星计划量产的1cDRAM使用MOR光刻胶三星正在考虑在其下一代DRAM极紫外(EUV)光刻工艺中应用金属氧化物抗蚀剂(MOR)。MOR被业内认为是下一代光刻胶(PR),会接棒目前先进芯片光刻中的化学放大胶(CAR)。三星正考虑在第6代10纳米DRAM(1cDRAM)中使用MOR,主要在六层或七层上使用EUVPR,相关产品将于今年下半年投入生产。(科创板日报)
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