三星、ASML 合建研发中心预计 2027 年引进 High-NA EUV 设备

三星、ASML合建研发中心预计2027年引进High-NAEUV设备三星电子与ASML共同在韩国投资的半导体先进制程研发中心预计自2027年起引进High-NA极紫外光（EUV）设备。该研发中心是为High-NAEUV而兴建，总投资金额1兆韩元，最快于2027年引进设备，因需经过许可流程，最快将于2024年12月或2025年动工。三星表示，目前High-NAEUV仍处于审查推出时机的阶段，将根据市场状况及客户需求决定方向。

ASML庆祝Twinscan NXE:3800E Low-NA EUV Litho光刻设备首次安装成功

ASML庆祝TwinscanNXE:3800ELow-NAEUVLitho光刻设备首次安装成功"芯片制造商需要速度！第一台TwinscanNXE:3800E现已安装在一家芯片制造厂。凭借其新型晶圆平台，该系统将为先进芯片的印刷提供领先的生产率。我们正在将光刻技术推向新的极限。"TwinscanNXE:3800E是ASML0.33数值孔径（Low-NA）光刻扫描仪系列中的最新平台。相关信息很少，因为ASML公司尚未发布3800E产品页面。而前一个型号--TwinscanNXE:3600D支持3纳米和5纳米的EUV量产。ASML的路线图表明，TwinscanNXE:3800E是为生产2纳米和3纳米级技术的芯片而设计的。该公司最先进的高纳极致紫外线（EUV）芯片制造工具（HighNATwinscanEXE）预计成本约为3.8亿美元。上个月的报道指出，现有的低纳极致紫外线光刻系统"的价格可能为1.83亿美元。另一台低噪点EUV设备将于2026年发布--ASML的下一代TwinscanNXE:4000F型号将与新兴的（更昂贵的）高噪点解决方案并存。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1424138.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1424138.htm

针对中国芯片，美国敦促荷兰限制ASML对华提供设备维修服务

针对中国芯片，美国敦促荷兰限制ASML对华提供设备维修服务两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止其顶级芯片设备制造商阿斯麦(ASML)为中国的一些工具提供维修服务，此举正值美国借助盟友的力量来遏制中国尖端半导体业的发展。美国负责出口政策的商务部副部长埃斯特维兹定于下周一在当地会见荷兰政府官员和阿斯麦高管，讨论服务合同问题。一位知情人士表示，作为讨论的一部分，华盛顿还可能寻求增加限制接收荷兰设备的中国芯片制造工厂名单。荷兰外交部确认了即将举行的会议，但没有详细说明议程上的议题。“荷兰总是与我们的合作伙伴进行良好讨论。周一的官员会议就是一个例子。”荷兰外交部告诉路透社。中国驻华盛顿大使馆表示，中国反对美国“过度延伸”国家安全概念，并利用“借口胁迫其他国家加入对中国的技术封锁”。——

传荷兰最早下周发布新出口管制措施 限制ASML对华半导体设备出口

传荷兰最早下周发布新出口管制措施限制ASML对华半导体设备出口ASML副总裁兼首席商务官ChristopheFouquet表示，ASML不相信“脱钩”具有可能性，这样做将极度困难、极度昂贵。他们迟早要明白，半导体业的成功之道只有合作。他形容脱钩是“躲回一个幽暗角落自己做”，那是极具挑战性的概念。ASML成功的秘诀，就是与全球关键供应商维持长期合作。6月23日消息，据市场消息，荷兰政府计划最早下周发布新的出口管制措施，进一步限制光刻机巨头ASML产品对中国出口的限制。消息人士称，荷兰议员制定的出口管制规定，预计最早会在本月30日或7月首周公布，并将可被其他欧盟成员国作为蓝本。荷兰政府此前承诺在夏季前公布此类措施。早前有媒体指，预计荷兰不会点名中国或ASML，但相关措施旨在限制部分型号光刻机对中国的出口。据悉，荷兰和日本今年1月原则上同意加入美国的行动，限制向中国企业出口部分先进的半导体和晶片制造技术。值得一提的是，近期清华大学教授魏少军在广州南沙论坛上公布的数据显示，尽管国产芯片的价值份额从2013年的13%上升到2022年的41.4%，但作为“中国制造2025”倡议的一个关键目标，半导体自给率到2025年仍然无法达到70%。而且这41.4%的比例当中，外资在华半导体工厂的产能占据了较大一部分。数据显示，从2016年起，中国本土投资者所有的半导体公司的平均复合年增长率（CAGR）为14.7%。然而，来自中国台湾、韩国和其他地方的非中国大陆晶圆制造企业的复合年增长速度更高，达到了30%。魏少军教授表示，大陆半导体产业如果要继续突破，则需要展开“再全球化”。大陆可以基于国内超大市场需求的优势，继续扩大开放，广邀外资进入国内投资半导体，这应是国内朝向实现再全球化的路径。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1367079.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1367079.htm

ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”荷兰政府在3月8日表示，计划对半导体技术出口实施新的管制。据悉，决定是由荷兰贸易部长LiesjeSchreinemacher在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。信中还指出“荷兰认为有必要以最快的速度对这项技术进行监管，因此荷兰政府将会尽快出台一份国家管控清单”。尽管信中并没有指名道姓地点出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。ASML表示，由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于相关的公告、对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，预计这些管制措施不会对ASML已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCANNXT：1980Di，TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。此外，ASML指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求，并称该公司A长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。ASML此前预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右。ASML声明如下：荷兰政府于今日发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。需要重点指出的是：新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外，我们要指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后，ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1348611.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1348611.htm