先进工艺过剩 台积电计划关闭部分EUV光刻机以节电

先进工艺过剩台积电计划关闭部分EUV光刻机以节电EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，只有ASML公司才能生产，单台售价约10亿人民币，之前三星、台积电等公司还要抢着买，然而今年半导体形势已经变了，EUV光刻机反而因为耗电太多，台积电计划关闭省电。来自产业链的消息人士手机晶片达人的消息称，由于先进制程产能利用率开始下滑，而且评估之后下滑时间会持续一段周期，台积电计划从年底开始，将部分EUV设备关机，以节省EUV设备巨大的耗电支出。据了解台积电目前拥有大约80台EUV光刻机，主要用于7nm、5nm及以下的先进工艺，今年9月份还会量产3nm工艺，都需要EUV光刻机，然而随着PC、手机、显卡等产品的需求下滑，先进工艺生产的芯片势必会受到影响。苹果今年的iPhone14Pro系列的A16处理器也没有急着上3nm工艺，还在用4nm工艺，此外苹果还因为3nm能效问题，取消了初代3nm生产芯片的计划。相比之前的DUV光刻机，EUV光刻机需要使用高能激光器，而且光线会多次折射导致损耗极大，早期效率只有0.02%，现在量产的说是可以达到2%效率，但也意味着绝大多数电力都要消耗掉。EUV光刻机生产一天需要3万度电左右，一年耗电大约1000万度，是十足的电老虎。PC版：https://www.cnbeta.com/articles/soft/1311049.htm手机版：https://m.cnbeta.com/view/1311049.htm

阿斯麦台积电能远程关闭EUV？国科会吴诚文：技术上可行

阿斯麦台积电能远程关闭EUV？国科会吴诚文：技术上可行彭博社报道，据数名知情人士透露，若台湾被入侵，荷兰半导体生产设备制造商阿斯麦及台积电有方法让台积电最先进的芯片制造设备“极紫外光刻机”(EUV)停止运行。立法院教育及文化委员会邀请国科会主委吴诚文列席报告业务概况并接受质询，国民党立委叶元之提问外媒报导是否属实，是否可远端关闭EUV。吴诚文回应说，以现在的半导体产业智能制造技术，“可以做得到，技术上是可以的”。——(台湾)、

台积电CEO访问ASML总部 预示可能改变其在高数值孔径EUV光刻技术方面的做法

台积电CEO访问ASML总部预示可能改变其在高数值孔径EUV光刻技术方面的做法台积电的宿敌英特尔公司（Intel）希望在新兴的高数值孔径超紫外光刻（High-NAEUVlithography）领域取得不可逾越的领先地位。事实上，首批几台这样的机器全部出货给了英特尔的芯片制造部门。英特尔打算在其即将推出的18A（1.8纳米）工艺节点参数范围内试验高纳极致紫外线（EUV）光刻技术，然后再将其正式纳入14A（1.4纳米）制造工艺。相比之下，台积电公开表示，其现有的低噪点EUV光刻机阵容可以支持生产到2026年。对于即将到来的A16工艺节点，该公司显然满足于现有的工艺改进，包括提高生产效率的多重掩模和先进的基于纳米片的晶体管设计。这家台湾芯片制造商似乎还在依靠背面供电来提升其产品在人工智能工作负载方面的性能。这就是问题的关键所在。5月26日，台积电首席执行官魏哲家没有出席2024年技术研讨会，而是秘密访问了ASML位于荷兰的总部。根据BusinessKorea的报道，从ASML首席执行官ChristopherFuke和通快集团首席执行官NicolaLeibinger-Kammüller的社交媒体帖子中可以了解到魏访问的一些细节。根据台积电的既定计划，这家合约芯片制造商希望在推出基于1.6纳米的产品后，才采用高数值孔径EUV光刻技术。然而，魏哲家对ASML总部的秘密访问却让人颇感意外，尤其是这表明台积电目前的发展轨迹存在暗流，或许正在未来的运营策略上进行更广泛的检讨。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1432586.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1432586.htm

台积电称无需 ASML 的 High-NA EUV 即可实现下一代 A16 工艺节点

台积电称无需ASML的High-NAEUV即可实现下一代A16工艺节点台积电高管周二表示，不一定需要使用ASML下一代HighNAEUV机器，用于即将推出的芯片制造技术A16，该技术正在开发中，预计于2027年推出。HighNA光刻工具有望帮助将芯片设计缩小三分之二，但芯片制造商必须权衡这一优势与更高的成本，以及ASML的旧技术是否可能更可靠、更好。每台HighNAEUV工具的成本预计超过3.5亿欧元，而ASML常规EUV机器的成本则为2亿欧元。台积电是全球最大的合同芯片制造商，也是ASML常规EUV机器的最大用户。而另一方面，英特尔则已经打包预定了ASML今年所有的HighNA设备出货量。——