SK海力士正在测试低温蚀刻设备 可在-70℃低温下生产闪存

SK海力士正在测试低温蚀刻设备 可在-70℃低温下生产闪存 与传统的蚀刻工艺相比,东京电子的这款低温蚀刻设备在工作温度上形成了鲜明对比。传统蚀刻工艺通常在0℃到30℃的温度范围内进行,而这款新设备能在-70℃的低温下运行,这样的低温环境为生产更高性能的3D NAND提供了可能。据东京电子提供的论文数据,这款新的蚀刻机能在短短33分钟内完成10微米深的高深度比蚀刻,效率比现有工具高出三倍以上。这一显著的技术进步不仅提高了3D NAND的生产效率,还有望进一步推动闪存技术的发展。目前,SK海力士的321层3D NAND采用了三重堆栈结构。而采用东京电子的新设备后,该公司可能实现以单堆栈或双堆栈的方式构建400层的3D NAND,这将进一步提升生产效率。然而,这一目标的实现还需等待新设备在可靠性及性能一致性方面的进一步验证。值得一提的是,东京电子的这款低温蚀刻设备在环保方面也表现出色。它采用氟化氢(HF)气体作为蚀刻介质,相较于传统系统使用的氟碳化物气体,具有更低的温室效应,为半导体行业的绿色发展提供了有力支持。此外,全球半导体巨头三星也在验证这一新技术。与SK海力士不同,三星选择了直接引进东京电子的新设备进行测试,显示出其对新技术的高度关注和积极态度。 ... PC版: 手机版:

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SK 海力士希望与铠侠合作在日本生产 AI 用 HBM 韩国 SK海力士已与铠侠 (Kioxia) 提案,希望在日本生产下一代 HBM 内存,因为生成式 AI 的需求正在迅速增长,以英伟达为首的芯片制造商正在大量购买 HBM 内存。预计生产将在铠侠和美国西部数据 (WD) 合资的工厂进行。 铠侠正在根据半导体市场状况及其与西部数据的关系考虑下一步行动。 SK海力士有全球顶尖 HBM 市占率, 若能使用铠侠位于日本的现有工厂生产 HBM 的话,将能迅速增产;另一方面,铠侠、西部数据共同营运的日本工厂目前仅生产 NAND Flsah,而之后若能生产最先进 DRAM 的话,也有助于日本半导体产业复兴计划。 铠侠和西部数据均生产 NAND Flash 产品,双方曾计划合并,若合并完成规模将直指全球市占龙头三星电子。不过因间接对铠侠进行出资的 SK海力士反对,让合并谈判在去年秋天破裂。

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